晶圓代工 明年產(chǎn)能過(guò)剩
市調(diào)機(jī)構(gòu)IC Insights最研究報(bào)告提出示警,認(rèn)為今年大型晶圓代工與整合元件(IDM)廠(chǎng)資本支出維持高峰,恐導(dǎo)致明年底產(chǎn)能過(guò)剩危機(jī),這是近期看空半導(dǎo)體的最新報(bào)告。
IC Insights統(tǒng)計(jì),2011年晶圓代工與整合元件大廠(chǎng)資本支出仍比去年增加43%,達(dá)197億美元,2010年則年增146%,來(lái)到138億美元,這兩年平均資本支出與過(guò)去五年相比,僅減少5%。
IC Insights認(rèn)為,連續(xù)兩年的擴(kuò)張資本支出,緊隨而來(lái)的就是產(chǎn)能過(guò)剩,現(xiàn)在的DRAM與Flssh就是最鮮明的例子。
該機(jī)構(gòu)僅說(shuō)明,2008年與2009年資本支出不大,但因應(yīng)無(wú)晶圓代工模式擴(kuò)大,這兩年提高資本支出合理。若明年產(chǎn)能過(guò)剩,最先沖擊者,應(yīng)該是單位晶圓產(chǎn)值低的晶圓代工廠(chǎng),IC Insights并沒(méi)有個(gè)別點(diǎn)出是哪一家晶圓代工業(yè)者。
IC Insights僅個(gè)別點(diǎn)出,臺(tái)積電今年資本支出78億美元,比去年增加32%;全球晶圓(Globalfoundries)今年資本支出54億美元,更比去年大增一倍。
至于聯(lián)電今年與去年持平,約18億美元;三星今年半導(dǎo)體資本支出92億美元,其中有一部份將用來(lái)擴(kuò)建新晶圓代工廠(chǎng)。