回顧國內平板顯示行業(yè)的10年發(fā)展，無論是此前CRT、PDP與LCD之爭，還是現(xiàn)在新型顯示技術OLED與液晶技術之爭，我們都可以看到新技術正逐漸涌現(xiàn)。"顯示器行業(yè)正處在技術變革和需求變革的時代。"應用材料公司平板顯示CVD產品事業(yè)部總經理肖勁松這樣講道。

其實我們在各大重量級的展會上，如美國的CES，德國的IFA等等都可以感受到顯示技術發(fā)展之迅速。而2014年CES展會上曲面、4k、OLED成為關注的焦點。當1080P正在逐漸走向主流時，4K顯示時代又悄然來臨，與此同時8K顯示又躍躍欲試。這些現(xiàn)象歸結在于人們對更高視覺體驗的追求一直沒有停歇，我們正在迎接一個高解析度顯示時代。為應對全新的技術挑戰(zhàn)，客觀上需要面板廠商與上游設備和材料供應商緊密合作。

應用材料公司作為全球最大的半導體設備及服務供應商，同時在顯示器領域不斷開發(fā)新技術，推動顯示技術走向未來。由于在平面顯示器制造電漿強化化學氣相沉積(PECVD)技術領域的突出貢獻，應用材料榮獲了2013年度IEEE企業(yè)創(chuàng)新獎。IEEE是全球最大的專業(yè)協(xié)會，以促進人類科技躍進為宗旨。3月20日，應用材料公司平板顯示CVD產品事業(yè)部總經理肖勁松以及PVD產品事業(yè)部研發(fā)總監(jiān)Marcus Bender博士為我們分享了應用材料公司在高解析度顯示時代的TFT和TFE解決方案。

　　一、金屬氧化物TFT解決方案

金屬氧化物對于設備穩(wěn)定性及顯示色差（Mura）要求比較高，同時金屬氧化物主要應用在高清晰度的移動設備和OLED TV上面，對于顆粒度要求更高，需要通過顆粒度的控制來提高良品率。

應用材料公司的CVD采用雙層膜結構，在傳統(tǒng)氮化硅基礎上采用二氧化硅膜層。二氧化硅含氫量比較低，這樣就能達到很好的均勻性。而在PVD方面通過提升IGZO的膜厚以及均勻性，同時采用地顆粒度的系統(tǒng)設計，來避免金屬氧化物色差（Mura）的產生。正是基于在CVD及PVD方面的獨特工藝與設計，目前全球主要的廠商都采用應用材料公司的設備。

具體來講，CVD采用空心陰極梯度遞減技術（HCG），在大面積玻璃表面形成均勻的等離子體，保證大規(guī)模化學沉積的均勻性。另外采用自上而下的RPSC工藝（遠程等等離子體清洗），提升均勻性。通過這些設計，可以達到第十代的膜厚均勻性。而在PVD方面，相對于傳統(tǒng)工藝來說，采用了旋轉陰極的解決方案。旋轉靶可以增加氣流均勻性，對于膜層均勻性提升有很大的幫助。同時旋轉靶能夠使結瘤和再沉積最小化，相對于傳統(tǒng)平面靶在缺陷控制上有很大的提升。

　　二、LTPS（低溫多晶硅）TFT解決方案

高分辨率移動顯示時代，隨著相似體積的減小，OLED和LCD屏幕都需要采用雙電容技術。對于CVD及PVD均勻性和低顆粒度特性都提出了新的要求。應用材料公司是業(yè)界唯一一家能夠提供從5.5代、6代到8.5代生產設備解決方案的企業(yè)。在PVD均勻性方面，應用材料公司在2013年為10%到8%，2014年達到5%，2015年將達到3%。

在CVD方面2014年將重點研發(fā)鎖閥門減震及零沖擊狹縫閥技術，來盡可能降低震動帶來的副產物沉積。而在PVD方面，繼續(xù)優(yōu)化薄膜均勻性。通過搖擺和SSM（定向對角濺射）、切角加工實現(xiàn)邊緣無膜區(qū)、材料分段數(shù)等方式來提高薄膜的均勻性。

　　三、薄膜封裝解決方案

OLED薄膜封裝對于更可靠、柔軟的阻隔層，減少顆粒，邊緣階梯覆蓋及MASK對準精度提出新的挑戰(zhàn)。為此，應用材料公司提出全新的全CVD膜系結構。在薄膜封裝過程中采用氮化硅做阻水層提高阻水性；采用光學對準掩膜板保證出片率；采用并行流程提高開機率。

另據(jù)應用材料中國區(qū)銷售經理方甦棣介紹，2013年中國占全市電視機市場的26%，同時中國智能手機也占全球32%。中國正在成長為全球最大的顯示屏生產國以及顯示產業(yè)投資國，并且對于新型顯示技術的研發(fā)和接受度逐漸提升。應用材料公司已在國內市場深耕30年，具有很好的"本土化"優(yōu)勢，也將與中國客戶更加緊密合作，加速新技術導入與新產品上市。