援引俄羅斯塔斯社最新消息，俄羅斯自研的首臺光刻機(jī)已經(jīng)制造完成，目前正在進(jìn)行測試。

俄羅斯聯(lián)邦工業(yè)和貿(mào)易部副部長瓦西里·什帕克（Vasily·Shpak）告訴媒體：“我們制造并組裝了第一臺國產(chǎn)光刻機(jī)，作為澤廖諾格勒（莫斯科衛(wèi)星城）技術(shù)生產(chǎn)線的一部分，該設(shè)備可確保生產(chǎn) 350nm 的芯片！”

盡管 350nm 比現(xiàn)階段全球主流成熟制程工藝都落后不少，但在俄羅斯看來，它仍然能在汽車、能源和電信等諸多行業(yè)中發(fā)揮不小的應(yīng)用價值。

值得一提的是，據(jù)說俄羅斯的這臺光刻機(jī)成本只需要 500 萬盧布（當(dāng)前約合人民幣 40 萬），要知道目前 ASML（阿斯麥）的同類光刻機(jī)動輒幾千萬甚至上億人民幣。

如果該消息屬實(shí)的話，表明俄羅斯在自主發(fā)展半導(dǎo)體技術(shù)的道路上取得了巨大突破。

此前，俄羅斯政府啟動了一項(xiàng)國家計劃，計劃到 2030 年自研出 28nm 工藝的芯片，對盡可能多的外國芯片進(jìn)行逆向工程，并培養(yǎng)本土人才從事國產(chǎn)芯片替代工作。

俄羅斯最先進(jìn)的晶圓廠只能生產(chǎn)采用 65nm 制造工藝的芯片，而且用的都是歐美的設(shè)備，隨著俄烏沖突而被封鎖。

俄羅斯科學(xué)院微結(jié)構(gòu)物理研究所副所長尼古拉·奇卡洛表示，作為光刻技術(shù)的全球領(lǐng)導(dǎo)者，ASML 已研發(fā)其 EUV 光刻系統(tǒng)近 20 年，該技術(shù)已被證明非常復(fù)雜。

而且，晶圓設(shè)備不僅限于光刻機(jī)。還需要有其他類型的設(shè)備用于執(zhí)行蝕刻、沉積、光刻膠去除、計量以及檢查操作，此外還需一些不太先進(jìn)的機(jī)器，例如超純空氣和水發(fā)生器，這些設(shè)備都來自于西方市場。

也就是說，即使俄羅斯成功制造出光刻機(jī)，仍需要數(shù)百臺設(shè)備來建造一座現(xiàn)代化晶圓廠，而目前西方已經(jīng)徹底切斷了對俄羅斯的供應(yīng)。

但無論如何，俄羅斯為了實(shí)現(xiàn)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)自主可控，首先加大了對光刻機(jī)領(lǐng)域的投入和支持，盡管目前 350nm 的工藝并不先進(jìn)，但對于戰(zhàn)時的俄羅斯已經(jīng)非常重要了，特別在意義上。

其實(shí)，去年瓦西里·什帕克在接受俄新社采訪時就表示，俄羅斯將在 2024 年生產(chǎn) 350nm 國產(chǎn)光刻機(jī)，2026 年研制出 130nm 光刻機(jī)。

“很明顯，如果不走完全程，就不可能一次性制造出薄拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)的設(shè)備，” 瓦西里·什帕克表示：“目前世界上只有兩家公司擁有這種光刻技術(shù)：荷蘭的 ASML 和日本的尼康，沒有其他公司能做到這一點(diǎn)?！?/span>

不過現(xiàn)在我們已經(jīng)踏上了這條道路，不是孤軍奮戰(zhàn)，而是與白俄羅斯人一起，中國也在朝著這個方向努力，這場競賽已經(jīng)開始！他補(bǔ)充道。

瓦西里·什帕克認(rèn)為，所有微電子器件，包括微控制器、電力電子器件、電信電路、汽車電子以及許多其他器件，因?yàn)榧夹g(shù)和成本的原因，將在未來許多年內(nèi)對 65-350nm 的工藝保持需求，而且占市場的 60%。

俄羅斯工業(yè)和貿(mào)易部并不覺得沒有掌握更先進(jìn)的工藝有什么問題，他們認(rèn)為 ≤45nm 的工藝只對處理器和存儲器有意義，而這些只占 10-15%。

對于現(xiàn)階段俄羅斯在俄烏戰(zhàn)場上持續(xù)巨大的消耗，這臺光刻機(jī)的問世不僅可以使其一定程度擺脫西方制裁，更給予了俄羅斯國內(nèi)極大的信心，未來將大幅減少對外依賴。

值得一提的是，本周彭博社引述知情人士消息稱，美國荷蘭政府人員會面時，光刻機(jī)巨頭阿斯麥（ASML）表示有能力遠(yuǎn)程癱瘓臺積電位于臺灣地區(qū)的最先進(jìn)的極紫外光刻機(jī)（EUV）。

2016 年首次研發(fā)成功以來，ASML 已向全球客戶賣出了兩百多臺 EUV 設(shè)備，其中代工龍頭臺積電最多，而且該設(shè)備需要頻繁維護(hù)，如果沒有 ASML 的備件，它們很快就會停止工作。