2020年9月23日，奧地利，圣弗洛里安——為微機電系統(tǒng)（MEMS）、納米技術和半導體市場提供晶圓鍵合與光刻設備的領先供應商EV Group（EVG）今天推出LITHOSCALE?無掩模曝光系統(tǒng)，該系統(tǒng)也是首個采用EV集團（EVG）革命性技術MLE?（無掩膜曝光）的產(chǎn)品平臺。

據(jù)悉，EV Group開發(fā)的LITHOSCALE旨在滿足多種市場和應用的光刻需求，提供高度靈活性，可用于豐富產(chǎn)品種類，包括先進封裝、MEMS、生物醫(yī)學和集成電路（IC）基板制造。LITHOSCALE具有極高分辨率，且不受照射場限制，強大的數(shù)字處理能力能夠進行實時數(shù)據(jù)傳輸和即時曝光，有助于實現(xiàn)高度可擴展的設計。LITHOSCAL也因此而成為了全球首個用于大批量生產(chǎn)（HVM）的無掩模光刻系統(tǒng)，生產(chǎn)率與市場上現(xiàn)有的無掩模曝光系統(tǒng)相比提高了5倍。當前，EV Group已收到多份LITHOSCALE訂單，將于今年晚些時候開始為客戶發(fā)貨。

今年的臺灣國際半導體展（SEMICON Taiwan）將于9月23日至25日在臺北南港展覽館1館（TaiNEX 1）舉行，屆時EV Group高管將向與會者介紹LITHOSCALE產(chǎn)品。

（EV Group的無掩模曝光系統(tǒng)LITHOSCALE?為批量生產(chǎn)提供數(shù)字光刻技術優(yōu)勢）

光刻技術的新要求

3D集成和異構集成，對于實現(xiàn)半導體器件性能的持續(xù)改進發(fā)揮著日益重要的作用。這種趨勢導致封裝復雜性和封裝選項的數(shù)量都不斷增加，推動了用戶對設計靈活性的需求，要求設計方案能夠在后端光刻中同時采用管芯級和晶圓級設計。MEMS的產(chǎn)品組合非常復雜，也給光刻技術帶來了挑戰(zhàn)，令掩模/光罩的成本水漲船高。在IC基板和生物醫(yī)學市場，用戶需要更靈活的構圖功能，以滿足不同功能和基板尺寸的要求。在生物技術應用領域，快速制造原型的能力越來越重要，靈活的“隨時可用”型可擴展光刻技術的需求也隨之增加。

基于掩模的傳統(tǒng)光刻解決方案已經(jīng)無法滿足以上多種應用的需求，特別是需要快速完成原型設計和新產(chǎn)品測試的應用，以及需要高度定制解決方案的應用。這些應用都需要完成掩膜的批量生產(chǎn)、測試和返工，其成本和時間有可能迅速增加。此外，在先進封裝領域，現(xiàn)有的后端光刻系統(tǒng)也面臨著非線性高階基板變形和與芯片移位等問題的困擾，特別是在扇出晶圓級封裝（FOWLP）的晶圓芯片重構之后。另一方面，現(xiàn)有的無掩模光刻技術也無法滿足批量生產(chǎn)環(huán)境對速度、分辨率和易用性的要求。

LITHOSCALE技術的問世，使設計靈活性、高可擴展性、提高生產(chǎn)率，以及降低擁有成本等方面的問題迎刃而解。該技術采用無掩模方法，無需使用掩模相關耗材，可調(diào)諧固態(tài)激光曝光源可實現(xiàn)高冗余度和穩(wěn)定的長期使用壽命，且?guī)缀鯚o需維護，也無需重新校準。它具有強大的數(shù)字處理功能，可實現(xiàn)實時數(shù)據(jù)傳輸和即時曝光，避免了其他無掩模光刻系統(tǒng)為每一種數(shù)字掩模布局所花費的設置時間。該系統(tǒng)能夠進行單獨的芯片處理，實現(xiàn)快速全場定位和動態(tài)對準，為不同尺寸和形狀的基板賦予高可擴展性，是一種適用于各種微電子生產(chǎn)應用的高度通用型無掩模光刻平臺。

LITHOSCALE?采用無掩模方法，無需使用掩模相關耗材，可調(diào)諧固態(tài)激光曝光源可實現(xiàn)高冗余度和穩(wěn)定的長期使用壽命，且?guī)缀鯚o需維護，也無需重新校準。

EV Group執(zhí)行技術總監(jiān)Paul Lindner表示：“LITHOSCALE是EV Group的重大成就，它確立了EV集團（EVG）在光刻技術領域的領導地位，也為數(shù)字光刻的新機遇打開了大門。LITHOSCALE一開始就被設計為高度靈活的可擴展平臺，使批量設備制造商最終得以利用數(shù)字光刻技術的優(yōu)勢。我們的客戶與合作伙伴利用這種技術進行了多項產(chǎn)品演示，表明LITHOSCALE能夠使多種應用受益，而且范圍正在不斷擴大?！?/span>

產(chǎn)品詳情

LITHOSCALE擁有強大的數(shù)字基礎架構，能夠?qū)崿F(xiàn)實時掩膜布局變化（“裝入即執(zhí)行”），可對整個基板表面進行高分辨率（小于2微米L/S）無針無掩模曝光，且不會影響生產(chǎn)率。同時，該技術還采用了多重曝光頭配置，可實現(xiàn)高度并行處理，取得最大化生產(chǎn)率。LITHOSCALE能夠為超過當前標線尺寸的中間層生成無針圖案，這種功能對于應用在先進圖形處理、人工智能（AI）和高性能計算（HPC）等復雜布局的先進設備尤為實用。該系統(tǒng)的高精度與無失真光學元件和貼裝精度相匹配，能夠在整個基板上進行無縫投射。此外，LITHOSCALE還采用了動態(tài)對準模式和具有自動聚焦功能的芯片級補償，能夠適應不同的基板材料和表面，并且保持最佳覆蓋性能。LITHOSCALE適用于各種尺寸和形狀的基板（最大直徑為300毫米的晶片和最大為四分之一面板的矩形基板），以及各類基板和抗蝕材料。

EV Group將在臺灣國際半導體展（SEMICON Taiwan）上展示LITHOSCALE以及完整的晶圓鍵合、光刻和抗蝕處理套件。有興趣了解詳細信息的與會者，可以在＃L0316展位參觀EV集團的展示。

關于EV Group

EV Group是為半導體、微機電系統(tǒng)（MEMS）、化合物半導體、功率器件和納米技術器件制造提供設備與工藝解決方案的領先供應商。其主要產(chǎn)品包括：晶圓鍵合、薄晶圓處理、光刻/納米壓?。∟IL）與計量設備，以及涂膠機、清洗機和檢測系統(tǒng)。EV Group成立于1980年，可為遍及全球的眾多客戶和合作伙伴提供各類服務與支持。