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在嵌入式系統(tǒng)與電子設備中,有一種特殊的存儲介質既能像ROM一樣長期保存數(shù)據(jù),又能通過電信號靈活改寫內(nèi)容,這就是EEPROM(Electrically Erasable Programmable Read-Only Memory,電可擦寫可編程只讀存儲器)。從智能手表的用戶設置到汽車ECU的校準參數(shù),EEPROM憑借其“斷電不丟失數(shù)據(jù)”且“可重復修改”的特性,成為存儲關鍵信息的核心組件。深入探究EEPROM的工作原理,不僅能理解數(shù)據(jù)如何在半導體中實現(xiàn)電擦寫,更能洞察其在電子設備中的不可替代價值。

核心結構:浮柵晶體管的電荷存儲藝術

EEPROM的核心存儲單元由一只特殊的“浮柵場效應晶體管”(Floating Gate Field-Effect Transistor,簡稱浮柵管)構成,其精妙之處在于通過柵極結構的設計,實現(xiàn)電荷的“捕獲”與“釋放”,從而穩(wěn)定存儲二進制數(shù)據(jù)。 
浮柵管的結構包含兩個柵極——控制柵(Control Gate)和浮柵(Floating Gate),兩者之間被一層極薄的氧化層(通常為二氧化硅,厚度僅5-10納米)分隔,浮柵下方則通過另一層氧化層與半導體襯底(通常為P型硅)隔離。這種結構讓浮柵成為一個被絕緣層包裹的“電荷陷阱”:當電子被注入浮柵后,會被氧化層的絕緣特性禁錮其中,即使斷電也能長期保留;而通過特定的電信號刺激,這些電子又能被“引誘”離開浮柵,實現(xiàn)數(shù)據(jù)的擦除。 
在初始狀態(tài)下,浮柵中沒有額外電子,此時在控制柵施加電壓,晶體管會導通,對應二進制數(shù)據(jù)“1”;當需要寫入“0”時,通過電信號將電子注入浮柵,負電荷會削弱控制柵的電場,使晶體管導通所需的電壓升高(即閾值電壓上升),此時即使施加常規(guī)電壓,晶體管也保持截止狀態(tài)。通過檢測晶體管的導通狀態(tài),就能判斷存儲的是“0”還是“1”,這就是EEPROM存儲數(shù)據(jù)的基本原理。 
與早期的EPROM(紫外線可擦除ROM)相比,EEPROM的浮柵與襯底之間的氧化層更薄,且控制柵的電壓控制方式更精細,這使得它無需依賴紫外線照射,僅通過電信號就能完成擦寫,為在線編程提供了可能。

工作機制:寫入、擦除與讀取的電信號操控 

EEPROM的工作過程圍繞“電荷遷移”展開,寫入、擦除和讀取三個操作分別對應不同的電信號施加方式,每個環(huán)節(jié)都需要精確控制電壓、時間和電流,以確保數(shù)據(jù)的穩(wěn)定性與可靠性。 
寫入操作的核心是將電子注入浮柵,主要通過“熱電子注入”或“Fowler-Nordheim隧道效應”兩種方式實現(xiàn)。熱電子注入時,控制柵被施加高電壓(通常12-20V),同時源極接地、漏極施加中等電壓,此時溝道中的電子獲得足夠能量(“熱電子”),會沖破浮柵下方的氧化層進入浮柵;隧道效應法則是在控制柵施加負電壓、襯底施加正電壓,使浮柵與襯底之間形成強電場,電子在電場作用下通過量子隧道效應穿過氧化層進入浮柵?,F(xiàn)代EEPROM多采用隧道效應,因其對氧化層的損傷更小,能延長器件壽命。寫入過程通常需要幾微秒到幾十微秒,且每個字節(jié)可獨立寫入,這與需要按塊操作的Flash存儲器形成顯著區(qū)別。 
擦除操作則是讓浮柵中的電子釋放,本質是寫入的逆過程。此時控制柵施加正電壓,襯底接地(或施加負電壓),浮柵與襯底之間的強電場使電子從浮柵通過隧道效應回到襯底,浮柵恢復無額外電荷的狀態(tài),晶體管的閾值電壓降低,回到“1”的狀態(tài)。與寫入相同,EEPROM支持字節(jié)級擦除,無需像Flash那樣整體擦除一塊數(shù)據(jù),這使其在需要頻繁修改少量數(shù)據(jù)的場景中極具優(yōu)勢——例如修改傳感器的校準參數(shù)時,只需擦除對應字節(jié)再重新寫入,無需動及其他數(shù)據(jù)。 
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