在這篇文章中，小編將對光譜分析儀的投射測定以及影響光譜分析儀測量的內在因素的相關內容和情況加以介紹以幫助大家增進對光譜分析儀的了解程度，和小編一起來閱讀以下內容吧。

一、光譜分析儀引言

光譜分析儀，是一種用于測量發(fā)光體的輻射光譜，即發(fā)光體本身的指標參數(shù)的儀器。光譜分析就是從識別某些元素的特征光譜來鑒別元素的存在(定性分析)，而這些光譜線的強度又與試樣中該元素的含量有關，因此又可利用這些譜線的強度來測定元素的含量(定量分析)。

二、光譜分析儀的投射測定

光譜儀的透射率或它的效率可用輔助單色儀裝置來測定。在可見和近紫外實現(xiàn)這些測量沒有任何困難。測量通過第一個單色儀的光通量，緊接著測量通過兩個單色儀的光通量，以這種方式來確定第二個單色儀的透射率。

絕對測量需要知道單色儀的絕對透射率：對于相對測量，以各種波長處的相對單位可以測量透射率。真空紫外線的這些測量有相當大的實驗困難，因此通常使用輔助單色儀。在各種入射角的情況下分別測量衍射光柵的效率。在許多實驗步驟中已成功地避免了校準上的困難。

曾經研究過光柵效率與波長、入射角、鍍層厚度、鍍層材料以及其它因素的關系。所有這些測量都指出，在許多情況下能量損失是非常顯著的，并且光柵的效率低于1%，光柵的不同部分可能有明顯不同的效率。

三、影響光譜分析儀測量的內在因素

在了解了光譜分析儀的投射測定的相關內容后，我們再來看看影響光譜分析儀測量的一些內在因素。

1. 物理干擾

物理干擾是指在樣品轉移和蒸發(fā)過程中任何物理因素變化引起的干擾效應。屬于此類干擾的因素包括：測試溶液的粘度、溶劑的蒸氣壓、霧化氣體的壓力等。物理干擾是非選擇性干擾，對樣品元素的影響基本相似。

制備類似于測試樣品的標準樣品是消除物理干擾的常用方法。當樣品的成分未知或無法匹配時，可以使用標準添加方法或稀釋方法來減少和消除物理干擾。

2. 化學干擾

化學干擾是指由測試元件與其他組件之間的化學相互作用引起的干擾效應。它主要影響測試元件的原子化效率，并且是原子吸收分光光度法中干擾的主要來源。這是由于在液相或氣相中被測元素的原子與干擾物質的組成之間形成了熱力學更穩(wěn)定的化合物，這影響了被測元素化合物的離解和原子化。

消除化學干擾的方法包括：化學分離; 使用高溫火焰; 加入釋放劑和保護劑等。

3. 電離干擾

高溫下原子的電離會降低基態(tài)原子的濃度，并導致原子吸收信號降低，這種干擾稱為電離干擾。電離效應隨溫度和電離平衡常數(shù)的增加而增加，而隨被測元素濃度的增加而減小。添加更容易電離的堿金屬元素可以有效消除電離干擾。

4. 光譜干擾

光譜干擾包括譜線重疊、光譜通帶內存在非吸收線、原子化池內的直流發(fā)射、分子吸收、光散射等。當采用銳線光源和交流調制技術時，前3種因素一般可以不予考慮 ，主要考慮分子吸收和光散射地影響，它們是形成光譜背景的主要因素。

5. 分子吸收干擾

分子吸收干擾是指由原子化過程中產生的氣體分子，氧化物和鹽分子吸收輻射引起的干擾。光散射是指在霧化過程中生成的固體顆粒會散射光，從而使散射光偏離光路，并且無法被檢測器檢測到，從而導致高吸收值。

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