光刻機(jī)(lithography)又名：掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù)，把掩膜版上的精細(xì)圖形通過光線的曝光印制到硅片上。生產(chǎn)集成電路的簡(jiǎn)要步驟：利用模版去除晶圓表面的保護(hù)膜。將晶圓浸泡在腐化劑中，失去保護(hù)膜的部分被腐蝕掉后形成電路。用純水洗凈殘留在晶圓表面的雜質(zhì)。其中曝光機(jī)就是利用紫外線通過模版去除晶圓表面的保護(hù)膜的設(shè)備。一片晶圓可以制作數(shù)十個(gè)集成電路，根據(jù)模版曝光機(jī)分為兩種：模版和晶圓大小一樣，模版不動(dòng)。模版和集成電路大小一樣，模版隨曝光機(jī)聚焦部分移動(dòng)。其中模版隨曝光機(jī)移動(dòng)的方式，模版相對(duì)曝光機(jī)中心位置不變，始終利用聚焦鏡頭中心部分能得到更高的精度。成為的主流 。

2月9日，荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥(ASML)在2021年財(cái)報(bào)中宣稱，中國(guó)企業(yè)東方晶源(Dong Fang JingYuan Electron，DFJY)正在中國(guó)積極銷售可能(could potentially)侵犯阿斯麥知識(shí)產(chǎn)權(quán)的產(chǎn)品。而阿斯麥所稱的東方晶源關(guān)聯(lián)公司XTAL，曾在2019年被美國(guó)法院判定侵犯阿斯麥知識(shí)產(chǎn)權(quán)。

觀察者網(wǎng)隨后聯(lián)系了東方晶源，對(duì)方工作人員稱暫時(shí)不方便回應(yīng)此事。而阿斯麥中國(guó)方面告訴觀察者網(wǎng)，此事與XTAL之前的侵權(quán)案有關(guān)，是年報(bào)中的正常披露。阿斯麥正在密切關(guān)注東方晶源的動(dòng)態(tài)，目前尚未準(zhǔn)備采取法律措施，但如果有確鑿證據(jù)該公司將訴諸法律。

據(jù)阿斯麥財(cái)報(bào)中披露的信息，該公司在2021年初獲悉，一家與XTAL公司有關(guān)的公司正在中國(guó)積極推銷可能侵犯阿斯麥知識(shí)產(chǎn)權(quán)的產(chǎn)品，2019年XTAL曾因在美國(guó)盜取阿斯麥的商業(yè)秘密被判定做出賠償。作為回應(yīng)，阿斯麥已經(jīng)告知客戶不要協(xié)助這家名叫“東方晶源“的中國(guó)公司從事此類潛在的侵權(quán)行為。阿斯麥還透露，該公司已向中國(guó)監(jiān)管部門告知相關(guān)信息，正在密切監(jiān)測(cè)相關(guān)情況，并準(zhǔn)備在適當(dāng)?shù)臅r(shí)機(jī)采取法律行動(dòng)。

觀察者網(wǎng)查詢發(fā)現(xiàn)，東方晶源全稱為東方晶源微電子科技(北京)有限公司，成立于2014年，總部位于北京亦莊經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)，專注于集成電路良率管理。亦莊國(guó)投曾披露，東方晶源由中國(guó)500強(qiáng)企業(yè)東方集團(tuán)投資控股，而東方集團(tuán)是一家成立于1978年的大型投資控股型民營(yíng)企業(yè)。

從具體業(yè)務(wù)來看，東方晶源主要產(chǎn)品為納米級(jí)電子束缺陷檢測(cè)裝備(EBI)和關(guān)鍵尺寸量測(cè)裝備(CD-SEM)、計(jì)算光刻產(chǎn)品(OPC)以及微電子設(shè)計(jì)與制造智能良率優(yōu)化平臺(tái)(HPOTM)。該公司稱，其產(chǎn)品均為自主研發(fā)且處于國(guó)內(nèi)領(lǐng)先水平，可以有效解決國(guó)內(nèi)集成電路產(chǎn)業(yè)多個(gè)難點(diǎn)。

而阿斯麥官網(wǎng)顯示，該公司產(chǎn)品除光刻機(jī)之外，也包括用于提高芯片良率和質(zhì)量的計(jì)算光刻，“如果沒有計(jì)算光刻，芯片制造商就不可能制造出最新的技術(shù)節(jié)點(diǎn)”。

有資深半導(dǎo)體行業(yè)人士告訴觀察者網(wǎng)，在光刻過程中，光的衍射以及感光層中的物理和化學(xué)效應(yīng)會(huì)使光刻機(jī)試圖刻出的圖像變形，因此需要計(jì)算光刻進(jìn)行校準(zhǔn)和優(yōu)化。簡(jiǎn)單來說，計(jì)算光刻類似EDA中的算法，是一種晶圓廠需要購(gòu)買的服務(wù)，如果曝光圖形跟實(shí)際掩膜(Mask)有差異，可以通過計(jì)算光刻提前修正掩膜確保得到想要的圖形。一般來說，如果晶圓廠覺得阿斯麥的計(jì)算光刻不夠好，也可以選擇第三方提供的產(chǎn)品，二者由此便會(huì)形成競(jìng)爭(zhēng)。

在全球半導(dǎo)體公司中，荷蘭的ASML公司規(guī)模不算頂尖，但它們掌握了主要的光刻機(jī)市場(chǎng)，EUV光刻機(jī)買到10億一臺(tái)都供不應(yīng)求，業(yè)績(jī)紅到發(fā)紫，這也讓ASML管理層拿獎(jiǎng)到手軟，CEO去年就拿到3500萬元的獎(jiǎng)勵(lì)。

根據(jù)ASML公司發(fā)布的信息，2021年中公司管理層獲得了超過2000萬歐元的獎(jiǎng)勵(lì)，其中最多的是CEO Peter Wennink和CTO Martin van de Brink，每人拿到了480萬歐元的薪酬，比上一年多了30萬歐元，總計(jì)約合3500萬人民幣。

CFO Roger Dassen去年的薪酬是380萬歐元，與上一年持平，還有其他兩位高管分別獲得了310萬歐元的獎(jiǎng)勵(lì)，比之前增加了20萬歐元。

管理層獲得重獎(jiǎng)跟去年的業(yè)績(jī)有關(guān)，根據(jù)ASML的數(shù)據(jù)，ASML公司實(shí)現(xiàn)凈銷售額186.11億歐元，較上一財(cái)年增長(zhǎng)33%，凈利潤(rùn)也從35.54億歐元漲至58.83億歐元，全年凈訂單額達(dá)到262.4億歐元，較去年同期翻了一倍，需求強(qiáng)烈。

2021年中，ASML出貨了EUV光刻機(jī)總計(jì)多達(dá)42套，2020年是31套，實(shí)現(xiàn)營(yíng)收63億美元，算下來平均每套EUV光刻機(jī)要1.5億歐元，折合人民幣10.8億元。

當(dāng)然，10億一臺(tái)的EUV光刻機(jī)還不是最貴的，新一代EUV光刻機(jī)也開始產(chǎn)生訂單了，據(jù)說成本高達(dá)3億美元，約合19億元。