十大TFT LCD制程技術(shù)將徹底改變TFT-LCD面板產(chǎn)業(yè)
[導(dǎo)讀]DisplaySearch正式發(fā)行全球首份完整解析TFT LCD最新制程技術(shù)的DisplaySearch TFT LCD制程技術(shù)藍圖趨勢報告（TFT LCD Process Roadmap Report）。該份報告結(jié)合DisplaySearch日本、韓國、臺灣的所有TFT LCD分析師針對2
DisplaySearch正式發(fā)行全球首份完整解析TFT LCD最新制程技術(shù)的DisplaySearch TFT LCD制程技術(shù)藍圖趨勢報告（TFT LCD Process Roadmap Report）。該份報告結(jié)合DisplaySearch日本、韓國、臺灣的所有TFT LCD分析師針對2012年將會影響面板產(chǎn)業(yè)的十大重要制程技術(shù)進行全面性的介紹與分析，是一份業(yè)界最為完整的技術(shù)報告。
目前面板產(chǎn)業(yè)面臨獲利與市場成長瓶頸，面板廠、設(shè)備廠商、材料廠商不斷地在制程與產(chǎn)品技術(shù)上進行改良，并朝兩大方向進行--針對有成長潛力的應(yīng)用提升面板的附加價值，針對成熟的應(yīng)用不斷降低成本。十大重要制程技術(shù)的發(fā)展，包含LTPS(低溫多晶硅)、IGZO(金屬氧化物半導(dǎo)體)、Optical Alignment (光配向)、Advanced Resolution Exposure (高分辨率曝光)、 Advanced LC Mode (新液晶配方)、SHA (高開口率)、Low Resistance Metalization (低阻抗性金屬材料)、COA (Color Filter On Array)、Thin Mother Glass (薄玻璃基板)、BM Width Reduction (黑色矩陣寬幅縮減)等等，將會為2012年及以后的面板產(chǎn)業(yè)帶來巨大的變化。DisplaySearch在DisplaySearch TFT LCD制程技術(shù)藍圖趨勢報告（TFT LCD Process Roadmap Report）中針對這十大趨勢中各個技術(shù)的發(fā)展現(xiàn)況與展望、各家面板廠的進度與預(yù)測、以及對未來發(fā)展的關(guān)鍵提供全面的詳細的分析。
表一、2012 年將改變面板產(chǎn)業(yè)的十大制程技術(shù)與其長遠發(fā)展
另外, DisplaySearch在該報告中指出, 智能手機和平板電腦爆發(fā)式成長，使得LTPS（low temperature polysilicon低溫多晶硅技術(shù)）和IGZO（indium gallium zinc oxide組成的非結(jié)晶氧化物半導(dǎo)體技術(shù)）等生產(chǎn)高分辨率顯示器技術(shù)更為重要。這些TFT技術(shù)采用高移動速率半導(dǎo)體材料以減小TFT維度，提高光穿透率。分辨率超過每英寸230像素(230 PPI)的液晶面板，如蘋果的Retina Display，高光穿透率可以使能耗降到最低，使可攜式設(shè)備可長時間使用而不用充電。
根據(jù)NPD DisplaySearch TFT LCD制程技術(shù)藍圖趨勢報告（TFT LCD Process Roadmap Report）指出，2012年高遷移率TFT-LCD背板產(chǎn)量預(yù)計將提高150%，從2011年的560萬平方米迅速發(fā)展到1千410萬平方米。如此高成長的驅(qū)動力主要在于許多五代線和更大的低溫多晶硅(LTPS)產(chǎn)線于2012年開始投入生產(chǎn)，且夏普、樂金顯示和三星現(xiàn)有的產(chǎn)線也投入生產(chǎn)金屬氧化物(IGZO)。
圖一、2008-2015 LTPS和IGZO高分辨率背板的產(chǎn)量 （單位：千平方米）
“智能手機、平板電腦和成本降低將成為2012年平板顯示產(chǎn)業(yè)快速發(fā)展的關(guān)鍵驅(qū)動力?！盢PD DisplaySearch制造領(lǐng)域研究副總Charles Annis表示，“由于平板顯示獲利壓力大，面板廠商轉(zhuǎn)而投入快速發(fā)展的可攜式應(yīng)用，并積極尋求各種可降低成本的策略。因此，高遷移率背板、光配向(optical alignment)、高分辨率曝光技術(shù)(high resolution lithography)和先進的液晶模塊組合預(yù)計將在明年成為最重要的生產(chǎn)技術(shù)?！?br>
所有的技術(shù)都在于如何提高面板的光穿透率。一般而言只有4-9%的背光能夠穿過到前端顯示屏，為達亮度指標(biāo)會因此要求高強度的光源；另外，背光模塊是大尺寸液晶模塊中成本占比較高的單一組件。因此，通過提高光穿透率，面板商就可以降低能耗和成本。
“廠商們期待真正好的新技術(shù)是能夠提高光穿透率同時不降低良率。面板商和其供貨商都在努力開發(fā)生產(chǎn)技術(shù)，力爭取得競爭優(yōu)勢以提高2012年利潤?！盇nnis補充到，“目前看來，像金屬氧化物(IGZO)這樣的技術(shù)，一方面可提高面板性能一方面可降低成本，將使面板商獲取高度競爭優(yōu)勢，將有機會成為未來平板顯示產(chǎn)業(yè)制造新標(biāo)準(zhǔn)?！?br>
