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EUV光刻下墊層材料研究進(jìn)展
EUV光刻是hp22以下器件制造最有前途的候選技術(shù)之一。但它有些難點(diǎn)需要克服，特別是要開(kāi)發(fā)高功率EUV光源、制造多層掩膜與檢測(cè)以及開(kāi)發(fā)均衡性良好的光刻膠，因?yàn)榉直媛?線寬粗糙度-靈敏度(RLS)的權(quán)衡最重要。EUV用光刻
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2011韓國(guó)半導(dǎo)體光刻膠需求預(yù)計(jì)達(dá)2.58億美元 國(guó)內(nèi)外供應(yīng)商競(jìng)爭(zhēng)日趨激烈
在半導(dǎo)體制程中，曝光制程非常重要，因此作為其核心材料的光刻膠(Photoresist)占較大的生產(chǎn)成本，在技術(shù)與產(chǎn)業(yè)方面的重要性也非常高。根據(jù)DisplayBank統(tǒng)計(jì)，2011年用于韓國(guó)國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的光刻膠量約為25萬(wàn)~30萬(wàn)加侖
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2011韓國(guó)半導(dǎo)體光刻膠需求預(yù)計(jì)達(dá)2.58億美元
在半導(dǎo)體制程中，曝光制程非常重要，因此作為其核心材料的光刻膠(Photoresist)占較大的生產(chǎn)成本，在技術(shù)與產(chǎn)業(yè)方面的重要性也非常高。根據(jù)DisplayBank統(tǒng)計(jì)，2011年用于韓國(guó)國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的光刻膠量約為25萬(wàn)~30萬(wàn)加侖
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極大規(guī)模集成電路關(guān)鍵材料研究通過(guò)驗(yàn)收
日前，為增強(qiáng)北京地區(qū)集成電路材料研發(fā)優(yōu)勢(shì)而啟動(dòng)的，對(duì)接國(guó)家中長(zhǎng)期科技發(fā)展規(guī)劃中的“極大規(guī)模集成電路關(guān)鍵材料研究”課題進(jìn)行了結(jié)題驗(yàn)收。 依托該課題，承擔(dān)單位攻克了248nm深紫外光刻膠、聚酰亞胺光敏樹(shù)脂、精密
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MIT實(shí)現(xiàn)9納米工藝電子束光刻技術(shù)
麻省理工學(xué)院 (MIT)的研究人員表示，已經(jīng)開(kāi)發(fā)出一種技術(shù)，可望提升在芯片上寫(xiě)入圖案的高速電子束光刻解析度，甚至可達(dá)9nm，遠(yuǎn)小于原先所預(yù)期的尺寸。MIT表示，電子束光刻工具的最小特征尺寸已證實(shí)可以解決25nm的制程
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硅材料成芯片過(guò)程講解
昨天，上海有了第一條高規(guī)格、高產(chǎn)量的12英寸芯片線。送入這條全自動(dòng)生產(chǎn)線的 “原料”，是一疊疊有如老式唱片的硅片。而最終，每張“唱片”都將變?yōu)槌汕先f(wàn)枚集成電路芯片，裝入手機(jī)、電腦、數(shù)碼相機(jī)，甚至第二代身
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12英寸“唱片”(組圖)
本報(bào)記者 徐瑞哲 昨天，上海有了第一條高規(guī)格、高產(chǎn)量的12英寸芯片線。送入這條全自動(dòng)生產(chǎn)線的 “原料”，是一疊疊有如老式唱片的硅片。而最終，每張“唱片”都將變?yōu)槌汕先f(wàn)枚集成電路芯片，裝入手機(jī)、電腦、
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東芝展望EUV曝光技術(shù)量產(chǎn)在即或需要與雙圖案化技術(shù)并用
東芝在荷蘭阿斯麥（ASML）公司于2010年11月18日在東京舉行的“ASML/BrionComputationalLithographySeminar2010”會(huì)議上，展望了引進(jìn)EUV（超紫外線）曝光技術(shù)進(jìn)行量產(chǎn)的前景。東芝統(tǒng)管光刻技術(shù)開(kāi)發(fā)的東木達(dá)彥表示“即
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東芝展望EUV曝光技術(shù)量產(chǎn)在即
