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西門子 Calibre 平臺擴展早期設計驗證解決方案
西門子數(shù)字化工業(yè)軟件近日為其集成電路 (IC) 物理驗證平臺 —— Calibre? 擴展一系列電子設計自動化 (EDA) 早期設計驗證功能，可將物理和電路驗證任務“左移”， 在設計和驗證流程的早期階段即能識別、分析并解決復雜的 IC 和芯片級系統(tǒng) (SoC) 物理驗證問題，進而幫助 IC 設計團隊和公司加快流片速度。
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簡化 IC 電路驗證過程的Calibre nmLVS-Recon 技，你知道嗎？
什么是簡化 IC 電路驗證過程的Calibre nmLVS-Recon 技?它有什么作用?為了幫助集成電路 (IC) 設計人員更快地實現(xiàn)設計收斂，Mentor, a Siemens business 近日將Calibre? Recon 技術擴展至 Calibre nmLVS 電路驗證平臺。Calibre Recon 技術于2019年推出，作為 Mentor Calibre nmDRC 套件的擴展，旨在幫助客戶在早期驗證設計迭代期間快速、自動和準確地分析 IC 設計中的錯誤，從而極大地縮短設計周期和產(chǎn)品上市時間。
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給大家介紹5個必備的Linux應用
Linux需要哪些應用程序？ 答案取決于您對Linux桌面的使用目的。 但是，大多數(shù)Linux用戶會安裝一些必備應用程序。 今天，小編將介紹5個最重要的Linux應用，快來收集它們吧。
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Mentor Graphics 推出針對 Tanner 模擬/混合信號 IC 設計環(huán)境的 Tanner Calibre One 驗證套件
21ic訊—Mentor Graphics®公司(納斯達克代碼：MENT)今天宣布推出 Tanner Calibre One IC 驗證套件，作為 Tanner™ 模擬/混合信號 (AMS) 物理設計環(huán)境不可或缺的一部分，使 Tanner EDA 的用戶群可以輕松使用 Calibre® 驗證工具的所有功能。
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Mentor Graphics宣布與GLOBALFOUNDRIES合作開發(fā)適用于 22FDX平臺的設計參考流程和工藝設計套件
Mentor Graphics公司(納斯達克代碼：MENT)近日宣布，正與 GLOBALFOUNDRIES 展開合作，認證 Mentor® RTL 到 GDS 平臺(包括RealTime Designer™ 物理 RTL 合成解決方案和 Olympus-SoC™ 布局布線系統(tǒng))能
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SMIC透過Calibre PERC平臺為IP認證方案添加可靠性檢查
Mentor Graphics公司近日宣布，中芯國際集成電路制造有限公司(Semiconductor Manufacturing International Corporation, SMIC)將在其IP認證計劃中加入新的電路可靠性檢查，使用Calibre PERC產(chǎn)品。可靠性驗證有助于
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Calibre xACT 產(chǎn)品可滿足寄生電路參數(shù)提取需求
Mentor Graphics 公司宣布推出全新 Calibre xACT 寄生電路參數(shù)提取平臺，該平臺可滿足包括 14nm FinFET 在內(nèi)廣泛的模擬和數(shù)字電路參數(shù)提取需求，同時最大限度地減少 IC 設計工程師的猜測和設置功夫
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明導CEO：如何解決制程工藝帶來的新挑戰(zhàn)
隨著20nm SoC已進入開發(fā)階段，14nm、10nm甚至7nm工藝均在逐步推進中。眾所周知，在EDA行業(yè)，20nm工藝要解決的是支持雙重圖形(Double Patterning)的問題。明導公司(Mentor
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Mentor設計和驗證工具獲得TSMC 16nm FinFET生產(chǎn)認證
Mentor Graphics公司宣布，其集成電路設計到制造的整套解決方案已獲得TSMC 16nm FinFET工藝的設計規(guī)則手冊(DRM)和1.0版本SPICE模型認證。 該認證包括的工具有Calibre物理驗證及可制造性設計(DFM)平臺、Olympus-SoC
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聯(lián)詠科技采用Calibre xACT提取工具提升布局后芯片仿真結果
