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[導(dǎo)讀]  研究了光電導(dǎo)天線產(chǎn)生太赫茲波的輻射特性,利用麥克斯韋方程及其邊界條件,計(jì)算了近遠(yuǎn)場(chǎng)的電場(chǎng)強(qiáng)度;采用電磁波時(shí)域有限差分方法(FDTD),在Matlab系統(tǒng)軟件中,用C語(yǔ)言編

  研究了光電導(dǎo)天線產(chǎn)生太赫茲波的輻射特性,利用麥克斯韋方程及其邊界條件,計(jì)算了近遠(yuǎn)場(chǎng)的電場(chǎng)強(qiáng)度;采用電磁波時(shí)域有限差分方法(FDTD),在Matlab系統(tǒng)軟件中,用C語(yǔ)言編寫程序計(jì)算光電導(dǎo)偶極天線的輻射太赫茲波的空間電磁場(chǎng)分布,并在計(jì)算機(jī)上以偽彩色圖形顯示,這種電磁場(chǎng)的可視化結(jié)果為天線的設(shè)計(jì)和改進(jìn)提供了直觀的物理依據(jù)。

  太赫茲波是指波長(zhǎng)范圍為3μm~3mm(011~10THz)之間的電磁輻射,其波段位于微波和紅外光之間。隨著超快激光技術(shù)和低尺度半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展,使THz電磁波的產(chǎn)生技術(shù),THz輻射機(jī)理的研究,THz檢測(cè)技術(shù)和應(yīng)用技術(shù)得到迅速的發(fā)展。目前,產(chǎn)生脈沖THz輻射的方法主要有兩種:光電導(dǎo)天線產(chǎn)生THz電磁波和光整流產(chǎn)生THz。前者是利用飛秒激光脈沖觸發(fā)直流偏置下的光電導(dǎo)體,通過相干電流驅(qū)動(dòng)偶極天線產(chǎn)生太赫茲輻射;光整流是一種非線性效應(yīng),是用飛秒激光脈沖和非線性介質(zhì)(LiNbO3,LiTaO3,ZnTe等)相互作用產(chǎn)生低頻極化場(chǎng)也可以輻射出THz電磁波。近年來(lái),國(guó)內(nèi)外有不少關(guān)于光電導(dǎo)天線產(chǎn)生THz電磁波的文獻(xiàn)報(bào)道。Darrow等對(duì)光電導(dǎo)天線產(chǎn)生太赫茲波的理論進(jìn)行了詳細(xì)的解釋,并且對(duì)砷化鎵(GaAs)和磷化銦(InP)作為光電導(dǎo)天線的基質(zhì)材料產(chǎn)生太赫茲輻射進(jìn)行了對(duì)比。Hattori等研究了大孔徑光電導(dǎo)天線產(chǎn)生太赫茲波的時(shí)間特性,考慮了半導(dǎo)體載流子壽命和弛豫時(shí)間對(duì)太赫茲輻射的影響。大孔徑光電導(dǎo)天線在強(qiáng)激光脈沖的照射下會(huì)產(chǎn)生飽和現(xiàn)象,Darrow等等分別進(jìn)行了理論模擬,得出了半導(dǎo)體表面的輻射電場(chǎng)對(duì)偏置電場(chǎng)的屏蔽效應(yīng)是產(chǎn)生飽和現(xiàn)象的主要原因。施衛(wèi)等對(duì)半絕緣砷化鎵(GaAs)天線產(chǎn)生太赫茲波的輻射特性進(jìn)行了相關(guān)研究。

  在國(guó)內(nèi)外研究的基礎(chǔ)上,對(duì)光電導(dǎo)天線產(chǎn)生太赫茲波的微觀機(jī)制進(jìn)行理論分析和計(jì)算,用麥克斯韋方程及其邊界條件計(jì)算了光電導(dǎo)體的表面電流和近遠(yuǎn)場(chǎng)的輻射電場(chǎng),通過計(jì)算可以看出近場(chǎng)條件下太赫茲波的輻射強(qiáng)度正比于表面電流,遠(yuǎn)場(chǎng)條件下太赫茲波的輻射強(qiáng)度正比于觸發(fā)光脈沖的寬度、功率和偏置電場(chǎng)的強(qiáng)度。對(duì)于理論分析的結(jié)果,采用時(shí)域有限差分方法(FDTD)計(jì)算了光電導(dǎo)天線的輻射特性。

