美材料公司稱首款45納米IC07年將面市

據(jù)臺灣媒體報道，美國應(yīng)用材料公司日前在舊金山舉行的美國國際半導(dǎo)體設(shè)備及材料展覽會上推出了好幾款新型制造工具，并表示全球首款采用45納米制程工藝生產(chǎn)的IC(集成電路)應(yīng)該可以于2007年擺上貨架，另外以32納米節(jié)點(diǎn)

城域Wi-Fi挑戰(zhàn)移動未來

世界各地的城市當(dāng)局都在大規(guī)模地鋪設(shè)城市Wi-Fi網(wǎng)絡(luò)，但專家說，現(xiàn)在斷言Wi-Fi網(wǎng)絡(luò)將顛覆蜂窩網(wǎng)絡(luò)或者能存活下來尚為時過早。在城市地區(qū)鋪設(shè)的市政Wi-Fi網(wǎng)絡(luò)一直受到電話公司的審慎關(guān)注。實(shí)際上，它們能對移動漫游收入

城域Wi-Fi威脅移動漫游 顛覆為時尚早

世界各地的城市當(dāng)局都在大規(guī)模地鋪設(shè)城市Wi-Fi網(wǎng)絡(luò)，但專家說，現(xiàn)在斷言Wi-Fi網(wǎng)絡(luò)將顛覆蜂窩網(wǎng)絡(luò)或者能存活下來尚為時過早。在城市地區(qū)鋪設(shè)的市政Wi-Fi網(wǎng)絡(luò)一直受到電話公司的審慎關(guān)注。實(shí)際上，它們能對移動漫游收

四點(diǎn)二次插值的單片機(jī)匯編程序?qū)崿F(xiàn)

工程師職業(yè)生涯

工程師職業(yè)生涯

工程師職業(yè)生涯

基于普通單片機(jī)的LIN協(xié)議實(shí)現(xiàn)方案

LIN是新近出現(xiàn)在汽車行業(yè)的一種串行通信總線，成本低、協(xié)議簡單可靠，特別適合應(yīng)用在一些數(shù)據(jù)傳輸率不高、控制相對簡單的場合。可以基于普通單片機(jī)用軟件方式實(shí)現(xiàn)，不需要依賴于特殊的硬件，大大降低這種低速串行通信協(xié)議的成本；同時，這種基于普通單片機(jī)實(shí)現(xiàn)的LIN通信代碼具有很強(qiáng)的可移植性。本文概要介紹LIN總線協(xié)議的特點(diǎn)，分析其軟件實(shí)現(xiàn)的要點(diǎn)，提出幾種基于普通單片機(jī)LIN協(xié)議的實(shí)現(xiàn)方案。

北電中標(biāo)鐵路GSM-R核心網(wǎng)項(xiàng)目 覆蓋7市

對于北電來說有著特殊意義。在這一天，北電與中國鐵道部正式簽署了中國鐵路GSM-R(鐵路移動通信全球系統(tǒng))核心網(wǎng)項(xiàng)目。該網(wǎng)絡(luò)將全面覆蓋西安、成都、哈爾濱、南昌、蘭州、昆明和烏魯木齊7個主要城市。屆時橫跨全國20個

無線傳感器網(wǎng)絡(luò)微型節(jié)點(diǎn)的實(shí)現(xiàn)

無線傳感器網(wǎng)絡(luò)微型節(jié)點(diǎn)通過自組織的方式構(gòu)成網(wǎng)絡(luò)，可遠(yuǎn)程實(shí)時感知和采集處理周邊環(huán)境中的物質(zhì)現(xiàn)象。本文設(shè)計了以8位AVR單片機(jī)ATmega128L為核心，結(jié)合外圍傳感器和2.4GHz無線收發(fā)模塊CC2420構(gòu)建的無線傳感器網(wǎng)絡(luò)微型節(jié)點(diǎn)。

華為中標(biāo)中國電信CN2網(wǎng)絡(luò)

　　經(jīng)過半年的方案研討，中國電信下一代IP承載網(wǎng)CN2國際網(wǎng)絡(luò)工程海外節(jié)點(diǎn)招標(biāo)工作日前落下帷幕，華為技術(shù)有限公司(簡稱華為)中標(biāo)該網(wǎng)絡(luò)香港和東京兩個節(jié)點(diǎn)。 　　為適應(yīng)新的市場競爭環(huán)境、新業(yè)務(wù)和新技術(shù)發(fā)展的

Photronics計劃在韓國建立先進(jìn)的光掩模技術(shù)生產(chǎn)線

為了支持制造65nm、45nm及以下生產(chǎn)工藝的半導(dǎo)體器件所需的先進(jìn)光掩模技術(shù)的開發(fā)和量產(chǎn)，福尼克斯(Photronics)公司宣布了將在韓國建設(shè)世界一流的光掩模生產(chǎn)線的計劃。目前，該公司處于尋找合適生產(chǎn)線場地的最后階段。

EUV時代已來臨，ASML全力以赴

ASML公司EUV(Extreme ultraviolet)系統(tǒng)產(chǎn)品開發(fā)經(jīng)理Hans Meiling透露，其公司采用EUV alpha演示工具印制出了亞40納米光阻圖像。 Meiling在提交給SPIE微光刻大會的一篇論文中匯報了EUV領(lǐng)域的進(jìn)展，包括EUV掩膜、可工