明導國際(Mentor Graphics)近日宣布，聯(lián)詠科技(Novatek Microelectronics)采用Calibre® xACT™ 3D提取工具來精準確認電路之寄生參數(shù)，以提升布局后(post-layout)芯片仿真的結果。Calibre xACT 3D產(chǎn)品具備
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聯(lián)詠科技采用Calibre xACT提取工具實現(xiàn)高準確度的布局后仿真
明導國際(Mentor Graphics)今天宣布，聯(lián)詠科技(Novatek Microelectronics)采用Calibre® xACT™ 3D提取工具來精準確認電路之寄生參數(shù)，以提升布局后(post-layout)芯片仿真的結果。Calibre xACT 3D產(chǎn)品具備完
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Mentor Graphics工具被納入臺積電3D－IC參考流程
Mentor Graphics 公司近日宣布其解決方案已由臺積電使用真正3D堆疊測試方法進行了驗證，可用于臺積電3D-IC參考流程。該流程將對硅中介層產(chǎn)品的支持擴展到也支持基于TSV的、堆疊的die設計。具體的Mentor®貢獻包括
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AWSC選擇Mentor Graphics Calibre納米平臺用于驗證先進砷化鎵無線集成電路
【導讀】Mentor Graphics公司近日宣布，AWSC已經(jīng)選擇Calibre? nmDRC?和nmLVS?產(chǎn)品作為其針對手機和其他無線應用中砷化鎵集成電路的金級核簽物理驗證解決方案。作為其提供的代工服務的一部分，AWSC將為客戶提供Calibr
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AWSC選擇Mentor Calibre納米平臺用于驗證先進砷化鎵無線集成電路
Mentor Graphics公司日前宣布，宏捷科技股份有限公司(AWSC)已經(jīng)選擇Calibre® nmDRC™和nmLVS™產(chǎn)品作為其針對手機和其他無線應用中砷化鎵集成電路的金級核簽物理驗證解決方案。作為其提供的代工服務的
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AWSC選擇Mentor Graphics Calibre納米平臺驗證先進砷化鎵
Mentor Graphics公司今天宣布，宏捷科技股份有限公司（AWSC）已經(jīng)選擇Calibre? nmDRC?和nmLVS?產(chǎn)品作為其針對手機和其他無線應用中砷化鎵集成電路的金級核簽物理驗證解決方案。作為其提供的代工服務的一部分，AWSC將
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AWSC選擇Calibre納米平臺用于驗證先進砷化鎵無線集成電路
Mentor Graphics公司(納斯達克代碼：MENT)日前宣布，宏捷科技股份有限公司(AWSC)已經(jīng)選擇Calibre® nmDRC™和nmLVS™產(chǎn)品作為其針對手機和其他無線應用中砷化鎵集成電路的金級核簽物理驗證解決方案。
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Mentor Graphics為飛思卡爾提供Tessent晶片測試、良率分析、Calibre物理驗證
【導讀】Mentor Graphics公司(納斯達克代碼：MENT)近日宣布飛思卡爾半導體公司(Freescale?)(紐交所代碼：FSL，F(xiàn)SL.B)已選定Mentor作為其在晶片測試、良率分析、物理驗證和DFM技術領域的理想合作伙伴。 此次合作
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AWSC選擇Calibre納米平臺用于驗證先進砷化鎵無線集成電路
Mentor Graphics公司(納斯達克代碼：MENT)日前宣布，宏捷科技股份有限公司(AWSC)已經(jīng)選擇Calibre® nmDRC™和nmLVS™產(chǎn)品作為其針對手機和其他無線應用中砷化鎵集成電路的金級核簽物理驗證解決方案。作
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明導CEO：如何解決制程工藝帶來的新挑戰(zhàn)?
【導讀】隨著20nm SoC已進入開發(fā)階段，14nm、10nm甚至7nm工藝均在逐步推進中。明導公司(Mentor Graphics)董事長兼首席執(zhí)行官Walden C. Rhines為大家解析14nm級以后工藝所面臨的挑戰(zhàn)，明導公司在該方面有何作為? 摘
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明導CEO：微細化程度越高 可靠性設計越重要
赴日訪問的明導公司(Mentor Graphics Corp.)董事長兼首席執(zhí)行官阮華德(Walden C. Rhines)接受了本站記者的采訪。阮華德詳細介紹“More Moore”——首先想就半導體領域問幾個問題。20nm SoC已進入
