全球半導(dǎo)體微影技術(shù)領(lǐng)導(dǎo)廠商艾司摩爾(ASML)20日宣布，在臺積電、英特爾及三星三大晶圓廠力挺下，最先進的極紫外光(EUV)已連續(xù)四周平均妥善率逾八成，本季底前將完成三臺最新的EUV系統(tǒng)出貨。

EUV堪稱半導(dǎo)體設(shè)備發(fā)展以來最昂貴的設(shè)備，一臺售價高達9，000 萬歐元(約新臺幣36億元)，這項設(shè)備也是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)向更先進制程發(fā)展最關(guān)鍵設(shè)備，因此發(fā)展進度，一直各界關(guān)注焦點。

臺積電共同執(zhí)行長暨劉德音表示，臺積電本季將會再增購一臺EUV設(shè)備，不過臺積電將會于5奈米制程才會導(dǎo)入生產(chǎn)制程，顯示EUV的輸出率，目前仍處于試驗階段。

不過，ASML總裁暨執(zhí)行長溫彼得(Peter Wennink)昨天在公布第1季財報后，也針對EUV進展，公布重大突破。

他強調(diào)，ASML的目標(biāo)是在今年持續(xù)強化EUV系統(tǒng)的生產(chǎn)力和妥善率，并計畫在今將機臺生產(chǎn)力提升到每天曝光1，500片晶圓。

他說，今年首季，ASML的EUV系統(tǒng)即展現(xiàn)每天曝光350片晶圓的實力。在妥善率方面，三個客戶端的EUV系統(tǒng)都展現(xiàn)連續(xù)四周平均妥善率達80%以上的成果。

至于首季已出貨一臺最新EUV微影系統(tǒng)NXE:3350B，計劃第2季出貨兩臺EUV系統(tǒng)。

ASML首季也推出深紫外光(DUV)最新型浸潤式機臺NXT:1980，并出貨6臺，且快速將生產(chǎn)力拉升到每天4000片晶圓的水準(zhǔn)。這套系統(tǒng)將應(yīng)用在即將邁入試產(chǎn)的10奈米制程。

ASML也于本季推出最新一代的整合式量測系統(tǒng)YieldStar 350E，提供晶圓更準(zhǔn)確的量測結(jié)果來做后續(xù)分析。

ASML昨天公布首季營收13.3億歐元，毛利率42.6%，雙雙超標(biāo)，本季預(yù)期在客戶導(dǎo)入新的浸潤式機臺為10奈米量產(chǎn)做準(zhǔn)，且擴增28奈米制程產(chǎn)能，樂觀預(yù)期會有強勁成長。