  1光電導(dǎo)偶極天線結(jié)構(gòu)和理論分析

  1.1光電導(dǎo)偶極天線結(jié)構(gòu)

  半絕緣GaAs材料具有優(yōu)良的光電性能,是制作光電·材料肖健,等:飛秒激光觸發(fā)光電導(dǎo)天線產(chǎn)生太赫茲波的研究光電導(dǎo)天線很理想的基底材料GaAs材料的電阻率可以達(dá)到10^7~10^8,擊穿強(qiáng)度為250kV/cm;文中以半絕緣GaAs材料制成光電導(dǎo)偶極天線的芯片材料為例,介紹了光電導(dǎo)天線的結(jié)構(gòu)和尺寸參數(shù),給出直觀的示意圖。半絕緣GaAs材料暗態(tài)電阻率ρ=5×107Ωcm,載流子的濃度為n≈1014cm-3,載流子的遷移率為μ>5500cm2/(Vs),芯片的厚度為016mm,外形尺寸為610mm×910mm;用電子束蒸渡工藝淀積厚度為900nm的Au/Ge/Ni合金電極(條形天線),經(jīng)過退火處理與GaAs芯片材料形成歐姆接觸,電極尺寸為6mm×3mm,圓角半徑為111mm,兩電極間隙為3mm;絕緣保護(hù)層采用Si3N4薄膜材料,其結(jié)構(gòu)如圖1所示。

  

 

  1.2理論分析

  利用GaAs光電導(dǎo)天線產(chǎn)生太赫茲波的理論分析采用“電流源瞬沖模型”。該模型分析認(rèn)為,光電導(dǎo)體輻射的THz波是光電導(dǎo)體表面的瞬變電流激發(fā)產(chǎn)生。根據(jù)Maxwell方程,表面電流Js(t)表示為

  Js(t)=σs(t)(Eb+Es(t)) (1)

  其中,σt為時(shí)域表面電導(dǎo);Eb為偏置電場(chǎng),Es(t)為光電導(dǎo)體表面輻射電場(chǎng)。由Maxwell方程的邊界條件可以得到Js(t)與Es(t)之間的關(guān)系式

  

 

  這里η0表示空氣的阻抗,其大小為377;ε為光電導(dǎo)體相對(duì)介電常數(shù)。進(jìn)而可以得到表面輻射場(chǎng)與偏置電場(chǎng)之間的關(guān)系式

  

 

  在遠(yuǎn)場(chǎng)的情況下,假設(shè)是沿著光電導(dǎo)體的軸線探測(cè)THz波輻射場(chǎng),此時(shí)的THz輻射場(chǎng)可以表示為

  

 

  其中,A是光電導(dǎo)體電極間隙的光照面積;z表示輻射中心到觀察點(diǎn)之間的距離。

  根據(jù)以上的理論分析可以知,在近場(chǎng)條件下THz波的輻射強(qiáng)度正比于表面瞬態(tài)電流;在遠(yuǎn)場(chǎng)條件下THz電磁波強(qiáng)度決定于觸發(fā)光脈沖的強(qiáng)度。另外,光電導(dǎo)體的偶極芯片是產(chǎn)生THz的電極,同時(shí)又具有發(fā)射天線的作用,可以通過設(shè)計(jì)不同金屬天線的形狀和結(jié)構(gòu),提高天線的輻射效率。

  2電磁波時(shí)域有限差分方法(FDTD)

  2.1FDTD方程

  時(shí)域有限差分法主要思想是把Maxwell方程在空間和時(shí)間上離散化,用中心差商的形式代替連續(xù)微商,用差分方程代替一階微分方程,在時(shí)間軸上逐步推進(jìn)求解,以電場(chǎng)為例給出方程[!--empirenews.page--]

  

 

  其中,ε0表示真空中的介電常數(shù);μ0表示真空中的磁導(dǎo)率。

  對(duì)于磁場(chǎng)有類似的形式,只是系數(shù)部分會(huì)有所不同,將電場(chǎng)公式中的電導(dǎo)率換成磁導(dǎo)率、介電常數(shù)換成磁導(dǎo)系數(shù)就可以得到磁場(chǎng)的FDTD方程。

