致力于投影光刻機(jī)研發(fā)、生產(chǎn)、銷售與服務(wù)的上海微電子裝備有限公司(以下簡(jiǎn)稱SMEE),日前攜SSB300系列LED步進(jìn)投影光刻機(jī)亮相2014廣州國(guó)際LED展。首臺(tái)LED步進(jìn)投影光刻機(jī)的推出,不僅滿足了國(guó)內(nèi)LED廠家對(duì)更高品質(zhì)產(chǎn)品的
為了加快培育戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè),促進(jìn)上海集成電路高端裝備制造業(yè)的發(fā)展,按照《關(guān)于本市進(jìn)一步鼓勵(lì)軟件產(chǎn)業(yè)和集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展的若干政策》(滬府發(fā)〔2012〕26號(hào))的規(guī)定,為落實(shí)《上海市軟件和集成電路企業(yè)設(shè)計(jì)人員專
本報(bào)記者 陳 磊 賈 婧 創(chuàng)新驅(qū)動(dòng)發(fā)展 賀榮明清楚地記得,11年前,當(dāng)大部分專家、領(lǐng)導(dǎo)問(wèn)他,中國(guó)自主研發(fā)光刻機(jī)有決心嗎?“有!”當(dāng)時(shí)的回答并無(wú)一絲猶豫?!叭缃窕叵氪耸抡嬗行┖笈?,那時(shí)候勇氣勝過(guò)理智?!?/p>
解決“中國(guó)芯”的問(wèn)題必須要解決“中國(guó)制造”的問(wèn)題。集成電路制造技術(shù)融合了40多種科學(xué)技術(shù)及工程領(lǐng)域多種交叉學(xué)科和尖端制造技術(shù),對(duì)制造裝備、精密機(jī)械、精密儀器、自動(dòng)化、精細(xì)化工和新材料
全球最大的半導(dǎo)體制造設(shè)備供應(yīng)商荷蘭ASML今天重申,極紫外(EUV)光刻技術(shù)將在2015年如期投入商用,各大半導(dǎo)體廠商都在摩拳擦掌。ASML首席執(zhí)行官兼總裁Peter Wennink公開(kāi)表示:“NXE:3300B極紫外光刻掃描儀的整合
LED半導(dǎo)體照明網(wǎng)訊 致力于投影光刻機(jī)研發(fā)、生產(chǎn)、銷售與服務(wù)的上海微電子裝備有限公司(SHANGHAI Micro Electronic Equipment;SMEE),日前在臺(tái)參加半導(dǎo)體展,展出了用于封裝以及LED產(chǎn)業(yè)光刻機(jī)設(shè)備。此次半導(dǎo)
2013年3月19日至3月21日,全球最大規(guī)模的半導(dǎo)體展會(huì)——SEMICONChina2013在上海新國(guó)際博覽中心隆重舉行。 上海微電子裝備有限公司(以下簡(jiǎn)稱SMEE)重點(diǎn)展示了面向IC先進(jìn)封裝、3D-TSV制造領(lǐng)域的SSB500/20型步進(jìn)投影
上海微電子裝備有限公司的先進(jìn)封裝光刻機(jī)在11月10日閉幕的第14屆中國(guó)國(guó)際工業(yè)博覽會(huì)上榮獲金獎(jiǎng)。這家企業(yè)研制的封裝光刻機(jī)已經(jīng)達(dá)到國(guó)際同等先進(jìn)技術(shù)水平,累計(jì)申請(qǐng)發(fā)明專利180多項(xiàng),國(guó)際發(fā)明專利5項(xiàng)。這家公司成立十
在中芯國(guó)際北京公司生產(chǎn)車間的一角,偌大的廠房里擺滿了2人高的光刻機(jī)。據(jù)財(cái)報(bào)顯示,9個(gè)月前,中芯國(guó)際還處于凈虧損數(shù)千萬(wàn)元的狀態(tài),9個(gè)月后,公司的產(chǎn)能利用率卻已從65%飆升至95%,實(shí)現(xiàn)了2012年二季度凈利潤(rùn)約4500萬(wàn)
我國(guó)每年進(jìn)口額最大的單項(xiàng)商品是什么?是石油嗎?不是。是鐵礦石?更不是。是芯片!是集成電路芯片!我國(guó)每年進(jìn)口的集成電路芯片價(jià)值高達(dá)1200億美元。放眼世界,集成電路作為信息產(chǎn)業(yè)的基礎(chǔ)和核心,是國(guó)民經(jīng)濟(jì)和社會(huì)發(fā)展的
