要知道，ASML是全球唯一一家量產(chǎn)EUV光刻機(jī)的。臺(tái)積電、三星、Intel的7nm、5nm，以及未來的3nm、2nm都要依賴EUV光刻機(jī)，單臺(tái)售價(jià)超過1億美元，成本極高。

目前，ASML的EUV光刻機(jī)使用的還是第一代，EUV光源波長在13.5nm左右，物鏡的NA數(shù)值孔徑是0.33，發(fā)展了一系列型號。

其中，最早量產(chǎn)出廠的是NXE:3400B，其產(chǎn)能有限，一小時(shí)生產(chǎn)晶圓是125PWH；目前的出貨主力是NXE:3400C，產(chǎn)能提升到了135WPH；今年年底還有NXE:3600D系列出貨，產(chǎn)能再進(jìn)一步提升到160WPH，不過價(jià)格也會(huì)上漲到1.45億美元。

現(xiàn)在第一代的EUV光刻機(jī)NA指標(biāo)太低，第二代EUV光刻機(jī)會(huì)是NXE:5000系列，其物鏡的NA將提升到0.55，進(jìn)一步提高光刻精度，半導(dǎo)體工藝突破1nm工藝就要靠下一代光刻機(jī)了。

然而，NA 0.55的二代EUV光刻機(jī)沒那么容易，原本預(yù)計(jì)最快2023年問世，但最新傳聞稱NXE:5000系列跳票，而且一下子就跳票三年，要到2025-2026年才有可能問世了。

（資料圖）

不僅時(shí)間延期，二代EUV光刻機(jī)的價(jià)格也會(huì)大漲，預(yù)計(jì)將會(huì)達(dá)到3億美元，是現(xiàn)有EUV光刻機(jī)的2-3倍。這意味著，未來的芯片工藝成本極其昂貴，哪怕真能做到1nm工藝，那高昂的成本也會(huì)讓大多數(shù)公司退而卻步。

如果照此發(fā)展下去，估計(jì)1nm工藝的大客戶就剩下蘋果自己了。