[導(dǎo)讀]新思科技近日宣布，在雙方的長期合作中，三星晶圓廠已經(jīng)通過新思科技數(shù)字和定制設(shè)計工具和流程實現(xiàn)了多次成功的測試流片，從而更好地推動三星的3納米全環(huán)繞柵極（GAA）技術(shù)被采用于對功耗、性能和面積（PPA）要求極高的應(yīng)用中。與三星SF5E工藝相比，采用三星晶圓廠SF3技術(shù)的共同客戶將實...
新思科技近日宣布，在雙方的長期合作中，三星晶圓廠已經(jīng)通過新思科技數(shù)字和定制設(shè)計工具和流程實現(xiàn)了多次成功的測試流片，從而更好地推動三星的3納米全環(huán)繞柵極（GAA）技術(shù)被采用于對功耗、性能和面積（PPA）要求極高的應(yīng)用中。與三星SF5E工藝相比，采用三星晶圓廠SF3技術(shù)的共同客戶將實現(xiàn)功耗降低約50%，性能提高約30%，面積縮小30%左右。（全球TMT）
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