EUV光刻機(jī)是制造7nm以下節(jié)點(diǎn)先進(jìn)工藝的必備工具，目前國(guó)內(nèi)還沒(méi)有EUV設(shè)備。作為國(guó)內(nèi)最先進(jìn)的晶圓代工廠，中芯國(guó)際董事長(zhǎng)周子學(xué)日前表態(tài)，該公司已經(jīng)量產(chǎn)和研發(fā)的工藝還不需要EUV光刻機(jī)。

光刻是半導(dǎo)體芯片制造中最費(fèi)時(shí)間也是最費(fèi)成本的環(huán)節(jié)之一，而且它決定了芯片的工藝水平，常說(shuō)的XXnm工藝主要是看光刻機(jī)水平，10nm工藝之后難度越來(lái)越大，光刻機(jī)也需要升級(jí)到EUV級(jí)別。

臺(tái)積電在第一代7nm工藝上沒(méi)有使用EUV光刻機(jī)，但是7nm之后的工藝就很難避開(kāi)EUV光刻機(jī)了，理論上可以用多重曝光的方式制造5nm級(jí)別的芯片，但是成本、良率都是個(gè)問(wèn)題，無(wú)法拒絕EUV光刻機(jī)。

目前EUV光刻機(jī)只有荷蘭ASML公司才能生產(chǎn)，單臺(tái)售價(jià)超過(guò)1.2億歐元，約合10億元一臺(tái)，此前報(bào)道稱中芯國(guó)際訂購(gòu)了一臺(tái)EUV光刻機(jī)用于先進(jìn)工藝研發(fā)，本應(yīng)該在2019年交付，不過(guò)ASML公司一直沒(méi)被批準(zhǔn)出售。

日前在回應(yīng)投資者提問(wèn)時(shí)，中芯國(guó)際董事長(zhǎng)兼執(zhí)行董事周子學(xué)表示，關(guān)于設(shè)備采購(gòu)公司依據(jù)相關(guān)商業(yè)協(xié)議進(jìn)行，不對(duì)單一設(shè)備的采購(gòu)情況進(jìn)行評(píng)論。公司目前量產(chǎn)和主要在研項(xiàng)目暫不需用到EUV光刻機(jī)。

根據(jù)中芯國(guó)際之前所說(shuō)，在14nm工藝之后，中芯國(guó)際還有N+1、N+2代工藝，其中N+1工藝相比于14nm性能提升20％、功耗降低57％、邏輯面積縮小63％，SoC面積縮小55％，之后的N+2工藝性能和成本都更高一些，這兩個(gè)工藝都不需要EUV光刻機(jī)。

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