韓國(guó)本土半導(dǎo)體廠商開(kāi)發(fā)石墨烯技術(shù),提高生產(chǎn)良率
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12月15日消息,據(jù)報(bào)導(dǎo),韓國(guó)本土的半導(dǎo)體和顯示材料開(kāi)發(fā)商——石墨烯實(shí)驗(yàn)室 (Graphene Lab) 開(kāi)發(fā)出了基于石墨烯制造的EUV光罩保護(hù)膜 (Pellicle) ,有望顯著提高ASML的極紫外光 (EUV) 系統(tǒng)生產(chǎn)芯片的良率。
據(jù)了解,光罩保護(hù)膜是一種薄膜,可保護(hù)光罩表面免受空氣中微分子或污染物的影響,這對(duì)于 5nm或以下節(jié)點(diǎn)制程的先進(jìn)制程技術(shù)的良率表現(xiàn)至關(guān)重要。
另外,光罩保護(hù)膜也是一種需要定期更換的消耗品,而由于EUV光刻設(shè)備的光源波長(zhǎng)較短,因此護(hù)膜需要較薄厚度來(lái)增加透光率。
之前,硅已被用于制造光罩護(hù)膜,但石墨烯會(huì)是一種更好的材料,因?yàn)槭┲圃斓墓庹直Wo(hù)膜比硅更薄、更透明。
報(bào)導(dǎo)還強(qiáng)調(diào),EUV光罩護(hù)膜必須能夠承受曝光過(guò)程中發(fā)生的 800 度或更高的高溫,而基于石墨烯材料的光罩保護(hù)膜在高溫下的硬化特性要好,相比之下硅制產(chǎn)品非常容易破裂。