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[導(dǎo)讀]可靠性(Reliability)是對產(chǎn)品耐久力的測量, 我們主要典型的IC產(chǎn)品的生命周期可以用一條浴缸曲線(Bathtub Curve)來表示。

可靠性(Reliability)是對產(chǎn)品耐久力的測量, 我們主要典型的IC產(chǎn)品的生命周期可以用一條浴缸曲線(Bathtub Curve)來表示。

如上圖示意, 集成電路的失效原因大致分為三個(gè)階段:

Region (I) 被稱為早夭期(Infancy period), 這個(gè)階段產(chǎn)品的失效率快速下降,造成失效的原因在于IC設(shè)計(jì)和生產(chǎn)過程中的缺陷;

Region (II) 被稱為使用期(Useful life period), 這個(gè)階段產(chǎn)品的失效率保持穩(wěn)定,失效的原因往往是隨機(jī)的,比如溫度變化等等;

Region (III) 被稱為磨耗期(Wear-Out period) 這個(gè)階段產(chǎn)品的失效率會快速升高,失效的原因就是產(chǎn)品的長期使用所造成的老化等。

軍工級器件老化篩選

元器件壽命試驗(yàn)

ESD等級、Latch_up測試評價(jià)

高低溫性能分析試驗(yàn)

集成電路微缺陷分析

封裝缺陷無損檢測及分析

電遷移、熱載流子評價(jià)分析

根據(jù)試驗(yàn)等級分為如下幾類:

一、使用壽命測試項(xiàng)目(Life test items)

EFR:早期失效等級測試( Early fail Rate Test )

目的:評估工藝的穩(wěn)定性,加速缺陷失效率,去除由于天生原因失效的產(chǎn)品

測試條件:在特定時(shí)間內(nèi)動態(tài)提升溫度和電壓對產(chǎn)品進(jìn)行測試

失效機(jī)制:材料或工藝的缺陷,包括諸如氧化層缺陷,金屬刻鍍,離子玷污等由于生產(chǎn)造成的失效

參考標(biāo)準(zhǔn):

JESD22-A108-A

EIAJED- 4701-D101

HTOL/ LTOL:高/低溫操作生命期試驗(yàn)(High/ Low Temperature Operating Life )

目的:評估器件在超熱和超電壓情況下一段時(shí)間的耐久力

測試條件: 125℃,1.1VCC, 動態(tài)測試

失效機(jī)制:電子遷移,氧化層破裂,相互擴(kuò)散,不穩(wěn)定性,離子玷污等

參考數(shù)據(jù):

125℃條件下1000小時(shí)測試通過IC可以保證持續(xù)使用4年,2000小時(shí)測試持續(xù)使用8年;150℃ 1000小時(shí)測試通過保證使用8年,2000小時(shí)保證使用28年

參考標(biāo)準(zhǔn):

MIT-STD-883E Method 1005.8

JESD22-A108-A

EIAJED- 4701-D101

二、環(huán)境測試項(xiàng)目(Environmental test items)

PRE-CON:預(yù)處理測試( Precondition Test )

目的:模擬IC在使用之前在一定濕度,溫度條件下存儲的耐久力,也就是IC從生產(chǎn)到使用之間存儲的可靠性

THB:加速式溫濕度及偏壓測試(Temperature Humidity Bias Test )

目的:評估IC產(chǎn)品在高溫,高濕,偏壓條件下對濕氣的抵抗能力,加速其失效進(jìn)程

測試條件:85℃,85%RH, 1.1 VCC, Static bias

失效機(jī)制:電解腐蝕

參考標(biāo)準(zhǔn):

JESD22-A101-D

EIAJED- 4701-D122

高加速溫濕度及偏壓測試(HAST: Highly Accelerated Stress Test )

目的:評估IC產(chǎn)品在偏壓下高溫,高濕,高氣壓條件下對濕度的抵抗能力,加速其失效過程

測試條件:130℃, 85%RH, 1.1 VCC, Static bias,2.3 atm

失效機(jī)制:電離腐蝕,封裝密封性

參考標(biāo)準(zhǔn):

