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臺(tái)積電與法CEA-Leti合作多重電子束微影技術(shù)

時(shí)間：2009-07-07 12:26:36

關(guān)鍵字：臺(tái)積電電子 TI CE

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[導(dǎo)讀]7月7日消息，臺(tái)積電6日宣布，已與法國(guó)半導(dǎo)體研究機(jī)構(gòu)CEA-Leti簽訂合作協(xié)議，將參與由CEA-Leti主持的IMAGINE產(chǎn)業(yè)研究計(jì)劃，就半導(dǎo)體制造中的無(wú)光罩微影技術(shù)進(jìn)行合作。臺(tái)積電指出，IMAGINE研究計(jì)劃為期3年，參與的公

7月7日消息，臺(tái)積電6日宣布，已與法國(guó)半導(dǎo)體研究機(jī)構(gòu)CEA-Leti簽訂合作協(xié)議，將參與由CEA-Leti主持的IMAGINE產(chǎn)業(yè)研究計(jì)劃，就半導(dǎo)體制造中的無(wú)光罩微影技術(shù)進(jìn)行合作。

臺(tái)積電指出，IMAGINE研究計(jì)劃為期3年，參與的公司皆可取得無(wú)光罩微影架構(gòu)供IC制造使用，也可以藉由MAPPER公司的技術(shù)提高生產(chǎn)效率。這項(xiàng)研究計(jì)劃涵蓋了設(shè)備評(píng)估、制像與制程整合、數(shù)據(jù)處理、原型制作與成本分析等全方位的內(nèi)容。

臺(tái)積電研發(fā)副總經(jīng)理孫元成表示，臺(tái)積電一直推動(dòng)具成本效益的微影技術(shù)，無(wú)光罩微影技術(shù)是潛在的解決方案之一；之前臺(tái)積電已宣布與MAPPER公司一同開(kāi)發(fā)多重電子束微影技術(shù)，供22奈米及更先進(jìn)的制程使用，藉由參與CEA-Leti的IMAGINE研究計(jì)劃，希望與半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)結(jié)盟，加速這項(xiàng)技術(shù)在IC制造領(lǐng)域的發(fā)展與推廣。

CEA-Leti首席執(zhí)行官Laurent Malier表示，微影技術(shù)是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的一項(xiàng)主要挑戰(zhàn)，采無(wú)光罩的解決方案可提供彈性與得到機(jī)臺(tái)的成本優(yōu)勢(shì)，與MAPPER公司相結(jié)合，就看到了提升產(chǎn)業(yè)生產(chǎn)效率的可能性，而臺(tái)積電的加入不僅將強(qiáng)化對(duì)制造可行性的評(píng)估，也帶領(lǐng)無(wú)光罩微影技術(shù)邁向發(fā)展進(jìn)程的下一步，成為可運(yùn)用在22奈米制程的解決方案。

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