尼康將對根據(jù)用途升級已售半導(dǎo)體曝光裝置的服務(wù)進(jìn)行強(qiáng)化。該公司于2013年春季在開展曝光裝置售后業(yè)務(wù)的子公司Nikon Tec設(shè)立了專屬組織“售后服務(wù)戰(zhàn)略室”。將于11月在尼康的臺灣子公司Nikon Precision Taiwan（NPT）設(shè)立曝光裝置升級用制造基地“Refurbishment Center”。

與購買新的曝光裝置相比，將顧客現(xiàn)有的裝置按照用途升級后，“可以將顧客的成本負(fù)擔(dān)降至幾分之一”（Nikon Tec董事社長石井勇樹）。

比如，通過升級Si-LSI制造中采用的i線曝光裝置，可以將其用于制造化合物半導(dǎo)體類功率元器件等。在采用化合物半導(dǎo)體的功率元器件制造中，必須要有透過晶圓檢測定位標(biāo)記的紅外線定位系統(tǒng)等，因此將追加這類功能。

對于前景看好基于TSV（硅通孔）的三維LSI，將采取降低投影鏡的開口數(shù)（NA）以改善焦點(diǎn)深度（DOF：Depth Of Focus）等改造措施。此外，還將提供自動(dòng)對焦功能的改善、處理能力的提高、MEMS背面定位功能的追加等升級。

作為升級對象的曝光裝置是向亞洲（日本、臺灣、中國大陸、韓國、新加坡）客戶提供的合計(jì)約2640臺尼康生產(chǎn)的i線曝光裝置（約1990臺）和KrF曝光裝置（約650臺）。主要是200mm晶圓裝置，還包括部分150mm裝置和300mm裝置。另外，對于KrF曝光裝置，將更換有污垢的鏡頭或者進(jìn)行改進(jìn)等。（記者：木村 雅秀，日經(jīng)BP半導(dǎo)體調(diào)查）