JESD22-A110

PCT:高壓蒸煮試驗(yàn) Pressure Cook Test (Autoclave Test)

目的: 評估IC產(chǎn)品在高溫,高濕,高氣壓條件下對濕度的抵抗能力,加速其失效過程

測試條件:130℃, 85%RH, Static bias,15PSIG(2 atm)

失效機(jī)制:化學(xué)金屬腐蝕,封裝密封性

參考標(biāo)準(zhǔn):

JESD22-A102

EIAJED- 4701-B123

*HAST與THB的區(qū)別在于溫度更高,并且考慮到壓力因素,實(shí)驗(yàn)時(shí)間可以縮短,而PCT則不加偏壓,但濕度增大。

TCT:高低溫循環(huán)試驗(yàn)(Temperature Cycling Test )

目的:評估IC產(chǎn)品中具有不同熱膨脹系數(shù)的金屬之間的界面的接觸良率。方法是通過循環(huán)流動的空氣從高溫到低溫重復(fù)變化

測試條件:

Condition B:-55℃ to 125℃

Condition C: -65℃ to 150℃

失效機(jī)制:電介質(zhì)的斷裂,導(dǎo)體和絕緣體的斷裂,不同界面的分層

參考標(biāo)準(zhǔn):

MIT-STD-883E Method 1010.7

JESD22-A104-A

EIAJED- 4701-B-131

TST:高低溫沖擊試驗(yàn)(Thermal Shock Test )

目的:評估IC產(chǎn)品中具有不同熱膨脹系數(shù)的金屬之間的界面的接觸良率。方法是通過循環(huán)流動的液體從高溫到低溫重復(fù)變化

測試條件:

Condition B: - 55℃ to 125℃

Condition C: - 65℃ to 150℃

失效機(jī)制:電介質(zhì)的斷裂,材料的老化(如bond wires), 導(dǎo)體機(jī)械變形

參考標(biāo)準(zhǔn):

MIT-STD-883E Method 1011.9

JESD22-B106

EIAJED- 4701-B-141

* TCT與TST的區(qū)別在于TCT偏重于package 的測試,而TST偏重于晶園的測試

HTST:高溫儲存試驗(yàn)(High Temperature Storage Life Test )

目的:評估IC產(chǎn)品在實(shí)際使用之前在高溫條件下保持幾年不工作條件下的生命時(shí)間

測試條件:150℃

失效機(jī)制:化學(xué)和擴(kuò)散效應(yīng),Au-Al 共金效應(yīng)

參考標(biāo)準(zhǔn):

MIT-STD-883E Method 1008.2

JESD22-A103-A

EIAJED- 4701-B111

可焊性試驗(yàn)(Solderability Test )

目的:評估IC leads在粘錫過程中的可靠度

測試方法:

Step1:蒸汽老化8 小時(shí)

Step2:浸入245℃錫盆中 5秒

失效標(biāo)準(zhǔn)(Failure Criterion):至少95%良率

具體的測試條件和估算結(jié)果可參考以下標(biāo)準(zhǔn)

MIT-STD-883E Method 2003.7

JESD22-B102

SHT Test:焊接熱量耐久測試( Solder Heat Resistivity Test )

目的:評估IC 對瞬間高溫的敏感度

測試方法:侵入260℃ 錫盆中10秒

失效標(biāo)準(zhǔn)(Failure Criterion):根據(jù)電測試結(jié)果

具體的測試條件和估算結(jié)果可參考以下標(biāo)準(zhǔn)

MIT-STD-883E Method 2003.7

EIAJED- 4701-B106

三、耐久性測試項(xiàng)目(Endurance test items )

周期耐久性測試(Endurance Cycling Test )

目的:評估非揮發(fā)性memory器件在多次讀寫算后的持久性能

Test Method:將數(shù)據(jù)寫入memory的存儲單元,在擦除數(shù)據(jù),重復(fù)這個(gè)過程多次

測試條件:室溫,或者更高,每個(gè)數(shù)據(jù)的讀寫次數(shù)達(dá)到100k~1000k

參考標(biāo)準(zhǔn):

MIT-STD-883E Method 1033

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