極紫外光刻(Extreme Ultra-violet),常常被稱作EUV光刻。光刻機(jī)決定著半導(dǎo)體工藝的制程工藝，7nm以及以上的工藝離不開EUV光刻機(jī)，EUV光刻技術(shù)使晶體管密度和性能都變得更好。因而EUV光刻機(jī)成為眾多半導(dǎo)體廠商的心頭之好。

有消息稱，荷蘭政府將根據(jù)瓦森納國(guó)際協(xié)議，禁止阿斯邁公司向中國(guó)出口極紫外光刻機(jī)。美國(guó)施壓荷蘭，禁止向中國(guó)出口 EUV 光刻機(jī)，美國(guó)方面為“阻止荷蘭向中國(guó)出售芯片制造技術(shù)”，暗中進(jìn)行了大量工作。據(jù)悉，美國(guó)的單方面 “阻止運(yùn)動(dòng)” 開始于 2018 年，荷蘭政府向 ASML 發(fā)放了出口許可證，允許其向中國(guó)公司中芯科技出口一臺(tái)價(jià)值 1.5 億美元的 EUV 光刻機(jī)。

據(jù)消息人士透露，在荷蘭政府發(fā)放出口許可證之后的幾個(gè)月中，美國(guó)的政府官員仔細(xì)研究了他們是否可以徹底阻止出售，并與荷蘭政府相關(guān)人士進(jìn)行了至少四輪談判。

而對(duì)于此前已經(jīng)購(gòu)買的價(jià)值 1.5 億美元的 EUV 光刻機(jī)，原計(jì)劃應(yīng)在 2019 年年初就交付到中國(guó)。不過，后來 ASML 方面因倉(cāng)庫(kù)遇火延后了 EUV 光刻機(jī)的交付時(shí)間，改為在 2020 年的年中交付。

在媒體首次報(bào)道延遲交貨時(shí)，荷蘭 ASML 公司表示，公司仍在等待新許可證申請(qǐng)的批準(zhǔn)，并拒絕進(jìn)一步給予評(píng)論。

另外，對(duì)于美國(guó)政府的施壓的說法，荷蘭外交部發(fā)言人在 1 月 15 日表示，在決定是否簽發(fā)出口許可證時(shí)，荷蘭政府要權(quán)衡經(jīng)濟(jì)和安全利益。

關(guān)于此事，中國(guó)方面也表明了態(tài)度。2020 年 1 月 17 日，據(jù)《金融時(shí)報(bào)》報(bào)道，中國(guó)駐荷蘭大使徐宏在采訪中表示，如果媒體報(bào)道屬實(shí)，即如美國(guó)向荷蘭施壓，荷蘭政府因此不再批準(zhǔn)向中國(guó)出口 EUV 光刻機(jī)，那么這種做法就是典型的將商業(yè)問題政治化。按照相關(guān)法律及國(guó)際協(xié)議，美國(guó)沒有理由要求荷方限制 ASML 對(duì)華出口。

另外，徐宏還表示，希望荷蘭政府能綜合考慮自身利益、荷蘭企業(yè)利益，本著公平貿(mào)易及法治的精神，作出正確判斷。如果荷蘭政府在政策取向上追隨美國(guó)，基于政治原因?qū)χ泻山?jīng)貿(mào)往來施加不公平的限制，毫無疑問將會(huì)影響兩國(guó)合作。因?yàn)樗械暮献鞫紤?yīng)當(dāng)是對(duì)等互惠的。

EUV 光刻機(jī)是何物?

在主流微電子制造過程中，光刻是最復(fù)雜、昂貴和關(guān)鍵的工藝，占總成本的 1/3;目前的 28nm工藝則需要 20 道以上光刻步驟，耗費(fèi)時(shí)間約占整個(gè)硅片工藝的 40-60%。

光刻工藝決定著整個(gè) IC 工藝的特征、尺寸，代表著工藝技術(shù)發(fā)展水平。由于高技術(shù)要求，光刻機(jī)制造難度極大，全世界只有少數(shù)幾家公司能夠制造，主要有 ASML、Nikon 和 Canon 等。

而 EUV 光刻機(jī)作為現(xiàn)今最先進(jìn)的芯片制造設(shè)備，是唯一能夠生產(chǎn) 7nm 以下制程的設(shè)備，因此，其也被稱為“突破摩爾定律的救星”。也就是說，必須使用 EUV 光刻機(jī)才能使半導(dǎo)體芯片進(jìn)入 7nm，甚至 5nm 時(shí)代。

在 EUV 光刻機(jī)的生產(chǎn)上，ASML 公司是該領(lǐng)域的領(lǐng)軍企業(yè)，同時(shí)也是全球唯一能生產(chǎn) EUV 的企業(yè)。

據(jù)了解，ASML 的設(shè)備使用由激光產(chǎn)生，并通過巨型鏡子聚焦的極紫外光束，在硅片上鋪設(shè)非常狹窄的電路。這能讓廠商制造更快、更強(qiáng)大的微處理器、內(nèi)存芯片和其他先進(jìn)元件;而這些元件不論是對(duì)消費(fèi)類電子產(chǎn)，還是對(duì)軍事應(yīng)用來說都至關(guān)重要。

目前，國(guó)內(nèi)光刻機(jī)廠商有上海微電子、中電科集團(tuán)四十五研究所、合肥芯碩半導(dǎo)體等，但由于技術(shù)難度巨大，但短期內(nèi)還是處于相對(duì)劣勢(shì)的地位。我國(guó)光刻機(jī)與世界先進(jìn)水平的差距在于制造工藝的差距，唯有突破技術(shù)，才能突破封鎖。