4月28日消息,對于中國市場而言,ASML正在全力以赴,預計2023年在中國的銷售額將保持在22億歐元左右(約合人民幣超162億元),其正在加快拓展在中國的業(yè)務和銷售。
ASML CEO Peter Wennink表示,近幾年,由于新冠疫情供應鏈停滯,芯片行業(yè)出現(xiàn)了長達多年的短缺。而現(xiàn)在,由于全球消費電子產(chǎn)品出貨量持續(xù)下降,科技行業(yè)又再次進入半導體供應過剩的窘境。
這位CEO還重申,中國是全球最大的計算機芯片市場,這就要求阿斯麥必須繼續(xù)獲得中國的市場準入權,這是絕對必要的。
他援引中國一家汽車制造商的話稱,這家汽車制造商計劃在未來三年制造大量的電動汽車,要求六七家成熟的半導體工廠為其供貨,但中國本土的芯片工廠仍處于建設之中。
“阿斯麥與中國市場的往來,無論是對阿斯麥來說,還是對中國客戶來說,都十分重要。上周,阿斯麥公布了強勁的第一季度業(yè)績,并稱其對中國的銷售額將繼續(xù)增加?!盤eter Wennink堅定的說道。
最新財報中,中國企業(yè)占阿斯麥第一季度營收的 22%,中國買家占到阿斯麥成熟芯片制造設備訂單的3成左右,較去年底占比提升了約10%。
在這之前,ASML強調,新的出口管制措施并不針對所有浸潤式光刻系統(tǒng),而只涉及所謂“最先進”的浸潤式光刻系統(tǒng)。截至目前企業(yè)尚未收到有關“最先進”的確切定義的信息,公司將其解讀為在資本市場日會議上定義的“關鍵的浸潤式光刻系統(tǒng)”,即TWINSCANNXT:2000i及后續(xù)推出的浸潤式光刻系統(tǒng)。
所謂浸沒式光刻機,屬于193nm(光源)光刻機(分為干式和浸沒式),可以被用于16nm至7nm先進制程芯片的制造,但是目前也有被業(yè)界廣泛應用在45nm及以下的成熟制程當中。
ASML公司官網(wǎng)信息顯示,該公司主流的DUV光刻機產(chǎn)品共有三款設備:TWINSCAN NXT:1980Di,TWINSCAN NXT:2000i和TWINSCAN NXT:2050i,其中2000i和2050i兩款是公司在聲明所指的產(chǎn)品。
ASML官網(wǎng)上關于這一臺TWINSCAN NXT:1980Di的介紹,其中在分辨率方面,寫到是大于等于38nm(可以支持到7nm左右),而這是指一次曝光的分辨率,事實上光刻機是可以進行多次曝光的。
理論上NXT:1980Di依然可以達到7nm,只是步驟更為復雜,成本更高,良率可能也會有損失,晶圓廠用這一臺光刻機,大多是生產(chǎn)14nm及以上工藝的芯片,很少去生產(chǎn)14nm以下的工藝,因為良率低,成本高,沒什么競爭力。