  2.2吸收邊界條件

  常用的吸收邊界條件包括Mur吸收邊界條件和完全匹配層(PML)吸收邊界條件,Mur吸收邊界條件適用于計(jì)算機(jī)性能較差和計(jì)算精度不高的情況下,PML吸收邊界條件對(duì)計(jì)算機(jī)的要求比較高,計(jì)算精度較高。文中采用PML吸收邊界條件。

  PML吸收邊界條件是由特殊的各向異性材料組成,完全匹配層為有耗介質(zhì),進(jìn)入PML層的透射波將迅速衰減,它對(duì)于入射波有較好的吸收效果。在FDTD邊界外部構(gòu)造一層虛擬的損耗媒質(zhì),使得在各個(gè)方向上的入射波在邊界上的反射很小,甚至為零。1994年Beernger以此思想構(gòu)造了一種非物理的吸收媒質(zhì),與FDTD網(wǎng)格外部邊界相連,其波阻抗具有與外向散射波的入射角和頻率均無(wú)關(guān)。以二維TE情況為例,在PML介質(zhì)中,Beernger為了引入規(guī)定損耗的新自由度,將Hz分裂為兩個(gè)分量Hzx和Hzy,且Hz=Hzx+Hzy。進(jìn)而將Maxwell方程改寫為

  σ和σ*分別表示自由空間中的電導(dǎo)率和導(dǎo)磁率。當(dāng)時(shí)σx=σy=σ3x=σ3y,式(6)就退化為自由空間中的Maxwell方程,所以可以認(rèn)為上式描述了一種普遍的情況,自由空間是其中一個(gè)特例。

  2.3用Matlab程序計(jì)算光電導(dǎo)天線輻射特性

  (1)編程中參數(shù)的選取。為了保證解的穩(wěn)定性和收斂性,離散網(wǎng)格邊長(zhǎng)取Δx=Δy=Δz=δ=λ/12;時(shí)間步長(zhǎng)取Δt=δ/2c,其中,c為自由空間的光速,以011THz的電磁波為例,x方向取115cm,y,z的取值與x相同;

  (2)設(shè)置激勵(lì)源。在計(jì)算中采用微分形式的高斯脈沖激勵(lì)源進(jìn)行模擬計(jì)算Ei(t)=[(t-t0)/τ]exp-[4π(t-t0)2]/τ2,其中,τ為常數(shù),決定了高斯脈沖的寬度;

  (3)編寫Matlab程序進(jìn)行計(jì)算。用C語(yǔ)言編寫計(jì)算程序,在Matlab710軟件中計(jì)算,硬件配置為酷睿單核116GHz,內(nèi)存1GB,運(yùn)行時(shí)間約為2分20秒,計(jì)算結(jié)果如圖2所示。

  

 

  用Matlab計(jì)算的光電導(dǎo)天線天線的輻射特性圖,如圖2所示,從圖形可以看出天線復(fù)變輻射的電磁場(chǎng)分布,可以加深對(duì)天線的工作原理的理解,為進(jìn)一步改進(jìn)天線的結(jié)構(gòu)提供了物理依據(jù),最終實(shí)現(xiàn)提高光電導(dǎo)天線輻射太赫茲波的功率和效率。

  3結(jié)束語(yǔ)

  通過對(duì)光電導(dǎo)天線的理論分析與計(jì)算,利用FDTD方法對(duì)天線的輻射特性進(jìn)行了分析,通過建模仿真編寫Matlab程序進(jìn)行具體計(jì)算,可以直觀看到天線的輻射圖形。從以上的結(jié)果分析可以看出,F(xiàn)DTD方法在電磁場(chǎng)數(shù)值計(jì)算中是一種比較實(shí)用可行的辦法。利用Matlab進(jìn)行仿真運(yùn)算,可以更加準(zhǔn)確形象的理解場(chǎng)的迭代和在邊界區(qū)域的吸收情況。在應(yīng)用FDTD方法時(shí)需要注意:在編程的過程中,網(wǎng)格的劃分具有重要的作用,一定要慎重處理;另外一個(gè)重要的因素是對(duì)激勵(lì)源的模擬,選擇合適的的激勵(lì)源形式以及用適當(dāng)?shù)姆椒▽⒓?lì)源加入到FDTD迭代計(jì)算中。

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