10月18日，在上海舉辦的“2019中國(上海)集成電路創(chuàng)新峰會”上，與會專家透露，上海市將牽頭制定“中國集成電路技術路線圖”(下稱“路線圖”)，去年在上海揭牌的國家集成電路創(chuàng)新中心將主導路線圖制定。

根據(jù)復旦大學微電子學院院長、國家集成電路創(chuàng)新中心總經理張衛(wèi)介紹，路線圖包括六大部分，分別是集成電路制造技術現(xiàn)狀和發(fā)展趨勢、先進光刻工藝發(fā)展趨勢、邏輯工藝技術、存儲器技術、超越摩爾特制化技術、第三代功率半導體技術。

張衛(wèi)表示，路線圖借鑒了ITRS模式，并將結合中國集成電路產業(yè)實際，嘗試預測中國集成電路技術發(fā)展的路徑選擇和規(guī)劃周期，最終為產業(yè)發(fā)展提供幫助。

ITRS即美國半導體協(xié)會于1992年編寫的半導體技術路線圖，累計發(fā)布9個版本，對國際半導體產業(yè)發(fā)展起到了重要的指導作用。

張衛(wèi)強調，編制路線圖是一種嘗試，通過路線圖試圖明確未來集成電路產業(yè)技術發(fā)展的目標、方向、重點、關鍵問題和時間節(jié)點等。