IBM日前宣布為晶圓代工廠客戶提供45nm絕緣體上硅（SOI）技術，包括來自ARM的SOI標準芯片庫。IBM在美國的SOI制造產能將得到來自特許半導體45nmSOI工藝產能的補充。
IBM解決方案的項目經理DuncanNeedler表示，為代工提供SOI技術主要針對尋求維持高性能并降低功耗的方法的客戶。典型的應用包括存儲器系統(tǒng)和數(shù)字電視用芯片。
IBM展示了一個45nmSOIASIC（特定用途集成電路）方法，在此采用IBM定義的EDA工具包，IBM完成了大部分邏輯設計的后段、物理執(zhí)行工作。采用IBM的SOI方案，客戶能夠使用商業(yè)化的IP庫和EDA工具。ASIC方法使得客戶盡可能地降低芯片尺寸，同時獲得預期的成品率。晶圓代工方法提供客戶內部設計、成品率提升和封裝能力的整套方案。
與IBM45nm體工藝代工方法相比，SOI工藝更明顯地降低了功耗，在散熱問題嚴重的空間有限的系統(tǒng)中，這表現(xiàn)的更加理想。同時，SOI具有更低的軟件差錯率和更好的晶體管間絕緣性。
Needler表示，SOI成本正在下降，SOI晶圓價格很大程度上依賴于產量?！癝OI產品的成本正在縮減，與體硅工藝成本在一代或兩代內將達到一致。”他補充說，“目前SOI晶圓較昂貴，這不是問題，但他們正逐漸穩(wěn)步下降?！?/P>
競爭者一直在爭論，SOI的設計復雜性增加了IC設計整體成本。Needler表示，通過ARM的SOI庫可以極大地消除設計復雜性，SOI庫包括標準芯片和其他宏運算。ARM也在與法國Soitec共同開發(fā)IP庫。Soitec最近在新加坡新建了一個SOI晶圓廠。
通過使用幾家主要供應商的標準EDA工具和ARM庫，設計小組能夠很快地加速SOI設計技術。IBM為客戶提供了3個小時的SOI設計技術培訓課程。
IBM經理還討論了他們的很多客戶將跳過45/40nm體硅工藝，而直接進入32nm節(jié)點，在32nm上IBM提供高k/金屬柵技術。Needler表示，32nm高k技術很適合需要降低漏電流的應用，而45nmSOI技術提供了可媲美的性能，有源功耗比體硅工藝降低了40%。
SemicoResearchCorp.管理JoanneItow表示，“目前為止，兩個主要的障礙制約SOI的大規(guī)模應用——代工產能和IP庫的有效性?！蓖ㄟ^合作，ARM和IBM在突破障礙上邁出了第一步，并使得SOI成為網絡、存儲、通信和消費應用上可行的替代方案。
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