該公司此前采用千歲事業(yè)所的150mm晶圓生產線試制出了加速度傳感器、壓力傳感器及反射鏡等MEMS元件。在制造壓力傳感器及反射鏡時,采用了面向 MEMS導入的高速硅深反應離子蝕刻(Deep RIE:deep reactive ion etching)裝置。
據介紹,MEMS的受托加工示例主要包括基于表面微加工技術的元件擴散、成膜及蝕刻等部分加工。表面微加工是指在層疊于硅底板的薄膜上形成驅動部分的 方法,與半導體量產生產線具有出色的整合性。該公司受托的是對犧牲層(在驅動部分及底板間形成,然后除去的膜層)及形成驅動部分的薄膜的圖形進行加工。
該公司的代工服務還包括普通半導體量產線所不支持的服務內容??芍谱餮谀#С趾穸葟?65~700μm不等的多種晶圓等特點對于委托MEMS加工的 企業(yè)及研究機構來說正好是需要的。可加工的線寬為0.35~2.0μm。
不過,“在整個元件都受托加工時,受托企業(yè)保證的范圍可能擴大到元件的驅動部分。因此,只根據顧客的委托書進行部分加工”(三美電機),目前尚無計劃 受托生產整個MEMS元件。其原因估計是可避免MEMS代工服務中存在的最大課題,即涉及整個元件受托加工時,無法明確顧客及公司自身責任范圍的問 題。(記者:加藤 伸一)