（全球TMT2022年7月11日訊）7月9日，由中國(guó)集成電路創(chuàng)新聯(lián)盟（簡(jiǎn)稱"大聯(lián)盟"）主辦的"2022集成電路產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同創(chuàng)新發(fā)展交流會(huì)暨中國(guó)集成電路創(chuàng)新聯(lián)盟大會(huì)"以現(xiàn)場(chǎng)加網(wǎng)絡(luò)視頻連線全國(guó)的方式舉行。 會(huì)上舉行了"集成電路產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新獎(jiǎng)"（簡(jiǎn)稱"IC創(chuàng)新獎(jiǎng)"）頒獎(jiǎng)典禮。安集科技"銅和銅阻擋層拋光液在130nm-14nm邏輯制程的產(chǎn)業(yè)化"獲得"IC創(chuàng)新獎(jiǎng)-成果產(chǎn)業(yè)化獎(jiǎng)"。

安集科技擁有一系列具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的核心技術(shù)，核心技術(shù)權(quán)屬清晰，技術(shù)水平國(guó)際先進(jìn)或國(guó)內(nèi)領(lǐng)先，成熟并廣泛應(yīng)用于公司產(chǎn)品的批量生產(chǎn)中。核心技術(shù)的應(yīng)用主要體現(xiàn)在產(chǎn)品配方和生產(chǎn)工藝流程兩個(gè)方面。包括金屬表面氧化（催化）技術(shù)、金屬表面腐蝕抑制技術(shù)、拋光速率調(diào)節(jié)技術(shù)、化學(xué)機(jī)械拋光晶圓表面形貌控制技術(shù)、光阻清洗中金屬防腐蝕技術(shù)、化學(xué)機(jī)械拋光后表面清洗技術(shù)、光刻膠殘留物去除技術(shù)、選擇性刻蝕技術(shù)、電子級(jí)添加劑純化技術(shù)、磨料制備技術(shù)等。