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[導(dǎo)讀]據(jù)外媒報(bào)道,美國(guó)商務(wù)部正在考慮禁止美國(guó)公司向中國(guó)公司出售先進(jìn)的芯片制造設(shè)備,這將進(jìn)一步影響華虹、長(zhǎng)鑫存儲(chǔ)和長(zhǎng)江存儲(chǔ)在內(nèi)的中國(guó)芯片制造公司。

據(jù)外媒報(bào)道,近日有兩位知情人士透露,美國(guó)商務(wù)部正在考慮禁止美國(guó)公司向中國(guó)公司出售先進(jìn)的芯片制造設(shè)備。

該報(bào)道稱,這項(xiàng)新禁令將在現(xiàn)有禁令的基礎(chǔ)上,擴(kuò)大美國(guó)公司向中國(guó)芯片制造商中芯國(guó)際等公司出售半導(dǎo)體設(shè)備的限制。這將進(jìn)一步影響華虹、長(zhǎng)鑫存儲(chǔ)和長(zhǎng)江存儲(chǔ)在內(nèi)的中國(guó)芯片制造公司。該報(bào)道指出,這項(xiàng)新禁令處于早期考慮階段,可能需要幾個(gè)月時(shí)間來起草。

半導(dǎo)體設(shè)備是芯片制造的必備設(shè)備,沒有這些精密的設(shè)備,芯片根本無(wú)法制造出來。

但目前全球半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)呈現(xiàn)寡頭壟斷格局,龍頭企業(yè)以美國(guó)、日本和歐洲公司為主,前五大企業(yè)市占率超過65%,包括美企應(yīng)用材料、荷蘭企ASML、美企泛林、日企東京電子、美企科磊。

在晶圓制造設(shè)備中,光刻、刻蝕、薄膜生長(zhǎng)設(shè)備占比最高,合計(jì)市場(chǎng)占比超過70%,這三類設(shè)備也是集成電路制造的主設(shè)備;工藝過程量測(cè)設(shè)備是質(zhì)量監(jiān)測(cè)的關(guān)鍵設(shè)備,占比可達(dá)13%;其他設(shè)備占比相對(duì)較小。

各個(gè)細(xì)分領(lǐng)域的市場(chǎng)格局也不一樣,光刻機(jī)市場(chǎng)基本被阿斯麥公司壟斷;刻蝕和薄膜生長(zhǎng)市場(chǎng)主要被應(yīng)用材料、泛林半導(dǎo)體和東京電子三家寡頭占據(jù);離子注入由應(yīng)用材料和亞舍利占據(jù)大部分份額;科磊半導(dǎo)體則占據(jù)量測(cè)設(shè)備半壁江山;測(cè)試設(shè)備則有泰瑞達(dá)、愛德萬(wàn)和科休等寡頭。

好在,目前,幾乎所有領(lǐng)域均有國(guó)內(nèi)企業(yè)在尋求突破。

例如,在卡脖子的首要設(shè)備光刻機(jī)方面,可關(guān)注上海微電子,其90nm DUV光刻機(jī)通過驗(yàn)收,45nm、28nm光刻機(jī)等在研發(fā)過程中。其45nm DUV光刻機(jī)和28nm DUV光刻機(jī)在技術(shù)層面上沒有本質(zhì)差異,如有突破未來會(huì)有較大替代空間。

另一重要的設(shè)備——刻蝕設(shè)備有望成為我國(guó)率先打破壟斷的主設(shè)備,我國(guó)刻蝕設(shè)備廠商中微公司和北方華創(chuàng)在全球分別占約1.4%和0.9%的市場(chǎng)份額。

北方華創(chuàng)有8英寸和12英寸ICP刻蝕設(shè)備,應(yīng)用領(lǐng)域覆蓋IC、功率的前道,以及先進(jìn)封裝等。部分產(chǎn)品技術(shù)達(dá)到一流水平,12寸ICP刻蝕機(jī)已經(jīng)在長(zhǎng)江存儲(chǔ)等客戶通過驗(yàn)證,并批量供貨。

中微公司刻蝕設(shè)備國(guó)內(nèi)領(lǐng)先,以12寸前道設(shè)備為主。該公司以CCP技術(shù)起步,后擴(kuò)充到ICP刻蝕,目前CCP和ICP刻蝕機(jī)均有產(chǎn)品達(dá)到世界先進(jìn)水平。該公司除大陸客戶外,還在努力穩(wěn)固在臺(tái)積電和聯(lián)電的供應(yīng)商地位,有望伴隨臺(tái)積電的先進(jìn)制程發(fā)展。

同樣重要的薄膜沉積設(shè)備方面,有北方華創(chuàng)和拓荊科技。

北方華創(chuàng)在沉積領(lǐng)域PVD技術(shù)最強(qiáng),可實(shí)現(xiàn)對(duì)應(yīng)用材料設(shè)備的部分替代,產(chǎn)品批量供應(yīng)一線廠商。CVD領(lǐng)域擁有LPCVD、APCVD等技術(shù),主要是8英寸以下設(shè)備。ALD設(shè)備也有開發(fā),并實(shí)現(xiàn)少量供貨。

拓荊科技以CVD技術(shù)為主,其中PECVD開發(fā)較早也較為成熟,可實(shí)現(xiàn)對(duì)國(guó)外廠商的部分替代,產(chǎn)品進(jìn)入中芯國(guó)際、華虹、長(zhǎng)江存儲(chǔ)等一線廠商。SACVD和ALD機(jī)臺(tái)已經(jīng)開發(fā)出并少量供貨。

封裝測(cè)試設(shè)備方面,有華峰測(cè)控、長(zhǎng)川科技、精測(cè)電子等公司。華峰測(cè)控是國(guó)內(nèi)測(cè)試機(jī)領(lǐng)先企業(yè),擅長(zhǎng)模擬、數(shù)?;旌虾凸β拾雽?dǎo)體等的測(cè)試設(shè)備,在國(guó)內(nèi)封測(cè)廠份額國(guó)內(nèi)領(lǐng)先。長(zhǎng)川科技則是國(guó)內(nèi)分選機(jī)領(lǐng)先企業(yè),主要產(chǎn)品包括分選機(jī)和數(shù)?;旌蠝y(cè)試機(jī),產(chǎn)品進(jìn)入國(guó)內(nèi)三大封測(cè)廠、士蘭微等,也有部分臺(tái)灣地區(qū)客戶。精測(cè)電子旗下武漢精鴻電子研制存儲(chǔ)器測(cè)試機(jī),目前在長(zhǎng)江存儲(chǔ)有中標(biāo)設(shè)備。

整體來看,國(guó)產(chǎn)設(shè)備的空白正在被逐漸填補(bǔ),但與國(guó)外龍頭企業(yè)的技術(shù)還存在差距。但假以時(shí)日,國(guó)內(nèi)企業(yè)不斷追趕,差距必將縮小。

在美國(guó)制裁之下,國(guó)內(nèi)晶圓廠購(gòu)買國(guó)外設(shè)備的成本以及不確定性增加,眾多晶圓廠愿意優(yōu)先考慮和驗(yàn)證國(guó)產(chǎn)設(shè)備,這在過去是不可想象的,國(guó)產(chǎn)設(shè)備廠商迎來前所未有的重大發(fā)展契機(jī)。

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