功耗降低30% 臺(tái)積電2nm工藝2024年試產(chǎn)
5月6日消息,臺(tái)積電去年底推出了3nm工藝,今年會(huì)是3nm工藝大規(guī)模量產(chǎn)的第一年,蘋果的iPhone 15系列會(huì)用上3nm的A17處理器,安卓陣營(yíng)還要停留在4nm節(jié)點(diǎn)。
3nm之后的工藝也在路上了,臺(tái)積電日前在給股東的報(bào)告中提到了2nm工藝(N2)具體的進(jìn)展,技術(shù)研發(fā)正在按計(jì)劃進(jìn)行,預(yù)定2024年試產(chǎn),2025年正式量產(chǎn)。
臺(tái)積電的2nm工藝會(huì)是該公司第一次使用GAA晶體管工藝,技術(shù)上將提供全制程效能和功耗效率的效益。
相較于N3E,N2在相同功耗下速度增快10%-15%,或在相同速度下功耗降低25%-30%,不過(guò)晶體管密度提升就只有10-20%了。
跟之前的工藝一樣,臺(tái)積電2nm預(yù)計(jì)依然是蘋果首發(fā),2025年將迎來(lái)iPhone 17系列升級(jí),處理器則會(huì)升級(jí)到A19,當(dāng)然具體的架構(gòu)現(xiàn)在還無(wú)從得知。