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[導(dǎo)讀]在下述的內(nèi)容中,小編將會(huì)對(duì)MOS管的相關(guān)消息予以報(bào)道,如果MOS管是您想要了解的焦點(diǎn)之一,不妨和小編共同閱讀這篇文章哦。

在下述的內(nèi)容中,小編將會(huì)對(duì)MOS管的相關(guān)消息予以報(bào)道,如果MOS管是您想要了解的焦點(diǎn)之一,不妨和小編共同閱讀這篇文章哦。

一、MOS管

金屬-氧化物半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管,簡(jiǎn)稱金氧半場(chǎng)效晶體管(Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor,MOSFET)。 其屬于半導(dǎo)體主動(dòng)元件中的分立器件,能以基極電流微小的變化量來控制集電極電流較大的變化量。 三極管是在一塊半導(dǎo)體基片上制作兩個(gè)相距很近的PN結(jié),兩個(gè)PN結(jié)把整塊半導(dǎo)體分成三部分,中間部分是基區(qū),兩側(cè)部分是發(fā)射區(qū)和集電區(qū),排列方式有PNP和NPN兩種。 MOS管是一個(gè)由改變電壓來控制電流的器件,是電壓器件。

MOS管的三個(gè)極分別是:G(柵極),D(漏極),S(源極),當(dāng)柵極和源極之間電壓大于某一特定值,漏極和源極才能導(dǎo)通。

MOS管的柵極G和源極S之間是絕緣的,由于Sio2絕緣層的存在,在柵極G和源極S之間等效是一個(gè)電容存在,電壓VGS產(chǎn)生電場(chǎng)從而導(dǎo)致源極-漏極電流的產(chǎn)生。 此時(shí)的柵極電壓VGS決定了漏極電流的大小,控制柵極電壓VGS的大小就可以控制漏極電流ID的大小。

PMOS的工作原理與NMOS相類似。因?yàn)镻MOS是N型硅襯底,其中的多數(shù)載流子是電子,少數(shù)載流子是空穴,源漏區(qū)的摻雜類型是P型,所以,PMOS的工作條件是在柵上相對(duì)于源極施加負(fù)電壓,亦即在PMOS的柵上施加的是負(fù)電荷電子,而在襯底感應(yīng)的是可運(yùn)動(dòng)的正電荷空穴和帶固定正電荷的耗盡層,不考慮二氧化硅中存在的電荷的影響,襯底中感應(yīng)的正電荷數(shù)量就等于PMOS柵上的負(fù)電荷的數(shù)量。當(dāng)達(dá)到強(qiáng)反型時(shí),在相對(duì)于源端為負(fù)的漏源電壓的作用下,源端的正電荷空穴經(jīng)過導(dǎo)通的P型溝道到達(dá)漏端,形成從源到漏的源漏電流。同樣地,VGS越負(fù)(絕對(duì)值越大),溝道的導(dǎo)通電阻越小,電流的數(shù)值越大。

二、MOS管尖峰

(一)MOS管尖峰產(chǎn)生的原因

1、電感效應(yīng)

在MOS管的工作電路中,由于導(dǎo)線、元件等存在一定的電感,當(dāng)MOS管開關(guān)時(shí),電流的變化會(huì)在電路中產(chǎn)生電感壓降(L*di/dt)。這個(gè)電感壓降會(huì)疊加在MOS管的漏極電壓上,形成電壓尖峰。特別是在MOS管快速開關(guān)的情況下,電流變化率(di/dt)較大,產(chǎn)生的電感壓降也較大,從而導(dǎo)致電壓尖峰更加明顯。

2、寄生電容效應(yīng)

MOS管的源極和漏極之間存在寄生電容,這個(gè)電容在MOS管開關(guān)過程中會(huì)充放電。當(dāng)MOS管從關(guān)閉狀態(tài)切換到開啟狀態(tài)時(shí),漏極電位迅速下降,導(dǎo)致寄生電容迅速放電,從而在漏極-源極(C_DS)之間產(chǎn)生尖峰電壓。同樣地,當(dāng)MOS管從開啟狀態(tài)切換到關(guān)閉狀態(tài)時(shí),也會(huì)由于寄生電容的充放電過程而產(chǎn)生電壓尖峰。

3、柵源寄生電容效應(yīng)

MOS管內(nèi)部存在柵源寄生電容,當(dāng)MOS管關(guān)斷時(shí),柵源寄生電容上的電荷釋放,也會(huì)產(chǎn)生電壓尖峰。這種電壓尖峰通常較小,但在某些特定情況下也可能對(duì)電路產(chǎn)生不良影響。

(二)MOS管尖峰的影響與解決方案

MOS管尖峰對(duì)電路的影響主要表現(xiàn)在以下幾個(gè)方面:一是可能導(dǎo)致電路中的其他元件損壞;二是可能使電路的穩(wěn)定性下降;三是可能使電路的功耗增加。為了減小MOS管尖峰對(duì)電路的影響,可以采取以下解決方案:

1、優(yōu)化電路設(shè)計(jì)

通過優(yōu)化電路設(shè)計(jì)來減小電感效應(yīng)和寄生電容效應(yīng)的影響。例如,采用低電感元件和導(dǎo)線、減小寄生電容的大小等。

2、增加并聯(lián)電阻和電容

在MOS管的源極和漏極之間增加并聯(lián)電阻和電容可以減小電壓尖峰的幅值。這是因?yàn)椴⒙?lián)電阻和電容可以吸收和釋放一部分電荷能量,從而減小電感壓降和寄生電容充放電過程對(duì)電路的影響。

3、選用高性能MOS管

選用具有高性能的MOS管可以減小其尖峰特性。例如,選用具有低閾值電壓、高開關(guān)速度等特性的MOS管可以減小電壓尖峰的幅值和頻率。

4、采用緩沖電路

在MOS管的兩端加入緩沖電路可以減小電壓尖峰的影響。緩沖電路可以吸收和釋放一部分電荷能量,從而減小電感壓降和寄生電容充放電過程對(duì)電路的影響。

最后,小編誠(chéng)心感謝大家的閱讀。你們的每一次閱讀,對(duì)小編來說都是莫大的鼓勵(lì)和鼓舞。希望大家對(duì)MOS管已經(jīng)具備了初步的認(rèn)識(shí),最后的最后,祝大家有個(gè)精彩的一天。

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