東芝在荷蘭阿斯麥(ASML)公司于2010年11月18日在東京舉行的“ASML/Brion Computational Lithography Seminar 2010”會(huì)議上，展望了引進(jìn)EUV(超紫外線)曝光技術(shù)進(jìn)行量產(chǎn)的前景。東芝統(tǒng)管光刻技術(shù)開(kāi)發(fā)的東木達(dá)
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Mattson Technology獲得光刻膠剝離系統(tǒng)新訂單
先進(jìn)半導(dǎo)體工藝設(shè)備供應(yīng)商Mattson Technology日前宣布從一家亞洲新客戶處獲得了Suprema光刻膠剝離系統(tǒng)訂單。該系統(tǒng)可用于先進(jìn)邏輯器件生產(chǎn)，包括前端工藝及后端工藝。預(yù)計(jì)這些系統(tǒng)將于第四季度出貨。Mattson Technol
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沙子變"黃金"! 揭秘CPU制造全過(guò)程
CPU是計(jì)算機(jī)的心臟，它是決定計(jì)算機(jī)性能的最重要的部件。同樣CPU也是現(xiàn)代社會(huì)飛速運(yùn)轉(zhuǎn)的動(dòng)力源泉，在任何電子設(shè)備上都可以找到微芯片的身影。不過(guò)能完成復(fù)雜功能的CPU確是以沙子為原料做成的，不得不驚嘆于人類的智慧
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預(yù)測(cè)193納米光刻膠市場(chǎng)增長(zhǎng)
預(yù)測(cè)在未來(lái)五年內(nèi)全球193納米光刻膠市場(chǎng)將以年均增長(zhǎng)率達(dá)27%增長(zhǎng)，到2013年時(shí)達(dá)12億美元。該數(shù)據(jù)來(lái)自一家電子材料顧問(wèn)公司的報(bào)告。 在先進(jìn)圖形的形成中，對(duì)于193納米光刻膠市場(chǎng)無(wú)論干法或者浸液式都會(huì)有較大增長(zhǎng)
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預(yù)計(jì)193nm光刻膠市場(chǎng)將迅猛增長(zhǎng)
根據(jù)咨詢公司Linx Consulting的報(bào)告，193nm光刻膠市場(chǎng)預(yù)計(jì)將在未來(lái)五年內(nèi)獲得27%的符合年均增長(zhǎng)率，到2013年將達(dá)近12億美元。 193nm光刻膠市場(chǎng)，包括干法和沉浸式，是先進(jìn)光刻及制版市場(chǎng)上最具成長(zhǎng)潛力的市場(chǎng)。200
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材料成本上漲 JSR提升光刻膠價(jià)格
為了應(yīng)對(duì)原材料價(jià)格上漲，日本JSR Corp.將在全球范圍內(nèi)提升g-和i-line PFR系列光刻膠價(jià)格，提價(jià)范圍為6％至10％，于12月1日起正式生效。 JSR表示公司已采取了積極的措施來(lái)改善生產(chǎn)效率，以彌補(bǔ)原材料、勞動(dòng)力和物流
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華飛微電子：國(guó)產(chǎn)高檔光刻膠的先行者
光刻膠是集成電路中實(shí)現(xiàn)芯片圖形轉(zhuǎn)移的關(guān)鍵基礎(chǔ)化學(xué)材料，在光刻膠的高端領(lǐng)域，技術(shù)一直為美國(guó)、日本廠商等所壟斷;近年來(lái)，本土光刻膠供應(yīng)商開(kāi)始涉足高檔光刻膠的研發(fā)與生產(chǎn)，蘇州華飛微電子材料有限公司就是其中一家
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愛(ài)普生影像設(shè)備全面停用液晶面板制造中的光刻膠剝離液
精工愛(ài)普生集團(tuán)下屬的愛(ài)普生影像設(shè)備（Epson Imaging Device）宣布，2007年7月已在日本國(guó)內(nèi)的所有事業(yè)所全面停用列入PRTR（污染物排放與轉(zhuǎn)移登記制度）的化學(xué)物質(zhì)“乙醇胺（2-Aminoethanol）”。乙醇胺是液晶面板制造
神經(jīng)男
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季冬
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快意恩仇
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