新思科技公司與世界領先的半導體代工企業(yè)之一中芯國際集成電路制造有限公司今日宣布：從即日起推出其40納米RTL-to-GDSII參考設計流程5.0版本。此款經過生產驗證的流程借助Synopsys的完整工具套件，將多樣化的自動化低功耗和高性能功能整合在其中，給中芯國際的客戶帶來了目前芯片設計所需要的差異化性能和功耗結果。
此參考流程是中芯國際與Synopsys專業(yè)服務部共同合作的成果，它充分運用Synopsys在先進芯片設計方法學領域的經驗和專業(yè)知識。該參考流程具有新的高性能設計技術，包括用以提高系統(tǒng)級芯片（SoC）性能和響應能力的自動時鐘網格綜合技術，以及可使設計師快速實現設計收斂，避免重新設計、從頭做起的門陣列工程更改指令（ECO）方案。該參考流程還包括對低功耗技術的支持，諸如能兼顧降低功率的時鐘樹綜合、以及由IEEE1801標準低功耗設計意圖驅動的電源開關控制與物理優(yōu)化等技術。
設計師渴求一種能夠同時滿足高性能和低功耗要求的參考流程，中芯國際設計服務副總裁湯天申說道。隨著SMIC-Synopsys參考流程5.0的發(fā)布，我們將使IC設計師能夠通過結合中芯國際的40納米工藝技術和Synopsys的領先技術的設計解決方案，加速他們從設計通向制造的過程?？蛻魝冋趯ふ沂顾麄兊脑O計能夠滿足特有性能目標與需求的工具與方法，Synopsys公司企業(yè)營銷和戰(zhàn)略聯盟副總裁RichGoldman說道。通過我們與中芯國際的攜手合作，我們能夠為共同的客戶提供一個經過認證的參考流程，以及直接通向高性能和低功耗的、專為中芯國際的40納米低功耗工藝量身訂做的設計解決方案。