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[導(dǎo)讀]清溢光電是國內(nèi)成立最早、規(guī)模最大的掩膜版生產(chǎn)企業(yè)之一,其掩膜版產(chǎn)品多次填補國內(nèi)空白,是國內(nèi)掩膜版行業(yè)的龍頭企業(yè)。其產(chǎn)品主要應(yīng)用于平板顯示、半導(dǎo)體芯片、觸控、電路板等行業(yè),是下游行業(yè)產(chǎn)品制程中的關(guān)鍵工具。 掩膜版:光刻工藝的“底片” 掩膜版是半

清溢光電是國內(nèi)成立最早、規(guī)模最大的掩膜版生產(chǎn)企業(yè)之一,其掩膜版產(chǎn)品多次填補國內(nèi)空白,是國內(nèi)掩膜版行業(yè)的龍頭企業(yè)。其產(chǎn)品主要應(yīng)用于平板顯示、半導(dǎo)體芯片、觸控、電路板等行業(yè),是下游行業(yè)產(chǎn)品制程中的關(guān)鍵工具。
掩膜版:光刻工藝的“底片”
掩膜版是半導(dǎo)體集成電路、顯示屏制造中圖形底片轉(zhuǎn)移用的高精密工具。據(jù)SEMI數(shù)據(jù),其在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)原材料總成本占比14%,僅次于大硅片(32%)。掩膜版產(chǎn)業(yè)鏈上游廠商通過提純、合成等方式生產(chǎn)高純度石英錠;處于中游的精磨、涂膠、光刻等廠商對石英錠進行深加工,制成掩膜版;最終在半導(dǎo)體和顯示器生產(chǎn)中得到使用。
掩膜版市場寡頭壟斷嚴(yán)重
2018年全球掩膜版市場規(guī)模為40.40億美元,同比增長7.73%,預(yù)計2020年將達到42億美元,未來年均復(fù)合增速將在1.96%左右。
其中,Photronics、日本 DNP、日本 Toppan 三家占據(jù)半導(dǎo)體掩膜版 80%以上的市場份額。我國掩膜版行業(yè)僅能滿足國內(nèi)中低檔產(chǎn)品市場需求,高檔掩膜版則由國外公司提供。據(jù)IHS Markit統(tǒng)計,2018年全球石英掩膜版銷售金額排名中國內(nèi)上榜企業(yè)僅國內(nèi)掩膜版龍頭清溢光電一家。在全球范圍內(nèi),國內(nèi)掩膜版企業(yè)與同行業(yè)公司相比,由于其起步時間較晚,其在國際市場影響力方面存在較大差距。
全球各地區(qū)掩膜版市場占比(含預(yù)測)
打破壟斷 奠定國內(nèi)市場龍頭
全球各大掩膜版廠商的高端產(chǎn)品代表了其技術(shù)實力。在 AMOLED 用高精度掩膜版領(lǐng)域,由于核心技術(shù)掌握在 HOYA、SKE、PKL 等境外廠商手中,而這些企業(yè)對關(guān)鍵技術(shù)進行嚴(yán)格封鎖,導(dǎo)致境內(nèi)廠商與境外相比仍存在一定技術(shù)差距。目前國內(nèi)公司在 10 代大尺寸掩膜版領(lǐng)域與 AMOLED 用高精度掩膜版領(lǐng)域的部分指標(biāo)上與先進技術(shù)存在一定差距。其中,清溢光電邁出了國產(chǎn)化第一步。
2008年,清溢光電成功研制出國內(nèi)第一張5代掩膜版,打破了我國中大尺寸掩膜版依賴進口的局面,大大降低了國內(nèi)面板企業(yè)掩膜版采購成本;2014年研制出國內(nèi)第一張8代掩膜版;2016年10月成功研制AMOLED用高精度掩膜版,成為全球第6家具備AMOLED用高精度掩膜版生產(chǎn)能力的商用廠家,打破了國內(nèi)AMOLED用高精度掩膜版完全依賴國外進口的局面,已經(jīng)正式給多家國內(nèi)面板企業(yè)供貨。
政策加持 迎藍海發(fā)展機遇
作為全球高端產(chǎn)業(yè)的重要組成部分,平板顯示行業(yè)和半導(dǎo)體芯片行業(yè)是我國重點扶持的戰(zhàn)略新興產(chǎn)業(yè)。為提升我國平板顯示和半導(dǎo)體芯片等行業(yè)配套材料的國產(chǎn)化率,進一步完善產(chǎn)業(yè)鏈,國家和地方各級政府部門近年來出臺了一系列政策和措施予以全面扶持。掩膜版行業(yè)作為電子元器件的上游行業(yè),屬于國家發(fā)展戰(zhàn)略的重要環(huán)節(jié)之一,必會迎來新一輪風(fēng)口。
未來隨著相關(guān)產(chǎn)業(yè)進一步向國內(nèi)轉(zhuǎn)移,國內(nèi)平板顯示行業(yè)掩膜版的需求量將持續(xù)上升,預(yù)計到2021年,中國大陸平板顯示行業(yè)掩膜版需求量全球占比將達到56%。摩爾定律推動了光掩膜板系統(tǒng)發(fā)展成更加復(fù)雜的系統(tǒng)。中國集成電路行業(yè)快速擴張推動全球行業(yè)增長,根據(jù)《國家集成電路發(fā)展推進綱要》的規(guī)劃,我國到2020年集成電路將保持20%的年增長率。
缺口巨大 國內(nèi)掩膜版前景廣闊
由于國內(nèi)掩膜版行業(yè)發(fā)展落后,供應(yīng)未及時跟進,因此國內(nèi)掩膜版供需缺口逐年擴大。2011 年我國掩膜版需求由 5.09 萬平方米增加至 2016 年 7.98 萬平方米,產(chǎn)量則由 0.87 萬平方米增加至 1.69 萬平方米,供給缺口由 4.22 萬平方米擴大至 6.29 萬平方米。根據(jù)摩爾定律:集成電路上可容納的元器件的數(shù)目,約每隔18-24個月便會增加一倍,性能也將提升一倍。集成電路性能與半導(dǎo)體制程緊密聯(lián)系,技術(shù)升級必將帶來掩膜版市場增量。
當(dāng)前,我國半導(dǎo)體材料的整體本土化仍然處于比較低的水平,特別是在中高端領(lǐng)域,亟待突破的產(chǎn)品、技術(shù)非常之多。而材料的研發(fā)本來就是個比較漫長的過程,從驗證到真正導(dǎo)入又需要消耗大量的時間,在高端材料研發(fā)人才方面國內(nèi)的缺口較大,在核心技術(shù)上國外的封鎖嚴(yán)格,這就給國內(nèi)半導(dǎo)體材料業(yè)的發(fā)展帶來了諸多挑戰(zhàn)。我國半導(dǎo)體材料的本土化程度要想得到明顯改善,任重而道遠。
來源:OFweek維科號新材料情報NMT

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