Synopsys公司與位于中國上海的宏力半導體制造有限公司（Grace）日前宣布，Synopsys的專業(yè)服務部和宏力已經(jīng)聯(lián)合開發(fā)出了一個用于宏力的0.18微米的參考設計流程。這個RTL-to-GDSII的設計流程建立在經(jīng)Synopsys驗證的Galaxy™設計和Discovery™驗證平臺的基礎之上。最終用戶可以通過下載預先驗證的參考設計流程，迅速開始集成電路(IC)的設計和驗證，用戶相信使用這個設計流程能夠迅速達到預期的最優(yōu)結果。該參考設計流程將很快由宏力推出。

    宏力半導體研究發(fā)展單位資深處長方浩博士表示：“在創(chuàng)建宏力首個參考設計流程時，我們選擇了Synopsys作為電子設計自動化(EDA)的合作伙伴，是因為這家公司擁有良好的市場聲譽以及經(jīng)過驗證的設計解決方案。這種合作能為宏力及我們的客戶帶來完全集成的、經(jīng)芯片生產(chǎn)驗證的設計和驗證流程，從而縮短復雜的0.18微米產(chǎn)品設計的開發(fā)時間。我們希望與Synopsys保持長期的合作，以確?？蛻粼诤炅ιa(chǎn)各種先進的集成電路時，得到他們所需要的相關支持?！?

    這一流程得到了Synopsys的Galaxy設計平臺的支持。Galaxy設計平臺包括Design Compiler®綜合工具、Jupiter-XT™設計規(guī)劃工具、Physical Compiler®和Astro™物理綜合解決方案、DFT Compiler™測試工具、PrimeTime® 靜態(tài)時序分析解決方案、Star-RCXT™析取工具和Hercules™物理驗證解決方案。針對設計驗證，流程還采用了來自DiscoveryTM驗證平臺的VCS® RTL驗證解決方案和Formality®等同性核查工具。參考設計流程由經(jīng)驗豐富的為設計先進的ASIC建立和使用設計流程的Synopsys Professional Services來實現(xiàn)的。 Galaxy設計和Discovery 驗證流程針對宏力的流程技術進行了優(yōu)化，將幫助宏力的客戶縮短設計時間、降低集成成本，并將高級而復雜的IC設計所內(nèi)含的風險降至最低。

    中國科學院EDA中心主任葉甜春先生說道：“宏力的0.18微米參考設計流程的完成，對科研成果向產(chǎn)品的轉化起到積極的作用。中國科學院EDA中心將在其設計中采用此參考設計流程并提供長期的技術支持。”

    作為中國的頂尖代工廠， 宏力通過擁有先進技術水平的制造廠向全球客戶提供綜合全面的制造工藝。宏力目前支持0.25微米、0.22微米、0.18微米和0.15微米技術，并將很快支持0.13微米。