應用材料公司宣布推出全新等離子體增強化學氣相沉積（PECVD）薄膜技術，用于制造適用于下一代平板電腦和電視的更高性能高分辨率顯示。這些源自應用材料公司業(yè)界領先的AKT-PECVD系統(tǒng)的先進絕緣薄膜，使得基于金屬氧化物的晶體管的應用成為可能，制造出尺寸更小、開關速度更快的像素，從而幫助客戶推出更受消費者歡迎的高分辨率顯示屏。

應用材料公司的全新PECVD設備沉積絕緣介電薄膜，為金屬氧化物晶體管提供了一個良好的層間界面，從而最大限度地減少了氫雜質，提高了晶體管的穩(wěn)定性，實現(xiàn)了顯示屏的優(yōu)化性能。這些高質量的二氧化硅（SiO2）薄膜可通過AKT-PECVD系統(tǒng)高度均勻地沉積到尺寸達9平方米的玻璃基板上，此工藝性能對于面板制造客戶獲得高產(chǎn)品良率和低制造成本至關重要。

“顯示屏制造企業(yè)正在積極投資金屬氧化物晶體管技術，我們先進的PECVD系統(tǒng)提供的薄膜技術可以解決這些復雜介質薄膜的均勻性和穩(wěn)定性問題，消除了這一重要新技術應用的主要障礙?！睉貌牧瞎炯瘓F副總裁兼AKT顯示事業(yè)部總經(jīng)理Tom

Edman表示，“通過在我們世界一流的AKT-PECVD系統(tǒng)上增添金屬氧化物介質薄膜沉積功能，應用材料公司為客戶提供了一個經(jīng)濟有效的途徑，幫助將這一新技術推向市場。在我們的系統(tǒng)上使用了這些新薄膜技術的客戶，已經(jīng)取得了很好的成果。目前，各大顯示屏制造企業(yè)對新系統(tǒng)以及系統(tǒng)升級的需求非常強勁。”

除了全新推出的PECVD薄膜之外，應用材料公司目前還在開發(fā)用于金屬氧化物制造的先進物理氣相沉積（PVD）解決方案，包括銦鎵鋅氧化物（IGZO）沉積。應用材料公司借助其最新的旋轉式陰極陣列技術，實現(xiàn)高度均勻、各向同質和低缺陷的半導體薄膜的沉積，相比現(xiàn)有的PVD解決方案，具有更高的生產(chǎn)效率和更低的原料消耗成本。

應用材料公司在FPD China 2012期間展示了該針對金屬氧化物薄膜晶體管液晶顯示制造的解決方案。

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