NPD DisplaySearch新出版TFT LCD制程技術(shù)藍圖趨勢報告（TFT LCD Process Roadmap Report），報告針對FPD新進生產(chǎn)技術(shù)做了獨到且深入的分析。報告按制造工藝流程進行技術(shù)探討，分析工序流程和制造商采用新技術(shù)現(xiàn)狀，對57種生產(chǎn)技術(shù)未來的應(yīng)用進行預(yù)測并分析相應(yīng)的優(yōu)點、機會與挑戰(zhàn)等。同時報告對目前到2016年液晶顯示器的性能指針也做了分析預(yù)測。
目前面板產(chǎn)業(yè)面臨獲利與市場成長瓶頸，面板廠、設(shè)備廠商、材料廠商不斷地在制程與產(chǎn)品技術(shù)上進行改良，并朝兩大方向進行--針對有成長潛力的應(yīng)用提升面板的附加價值，針對成熟的應(yīng)用不斷降低成本。十大重要制程技術(shù)的發(fā)展，包含LTPS(低溫多晶硅)、IGZO(金屬氧化物半導(dǎo)體)、Optical Alignment (光配向)、Advanced Resolution Exposure (高分辨率曝光)、 Advanced LC Mode (新液晶配方)、SHA (高開口率)、Low Resistance Metalization (低阻抗性金屬材料)、COA (Color Filter On Array)、Thin Mother Glass (薄玻璃基板)、BM Width Reduction (黑色矩陣寬幅縮減)等等，將會為2012年及以后的面板產(chǎn)業(yè)帶來巨大的變化。DisplaySearch在DisplaySearch TFT LCD制程技術(shù)藍圖趨勢報告（TFT LCD Process Roadmap Report）中針對這十大趨勢中各個技術(shù)的發(fā)展現(xiàn)況與展望、各家面板廠的進度與預(yù)測、以及對未來發(fā)展的關(guān)鍵提供全面的詳細的分析。
表一、2012 年將改變面板產(chǎn)業(yè)的十大制程技術(shù)與其長遠發(fā)展
另外, DisplaySearch在該報告中指出, 智能手機和平板電腦爆發(fā)式成長，使得LTPS（low temperature polysilicon低溫多晶硅技術(shù)）和IGZO（indium gallium zinc oxide組成的非結(jié)晶氧化物半導(dǎo)體技術(shù)）等生產(chǎn)高分辨率顯示器技術(shù)更為重要。這些TFT技術(shù)采用高移動速率半導(dǎo)體材料以減小TFT維度，提高光穿透率。分辨率超過每英寸230像素(230 PPI)的液晶面板，如蘋果的Retina Display，高光穿透率可以使能耗降到最低，使可攜式設(shè)備可長時間使用而不用充電。
根據(jù)NPD DisplaySearch TFT LCD制程技術(shù)藍圖趨勢報告（TFT LCD Process Roadmap Report）指出，2012年高遷移率TFT-LCD背板產(chǎn)量預(yù)計將提高150%，從2011年的560萬平方米迅速發(fā)展到1千410萬平方米。如此高成長的驅(qū)動力主要在于許多五代線和更大的低溫多晶硅(LTPS)產(chǎn)線于2012年開始投入生產(chǎn)，且夏普、樂金顯示和三星現(xiàn)有的產(chǎn)線也投入生產(chǎn)金屬氧化物(IGZO)。
圖一、2008-2015 LTPS和IGZO高分辨率背板的產(chǎn)量 （單位：千平方米）
“智能手機、平板電腦和成本降低將成為2012年平板顯示產(chǎn)業(yè)快速發(fā)展的關(guān)鍵驅(qū)動力?！盢PD DisplaySearch制造領(lǐng)域研究副總Charles Annis表示，“由于平板顯示獲利壓力大，面板廠商轉(zhuǎn)而投入快速發(fā)展的可攜式應(yīng)用，并積極尋求各種可降低成本的策略。因此，高遷移率背板、光配向(optical alignment)、高分辨率曝光技術(shù)(high resolution lithography)和先進的液晶模塊組合預(yù)計將在明年成為最重要的生產(chǎn)技術(shù)?！?br>
所有的技術(shù)都在于如何提高面板的光穿透率。一般而言只有4-9%的背光能夠穿過到前端顯示屏，為達亮度指標(biāo)會因此要求高強度的光源；另外，背光模塊是大尺寸液晶模塊中成本占比較高的單一組件。因此，通過提高光穿透率，面板商就可以降低能耗和成本。
“廠商們期待真正好的新技術(shù)是能夠提高光穿透率同時不降低良率。面板商和其供貨商都在努力開發(fā)生產(chǎn)技術(shù)，力爭取得競爭優(yōu)勢以提高2012年利潤?！盇nnis補充到，“目前看來，像金屬氧化物(IGZO)這樣的技術(shù)，一方面可提高面板性能一方面可降低成本，將使面板商獲取高度競爭優(yōu)勢，將有機會成為未來平板顯示產(chǎn)業(yè)制造新標(biāo)準(zhǔn)?！?br>
NPD DisplaySearch新出版TFT LCD制程技術(shù)藍圖趨勢報告（TFT LCD Process Roadmap Report），報告針對FPD新進生產(chǎn)技術(shù)做了獨到且深入的分析。報告按制造工藝流程進行技術(shù)探討，分析工序流程和制造商采用新技術(shù)現(xiàn)狀，對57種生產(chǎn)技術(shù)未來的應(yīng)用進行預(yù)測并分析相應(yīng)的優(yōu)點、機會與挑戰(zhàn)等。同時報告對目前到2016年液晶顯示器的性能指針也做了分析預(yù)測。
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