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[導(dǎo)讀]為增進(jìn)大家對PCM相變存儲器的認(rèn)識,本文將對PCM相變存儲器的發(fā)展歷史、PCM相變存儲器的工作原理予以介紹。

PCM相變存儲器是一種應(yīng)用相變材料作為儲存介質(zhì)的存儲器技術(shù),在現(xiàn)實(shí)生活中得到廣泛應(yīng)用。為增進(jìn)大家對PCM相變存儲器的認(rèn)識,本文將對PCM相變存儲器的發(fā)展歷史、PCM相變存儲器的工作原理予以介紹。如果你對PCM相變存儲器具有興趣,不妨繼續(xù)往下閱讀哦。

一、PCM相變存儲器發(fā)展歷史

相變存儲器,簡稱PCM,相變存儲器就是利用特殊材料在晶態(tài)和非晶態(tài)之間相互轉(zhuǎn)化時(shí)所表現(xiàn)出來的導(dǎo)電性差異來存儲數(shù)據(jù)的。相變存儲器通常是利用硫族化合物在晶態(tài)和非晶態(tài)巨大的導(dǎo)電性差異來存儲數(shù)據(jù)的一種信息存儲裝置。

二十世紀(jì)五十年代至六十年代,Dr. Stanford Ovshinsky開始研究無定形物質(zhì)的性質(zhì)。無定形物質(zhì)是一類沒有表現(xiàn)出確定、有序的結(jié)晶結(jié)構(gòu)的物質(zhì)。1968年,他發(fā)現(xiàn)某些玻璃在變相時(shí)存在可逆的電阻系數(shù)變化。1969年,他又發(fā)現(xiàn)激光在光學(xué)存儲介質(zhì)中的反射率會發(fā)生響應(yīng)的變化。1970年,他與他的妻子Dr. Iris Ovshinsky共同建立的能量轉(zhuǎn)換裝置(ECD)公司,發(fā)布了他們與Intel的Gordon Moore合作的結(jié)果。1970年9月28日在Electronics發(fā)布的這一篇文章描述了世界上第一個(gè)256位半導(dǎo)體相變存儲器。近30年后,能量轉(zhuǎn)換裝置(ECD)公司與Micron Technology前副主席Tyler Lowery建立了新的子公司Ovonyx。在2000年2月,Intel與Ovonyx發(fā)表了合作與許可協(xié)議,此份協(xié)議是現(xiàn)代PCM研究與發(fā)展的開端。2000年12月,STMicroelectronics(ST)也與Ovonyx開始合作。至2003年,以上三家公司將力量集中,避免重復(fù)進(jìn)行基礎(chǔ)的、競爭的研究與發(fā)展,避免重復(fù)進(jìn)行延伸領(lǐng)域的研究,以加快此項(xiàng)技術(shù)的進(jìn)展。2005年,ST與Intel發(fā)表了它們建立新的閃存公司的意圖,新公司名為Numonyx。在1970年第一份產(chǎn)品問世以后的幾年中,半導(dǎo)體制作工藝有了很大的進(jìn)展,這促進(jìn)了半導(dǎo)體相變存儲器的發(fā)展。同時(shí)期,相變材料也愈加完善以滿足在可重復(fù)寫入的CD與DVD中的大量使用。Intel開發(fā)的相變存儲器使用了硫?qū)倩铮–halcogenides),這類材料包含元素周期表中的氧/硫族元素。Numonyx的相變存儲器使用一種含鍺、銻、碲的合成材料(Ge2Sb2Te5),多被稱為GST。現(xiàn)今大多數(shù)公司在研究和發(fā)展相變存儲器時(shí)都都使用GST或近似的相關(guān)合成材料。今天,大部分DVD-RAM都是使用與Numonyx相變存儲器使用的相同的材料。

二、PCM相變存儲器的工作原理是什么

相變存儲器(PCM)是一種非易失存儲設(shè)備,它利用材料的可逆轉(zhuǎn)的相變來存儲信息。同一物質(zhì)可以在諸如固體、液體、氣體、冷凝物和等離子體等狀態(tài)下存在,這些狀態(tài)都稱為相。相變存儲器便是利用特殊材料在不同相間的電阻差異進(jìn)行工作的。

在非晶態(tài)下,GST材料具有短距離的原子能級和較低的自由電子密度,使得其具有較高的電阻率。由于這種狀態(tài)通常出現(xiàn)在RESET操作之后,一般稱其為RESET狀態(tài),在RESET操作中DUT的溫度上升到略高于熔點(diǎn)溫度,然后突然對GST淬火將其冷卻。冷卻的速度對于非晶層的形成至關(guān)重要。非晶層的電阻通常可超過1兆歐。

在晶態(tài)下,GST材料具有長距離的原子能級和較高的自由電子密度,從而具有較低的電阻率。由于這種狀態(tài)通常出現(xiàn)在SET操作之后,我們一般稱其為SET狀態(tài),在SET操作中,材料的溫度上升高于再結(jié)晶溫度但是低于熔點(diǎn)溫度,然后緩慢冷卻使得晶粒形成整層。晶態(tài)的電阻范圍通常從1千歐到10千歐。晶態(tài)是一種低能態(tài);因此,當(dāng)對非晶態(tài)下的材料加熱,溫度接近結(jié)晶溫度時(shí),它就會自然地轉(zhuǎn)變?yōu)榫B(tài)。

典型的GST PCM器件結(jié)構(gòu)頂部電極、晶態(tài)GST、α/晶態(tài)GST、熱絕緣體、電阻(加熱器)、底部電極組成。一個(gè)電阻連接在GST層的下方。加熱/熔化過程只影響該電阻頂端周圍的一小片區(qū)域。擦除/RESET脈沖施加高電阻即邏輯0,在器件上形成一片非晶層區(qū)域。擦除/RESET脈沖比寫/SET脈沖要高、窄和陡峭。SET脈沖用于置邏輯1,使非晶層再結(jié)晶回到結(jié)晶態(tài)。

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