我國(guó)每年進(jìn)口額最大的單項(xiàng)商品是什么?是石油嗎?不是。是鐵礦石?更不是。是芯片!是集成電路芯片!我國(guó)每年進(jìn)口的集成電路芯片價(jià)值高達(dá)1200億美元。放眼世界,集成電路作為信息產(chǎn)業(yè)的基礎(chǔ)和核心,是國(guó)民經(jīng)濟(jì)和社會(huì)發(fā)展的
“極大規(guī)模集成電路制造裝備及成套工藝”重大專項(xiàng)旨在開(kāi)發(fā)集成電路關(guān)鍵制造裝備,掌握具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的成套先進(jìn)工藝及相關(guān)新材料技術(shù),打破我國(guó)高端集成電路制造裝備與工藝完全依賴進(jìn)口的狀況,帶動(dòng)相關(guān)產(chǎn)業(yè)的技術(shù)
關(guān)鍵字:片內(nèi)相位測(cè)量 模擬光刻機(jī)采用特殊照明方式的高/超高數(shù)值孔徑(NA)的193nm光刻機(jī)和相位移掩膜版(PSM),使得光刻分辨率的極限達(dá)到了32nm節(jié)點(diǎn)。不利的因素是掩膜的復(fù)雜度正在以指數(shù)級(jí)遞增,而業(yè)界又迫切需要
Molecular Imprints 獲提供先進(jìn)光刻機(jī)和薄片圖案形成服務(wù)的合約,為 G450c 計(jì)劃提供支援 Molecular Imprints 獲領(lǐng)先 IC 制造商授予首個(gè)450毫米光刻系統(tǒng)訂單 德克薩斯州奧斯丁2011年11月18日電 /美通社亞洲/ — 奈米
-- Molecular Imprints 獲提供先進(jìn)光刻機(jī)和薄片圖案形成服務(wù)的合約,為 G450c 計(jì)劃提供支援 -- Molecular Imprints 獲領(lǐng)先 IC 制造商授予首個(gè)450毫米光刻系統(tǒng)訂單 德克薩斯州奧斯丁2011年11月18日電 /美通社亞
日本尼康公司曾經(jīng)一度在高端光刻機(jī)市場(chǎng)上相比其對(duì)手荷蘭ASML公司有所失寵,不過(guò)最近由于高端光刻機(jī)市場(chǎng)需求相當(dāng)旺盛,尼康公司的光刻部門終于擺脫了兩年以來(lái)一直賠本經(jīng)營(yíng)的局面。 由于市場(chǎng)對(duì)尼康193nm液浸式光刻工
據(jù)內(nèi)存業(yè)者透露,由于著名光刻設(shè)備廠商ASML生產(chǎn)的NXT:1950i沉浸式光刻機(jī)目前供貨十分緊缺,因此臺(tái)系內(nèi)存芯片廠商收到所訂購(gòu)的這種設(shè)備的時(shí)間 可能會(huì)再后延12個(gè)月之久,由于NXT:1950i沉浸式光刻機(jī)對(duì)這些廠商轉(zhuǎn)移到38n
據(jù)內(nèi)存業(yè)者透露,由于著名光刻設(shè)備廠商ASML生產(chǎn)的NXT:1950i沉浸式光刻機(jī)目前供貨十分緊缺,因此臺(tái)系內(nèi)存芯片廠商收到所訂購(gòu)的這種設(shè)備的時(shí)間 可能會(huì)再后延12個(gè)月之久,由于NXT:1950i沉浸式光刻機(jī)對(duì)這些廠商轉(zhuǎn)移到38n
對(duì)于內(nèi)存廠商來(lái)說(shuō),已經(jīng)過(guò)去的2009年就像是一場(chǎng)噩夢(mèng)。而2010年情況則大有好轉(zhuǎn),可是今年內(nèi)存廠商卻遇上了芯片供貨緊缺,芯片產(chǎn)品投產(chǎn)準(zhǔn)備時(shí)間加長(zhǎng),產(chǎn)品價(jià)格居高不下的問(wèn)題。在本周三舉辦的Memcon會(huì)議上,一位分析師
對(duì)于內(nèi)存廠商來(lái)說(shuō),已經(jīng)過(guò)去的2009年就像是一場(chǎng)噩夢(mèng)。而2010年情況則大有好轉(zhuǎn),可是今年內(nèi)存廠商卻遇上了芯片供貨緊缺,芯片產(chǎn)品投產(chǎn)準(zhǔn)備時(shí)間加長(zhǎng),產(chǎn)品價(jià)格居高不下的問(wèn)題。在本周三舉辦的Memcon會(huì)議上,一位分析師