華亞科（3474）欲將2011年部分資本支出，提前在2010年啟動，以平均一臺浸潤式曝光顯影機臺約新臺幣12億元計算，推估華亞科提前挪用的資本支出金額約36億元，今年度等于二度上修資本支出，在今年底之前，若與南科（2408）合并計算，將有14臺機臺進廠，明顯勝出爾必達陣營。

華亞科總經理高啟全表示，2010年提前挪用的資本支出，大約就是42奈米的機臺數(shù)，由于進度順利，今年9月就開始投產，量產時間提前2 個月。

今年由ASML公司的浸潤式曝光顯影機臺，可說是奇貨可居，多數(shù)產能已經被臺積電、聯(lián)電、英特爾的一線廠包下，今年臺灣廠商拿到的機臺，是去年已經下訂的訂單，臺塑集團今年底之前合計有14臺進廠，瑞晶預計有5臺至6臺，力晶也期待有1臺至2臺進廠，依照業(yè)界經驗，平均一臺造價約12億元，約可貢獻1.5萬片產能。

華亞科除有可能調高資本支出之外，也正式宣布執(zhí)行副總接任的人選，該職位將由梅國勛（ Scott Meikle）接任，并于今年6月1日正式生效。梅國勛將接替前任執(zhí)行副總勒松言（ Michael W. Sadler）職務，勒松言會繼續(xù)擔任華亞科董事。