9月8日，第三屆“未來科學大獎”頒獎典禮上林本堅摘得三項大獎之一的“數學與計算機科學獎”。獎金為100萬美元獎金，使用方式不受限制。

林本堅一系列突破性的創(chuàng)新所開拓的浸潤式微影(也稱光刻)方法，革新了集成電路的制程，使先進半導體芯片的特征尺寸能持續(xù)縮減為細微納米量級，在過去十五年以及可預見的未來，為建造最強大的計算和通信系統(tǒng)做出了關鍵貢獻。

傳統(tǒng)的“干式”微影自1959年半導體工業(yè)界發(fā)明平面積成電路以來被持續(xù)使用了四十年，然而受限于基本光學衍射，在90年代后期，用該方法制造特征尺寸小于65納米的芯片面臨無法逾越的瓶頸。林本堅預見昂貴的“干式”微影技術將進入死角，建議使用浸潤式或“濕式”微影，該方法是一種新的微影工序，透過液體介質置換透鏡和晶圓表面之間的氣隙以提高光學解析精度。雖然原始的浸潤式概念在80年代曾提出過，但距離可實現的方法很遠。為使得全面表征及優(yōu)化浸潤式微影系統(tǒng)，林本堅定義了并導出了關鍵性能指標和縮放公式，為極高解析度的三維浸潤式微影光學系統(tǒng)規(guī)范了必須遵行的縮放定律。他還研發(fā)出克服液體中微氣泡形成的方法，開拓了在熱力學極限下，經由水而衍射的微影工序。他的一系列發(fā)明在科學和工程上證實了“濕式”微影方法可用于最先進的IC制程，他的突破性發(fā)明和持久的技術引領促使全球半導體工業(yè)界改用“濕式”微影方法。在過去的十五年中浸潤式微影方法用最有成本效益的193nm ArF為激光源顯影，將IC技術節(jié)點從65nm循產業(yè)路線圖持續(xù)降至7nm，使得摩爾定律得以持續(xù)延伸了七代。根據IEEE近期的數據統(tǒng)計，浸潤式微影技術制造了至少世界上80%的晶體管。

自六十年前發(fā)明集成電路以來，半導體技術推動了人類歷史上最大的工業(yè)及社會化革命。在慶祝集成電路誕生六十周年之際，將未來科學大獎的數學和計算機科學獎 - 授予這位極具成就的科學家和發(fā)明家，半導體工業(yè)界的英雄，“浸潤式微影之父”不僅恰當且意義深遠。

公眾號“知識分子”介紹稱，正是因為他的發(fā)明，影響了世界半導體產業(yè)發(fā)展的技術路徑，包括英特爾等在內的一大批國際巨頭由此舍棄耗資巨大的研究積累追隨其技術標準，從此造就了臺灣半導體的輝煌成就，對臺灣科技業(yè)發(fā)展貢獻巨大。

林本堅出生在越南，在臺灣上高中，并于1970年獲得美國俄亥俄州立大學電機工程博士。他在IBM不斷提高成像技術，一干就是22年。2000年，林本堅回到臺灣，加入了臺積電。 出席本屆未來科學大會頒獎禮的還有丁健、徐小平等捐贈人代表，饒毅、王曉東、謝曉亮、丁洪等科學委員會成員。

2016年，未來科學大獎正式設立，成為中國大陸第一個由科學家、企業(yè)家群體共同發(fā)起的民間科學獎項。一年一屆，未來科學大獎的頒獎對象不限國籍，但需要是在大中華地區(qū)(包含中國大陸地區(qū)、香港、澳門及臺灣)完成研究的科學家，且研究要具備原創(chuàng)性、長期重要性和巨大的國際影響。

2016年，首屆未來科學大獎的“生命科學獎”和“物質科學獎”得主分別為香港中文大學教授盧煜明和清華大學教授薛其坤。

2017年，未來科學大獎增設“數學與計算機科學獎”。

2018年，未來科學大獎新增6名科學委員會成員。