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[導(dǎo)讀]一. MID 立體基板 與 傳統(tǒng) 平面 電路板PCB電子成品的設(shè)計制造朝向輕薄短小,電路板也明顯朝細線路化、多層化發(fā)展,在成品體積的控制上,則講求省空間及合理化的要求。基于組裝方便及配線容易的技術(shù)性考慮,早在1987

 

一. MID 立體基板 與 傳統(tǒng) 平面 電路板PCB

電子成品的設(shè)計制造朝向輕薄短小,電路板也明顯朝細線路化、多層化發(fā)展,在成品體積的控制上,則講求省空間及合理化的要求。

基于組裝方便及配線容易的技術(shù)性考慮,早在1987 年問世的立體基板(MID)預(yù)期未來使用將更普及。,MID 即為 Molded Interconnect Device 的簡稱,即模制互連組件之意,為塑料射出成形的零件,表面作出有三次元立體電線回路;在工業(yè)上代表性的有手機內(nèi)不外露隱藏式天線、日本著名手表LED 發(fā)光另件等,主要取其節(jié)省空間、組裝容易、高良率的優(yōu)點。

同樣地, 一般傳統(tǒng)平面印制板PCB, 為了要輕薄短小,已由雙面板, 四層板(PC主機板), 六層板,八層板十二層板, 甚至于發(fā)展到 HDI ( High Density Interconnect) 高密度互連技術(shù)的多層板,線寬 / 線距 L /S (Line / Space) 甚至到 2 / 2 ( Mils) , 即 50 微米的微細線路, 以便適用于IC 芯片封裝腳數(shù)越來越多的要求.主要用于信息,通訊產(chǎn)品的主機板.在一 個成品里面, 以上兩者的用途, 有時是互補的.

二. 立體基板 MID 的 制造方式

MID 立體基板的制造方式,基本上, 分為 薄膜法 ( FILM TECHNIQUE, 有 CAPTURE PROCESS, TRANSFER PROCESS, HOT STAMPING 等三類 ) 即將導(dǎo)電材料開始作成個別的軟性薄膜, 而后用上述三法之一附到射出模具塑料上.

另有 一次成型, 即 PHOTOIMAGIING 影像轉(zhuǎn)移法, 以及二次成型 共三種.

關(guān)于一次成型,即 PHOTOIMAGIING 影像轉(zhuǎn)移法, 過程采電鍍級樹脂射出成型,如PES、LCP 液晶樹脂、環(huán)氧樹脂、SPS 等,經(jīng)粗化、觸媒涂怖、化學(xué)銅、電著
光阻(EDPR)、曝光顯影,電鍍、蝕刻、剝膜、電鍍而成。

而二次成型法有PCK 及SKW 兩種, 先以可電鍍級樹脂一次成型,經(jīng)粗化、觸媒涂布、二次成型、粗化及化學(xué)銅、電鍍而成。

以一次成型影像轉(zhuǎn)移法的成型性及線路細線化較佳。目前MID 在IC 包裝、MCM包裝、LED CASE 連接器、水晶振動CASE、以及各種EMI 電磁波防護零件使用也看好,日本已有多家量產(chǎn),臺灣專業(yè)的MID 廠正處于萌芽階段, 有少數(shù)公司正以電著涂裝技術(shù)跨入電著光阻領(lǐng)域,再結(jié)合塑料射出,電鍍及最重要的主體-- 客戶研發(fā)中.

三. 電泳光阻法簡介

PCB 印制板依線路的粗細, 由網(wǎng)板(SCREEN)印刷(不曝光),干膜(DRY FILM)光阻 ,及濕膜(WET OR LIQUID)光阻 , 電泳光阻(ELECTRODEPOSITION PHOTO RESIST,EDPR) ,膜厚越來越細, 正型光阻只有 6 微米.可制成的線寬線距 也越來越小 ,可作精密PCB 的內(nèi)層 , BGA 等用途.

而以上發(fā)方法中, 唯有EDPR 可以作出 3D 立體均勻涂膜.

電泳涂裝, 在臺灣 或 日本 一般都稱為 電著涂裝. 如涂料內(nèi)含有感光劑, 對紫外線UV 感光,則為電泳光阻, 有正型及負型光阻兩種 . 正型光阻為UV 曝光號分解 , 故有較細通孔(PTH)時, 以正型光阻為佳. 由于要曝光立體成型的塑料品, 因此曝光高低段差 ( 或3 mm以下) , PTH(0.8 mm 以上)線路粗細等都有限制.

日本及臺灣開發(fā)的正負型電泳光阻多是丙烯酸系列樹脂, 美國方面則有PU 系列的正型光阻.

丙烯酸系列電泳光阻與一般陰極環(huán)氧樹脂電泳涂料的主要不同在于黏度較高,故操作固成份較低,而板材的前處理則要求更為嚴格.

MASK(光罩) 的制造為本法的重點. 必須作出符合3D 曝光的底片才可行.

整個MID 的電泳光阻法制程,如前所述, 約略如下: 1.電鍍級樹脂射出成型,如PES、LCP 液晶樹脂、環(huán)氧樹脂、SPS 等,2.經(jīng)粗化、觸媒涂怖、化學(xué)銅、3.電著光阻(EDPR)、4. 曝光顯影,5. 電鍍 Ni/Pb, Ni/Au、6. 剝膜、蝕刻、而成。約略有六個步驟.

正型及負型光阻略有不同.此 EDPR 法可作較精細線路上.

四. MID 的未來潛力

目前, 德國 , 日本, 及美國為MID 研發(fā)的主要國家. 日本的發(fā)展用于傳統(tǒng)電路板PCB 的輕薄短小及特殊機能較多. 而德國方面稱為 3D-MID 的研發(fā)用于較大型的另件如汽車控制工程, 強調(diào) 1. 設(shè)計的自由 ,機電合一, 小型化,新機能, 多型化. 2. 合理化, 少零件, 少制程 ,少材料, 高可靠度 3. 符合環(huán)保, 均一材料, 可回收, 用料省, 無害處置最近幾年的年率成長都在25%以上, 未來成長可期.

 



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