作為全球第一光刻機(jī)供應(yīng)商，荷蘭ASML(阿斯麥)今天公布了2021年第二季度財(cái)報(bào)。

當(dāng)季，ASML凈銷(xiāo)售額40億歐元，毛利率50.9%，凈收入10億歐元，凈預(yù)訂額83億歐元，其中EUV極紫外光刻機(jī)就有49億歐元，而總的積壓訂單金額已達(dá)175億歐元。

ASML在財(cái)報(bào)中還披露，第一臺(tái)全新TWINSCAN NXE:3600D EUV光刻機(jī)系統(tǒng)已經(jīng)交付給客戶，相比之前的NXE:3400C生產(chǎn)力提高了15-20%，覆蓋率(套刻精度)提高了約30%。

不過(guò)，ASML未透露接收客戶是哪一家。

ASML還表示，正努力增加EUV光刻機(jī)在存儲(chǔ)行業(yè)的量產(chǎn)應(yīng)用，計(jì)劃協(xié)助三個(gè)DRAM內(nèi)存芯片客戶在未來(lái)的工藝節(jié)點(diǎn)中導(dǎo)入EUV。

ASML EUV光刻機(jī)目前還是第一代產(chǎn)品，EUV光源波長(zhǎng)13.5nm左右，物鏡NA數(shù)值孔徑0.33，并發(fā)展了一系列型號(hào)。

最早量產(chǎn)出廠的是NXE:3400B，產(chǎn)能有限，晶圓產(chǎn)能只有125PWH，目前的出貨主力是NXE:3400C，產(chǎn)能提升到135WPH，而最新的NXE:3600D產(chǎn)能進(jìn)一步提升到160WPH，價(jià)格據(jù)說(shuō)也達(dá)到了1.45億美元(約合人民幣9.38億元)。

第二代EUV光刻機(jī)將會(huì)是NXE:5000系列，物鏡NA提升到0.55，進(jìn)一步提高光刻精度，但原計(jì)劃2023年問(wèn)世，現(xiàn)在推遲到2025-2026年，而價(jià)格預(yù)計(jì)將突破3億美元。

第三季度，ASML預(yù)計(jì)凈銷(xiāo)售額52-54億歐元，毛利率51-53%。

EUV光刻機(jī)已經(jīng)成為芯片制造的支柱，臺(tái)積電和三星等晶圓廠這幾年不斷追逐5nm和3nm等先進(jìn)工藝，本身就是EUV光刻機(jī)采購(gòu)大戶，再加上現(xiàn)在這幾大晶圓廠紛紛擴(kuò)產(chǎn)建廠，無(wú)疑又加大了對(duì)EUV光刻機(jī)的需求。

而現(xiàn)在除了晶圓廠等邏輯廠商之外，存儲(chǔ)廠商也逐漸來(lái)到光刻機(jī)采用階段，甚至與ASML簽下多年的大單。EUV光刻機(jī)的爭(zhēng)奪戰(zhàn)，逐漸白熱化。

晶圓廠擁抱EUV光刻機(jī)，英特爾加倍重視

多個(gè)研究表明，在三大晶圓廠中，英特爾是迄今為止購(gòu)買(mǎi)的 EUV工具相對(duì)較少，并且尚未開(kāi)始購(gòu)買(mǎi)這些極其昂貴、交貨時(shí)間非常長(zhǎng)、供應(yīng)受限的系統(tǒng)。

據(jù)Mizuho Securities Asia Limited的一份關(guān)于ASML的報(bào)告，其預(yù)測(cè)了EUV客戶臺(tái)積電、三星、英特爾的購(gòu)買(mǎi)情況，如下圖所示，相對(duì)來(lái)說(shuō)，英特爾處于落后地位，這與其在工藝節(jié)點(diǎn)的落后有關(guān)。

ASML 宣布，其在 2020 年出貨了31臺(tái)EUV工具。雖然這表明 EUV 現(xiàn)已達(dá)到成熟，但仍低于其 35 臺(tái)出貨計(jì)劃。然而，未能達(dá)標(biāo)的部分原因是英特爾有據(jù)可查的 7nm 延遲：這減少了 ASML四個(gè)單位的出貨量。

據(jù)了解，只有那些 7nm 或以下的晶圓廠才真正需要基于 EUV光刻機(jī)。

而英特爾在3月份宣布，將從2023年開(kāi)始使用其7nm工藝制造用于客戶端PC和高端服務(wù)器(開(kāi)發(fā)代號(hào)為Meteor Lake和Granite Rapids)的處理器。

英特爾將斥資 200 億美元在亞利桑那州建立兩個(gè)領(lǐng)先的制造工廠，這將是“EUV 能力”，這意味著他們將能夠生產(chǎn)7nm 及以下的芯片。通過(guò)引入EUV光刻技術(shù)，同時(shí)將制造外包給臺(tái)積電來(lái)爭(zhēng)取時(shí)間，這似乎是試圖重建公司內(nèi)部開(kāi)發(fā)和制造體系的嘗試。

而在日前參加摩根大通的會(huì)議時(shí)，CEO基辛格又表示，Intel將全面擁抱EUV光刻工藝，大家能夠看到Intel對(duì)EUV工藝進(jìn)行多代重大改進(jìn)，也能看到晶體管級(jí)別的重大改進(jìn)。這也是因?yàn)橛⑻貭杹?lái)到7nm之后，將有更多晶圓(芯片中的層)使用 EUV 進(jìn)行曝光。

而目前只有十幾個(gè)最關(guān)鍵的層使用 EUV 進(jìn)行曝光，這就是英特爾“全面擁抱 EUV”的意思。

臺(tái)積電和三星兩家一直在追逐先進(jìn)工藝，在EUV光刻機(jī)上的布局要多于英特爾。而且臺(tái)積電和三星均將在美國(guó)建廠，這些工廠也都需要EUV光刻機(jī)。

據(jù)wccftech的報(bào)道，臺(tái)積電的潔凈室供應(yīng)商江西漢唐系統(tǒng)集成有限公司在4月份發(fā)表的聲明中，提供了有關(guān)臺(tái)積電美國(guó)芯片廠設(shè)備進(jìn)展的一些初步細(xì)節(jié)。該工廠將建在亞利桑那州，也是英特爾的所在地。漢唐董事長(zhǎng)陳朝水先生概述了該工廠的合同將于7月完成，設(shè)備安裝將于明年9月開(kāi)始。

fanuan System Technology是臺(tái)積電為荷蘭ASML極紫外(EUV)光刻機(jī)生產(chǎn)組件的合作伙伴，該公司也將派工程師前往亞利桑那州，預(yù)計(jì)該工廠的營(yíng)收將從明年第三季度開(kāi)始。可想，這家工廠也要采購(gòu)EUV光刻機(jī)。

根據(jù)臺(tái)積電上個(gè)月在其技術(shù)研討會(huì)上分享的詳細(xì)信息，該晶圓廠在全球擁有所有這些機(jī)器的一半，并負(fù)責(zé)去年所有基于 EUV 的芯片的 65%的出貨量。