半導(dǎo)體行業(yè)收入激增,ASML 優(yōu)化 EUV 技術(shù)欲保龍頭地位
2月9日上午消息,市場研究公司Counterpoint發(fā)布的最新報告顯示,由于 5G、物聯(lián)網(wǎng)、云計算、高性能計算、汽車芯片和其他領(lǐng)域的需求增加,預(yù)計到2030年半導(dǎo)體行業(yè)收入將達(dá)到1萬億美元左右。隨著技術(shù)節(jié)點縮小,DUV(深紫外)和EUV(極紫外)光刻系統(tǒng)被廣泛用于硅晶圓制作。預(yù)計2021年國產(chǎn)半導(dǎo)體公司的利潤總計將會達(dá)到195.26億人民幣,比去年同期約增長153%。其中士蘭微、東芯半導(dǎo)體、北京君正的利潤增長超過10倍,多家半導(dǎo)體公司利潤增長超過兩倍。
利潤最高的公司為韋爾股份,伴隨著市場對汽車、安防等領(lǐng)域圖像傳感器需求增長及公司在相關(guān)領(lǐng)域市場份額的提升,公司圖像傳感器解決方案業(yè)績實現(xiàn)了持續(xù)增長。公司觸控與顯示解決方案在本報告期內(nèi)隨著公司TDDI新產(chǎn)品的推出及客戶的進(jìn)一步拓展,觸控與顯示解決方案業(yè)務(wù)也為公司帶來了新的利潤增長點。韋爾股份通過不斷整合各業(yè)務(wù)體系及產(chǎn)品線,充分發(fā)揮各業(yè)務(wù)體系的協(xié)同效應(yīng),使得公司的持續(xù)盈利能力穩(wěn)步提升。韋爾股份預(yù)計2021年全年利潤在44.68~48.68億,同比增長65.13%~79.91%。
兆易創(chuàng)新表示2021年,終端智能化需求和供應(yīng)鏈本土化趨勢越發(fā)明顯,公司產(chǎn)品市場需求持續(xù)旺盛,公司把握住機(jī)遇,圍繞市場和客戶需求,積極開拓新市場、新客戶,優(yōu)化產(chǎn)品和客戶結(jié)構(gòu),工業(yè)等領(lǐng)域營收貢獻(xiàn)增加;同時公司持續(xù)加大研發(fā)力度,不斷完善產(chǎn)品線,積累產(chǎn)品和技術(shù)優(yōu)勢,進(jìn)一步提升核心競爭力。在供應(yīng)端,公司推進(jìn)供應(yīng)鏈多元化布局,積極應(yīng)對供應(yīng)短缺,為業(yè)績增長提供有力產(chǎn)能保障。
華潤微則表示公司業(yè)績的增長主要原因是公司充分發(fā)揮IDM模式優(yōu)勢,加強(qiáng)產(chǎn)品業(yè)務(wù),提升公司核心技術(shù)研發(fā)能力,繼續(xù)鞏固國內(nèi)功率半導(dǎo)體領(lǐng)域的領(lǐng)先地位。2021年公司接到的訂單比較飽滿,整體產(chǎn)能利用率較高,整體業(yè)績明顯好于去年同期。
士蘭微的財報凈利潤增長2145%,扣非凈利潤增長可能達(dá)到40倍。對此士蘭微表示公司在白電、通訊、工業(yè)、光伏、新能源汽車等高門檻市場取得突破;電源管理芯片、MEMS2/2傳感器、IPM(智能功率模塊)、MOSFET、IGBT、SBD、TVS、FRD、LED等產(chǎn)品的營業(yè)收入大幅增長,產(chǎn)品結(jié)構(gòu)持續(xù)優(yōu)化,產(chǎn)品綜合毛利率顯著改善,營業(yè)利潤大幅度增加。
北京君正也預(yù)告扣非凈利潤將有37倍到45倍的增長。北京君正對于2021年業(yè)績的增長解釋為:隨著汽車智能化的不斷發(fā)展和汽車終端市場需求旺盛的拉動,公司在汽車電子領(lǐng)域的銷售收入持續(xù)增長;同時,公司在工業(yè)、醫(yī)療、通訊、消費等領(lǐng)域的銷售收入亦實現(xiàn)了較好的同比增長。公司各產(chǎn)品線需求旺盛,導(dǎo)致公司總體營業(yè)收入較去年同比增長,從而帶動了公司凈利潤的大幅增長。
2 月 9 日消息,據(jù) Counterpoint 報道,2021 年全球半導(dǎo)體行業(yè)總銷售額創(chuàng)下 5500 億美元的新紀(jì)錄,隨著芯片市場需求的增加,荷蘭光刻機(jī)巨頭 ASML 公司作為芯片制造關(guān)鍵設(shè)備制造商,儼然成為最大幕后贏家。
EUV 技術(shù)是目前先進(jìn)光刻機(jī)用到的主要技術(shù)之一,ASML 公司目前在這一技術(shù)領(lǐng)域處于壟斷地位,2022 年預(yù)計交付約 60 套 EUV 光刻機(jī),實現(xiàn)快速出貨,填補(bǔ)疫情下的芯片缺口。
近日,ASML 公司公布了 2021 財年第四季度業(yè)績,其中凈銷售額同比增長 35%,毛利率創(chuàng)下歷史新高,達(dá)到 52.7%,其中 EUV(極紫外線)光刻機(jī)銷售額達(dá)到 63 億歐元(約合人民幣 458 億元)。
為應(yīng)對技術(shù)節(jié)點的縮小,該公司還在大力投資 High-NA(高數(shù)值孔徑)光刻機(jī),預(yù)計 2023 年出貨 5 套型號為 EXE:5000 的 High-NA 光刻機(jī)。
2021 年,全球半導(dǎo)體行業(yè)總銷售額達(dá)到創(chuàng)紀(jì)錄的 5500 億美元,Counterpoint 表示,由于 5G、物聯(lián)網(wǎng)、云計算、高性能計算、汽車芯片和其他領(lǐng)域需求的增加,預(yù)計到 2030 年,半導(dǎo)體行業(yè)總收入將達(dá)到 1 萬億美元。
光刻技術(shù)是目前芯片生產(chǎn)的核心工藝,其中,EUV 技術(shù)被認(rèn)為是當(dāng)前生產(chǎn)芯片的最佳工藝,,ASML 公司作為光刻系統(tǒng)行業(yè)的領(lǐng)導(dǎo)者,能憑借對先進(jìn) EUV 技術(shù)的大量投資和在 EUV 技術(shù)方面的壟斷地位,以及在老式光刻系統(tǒng)產(chǎn)品線中的主導(dǎo)地位,在未來繼續(xù)獲得較高市場估值。
ASML 公司表示該公司已經(jīng)對 High-NA 光刻機(jī)進(jìn)行了大量投資,High-NA 光刻機(jī)是 EUV 光刻機(jī)的進(jìn)一步優(yōu)化,該公司的目標(biāo)是使其能夠?qū)崿F(xiàn) 3nm 芯片的生產(chǎn)。目前,該公司已經(jīng)收到五個 EXE:5000 型號(High-NA 產(chǎn)品型號)的訂單,各光學(xué)掩模、光刻膠供應(yīng)商之間正在密切協(xié)作,預(yù)計在 2023 年完成出貨。2024 年,AMSL 還將推出 EXE:5200 型號,這是該公司下一代預(yù)計大批量生產(chǎn)的 High-NA 光刻機(jī)。
此外,ASML 公司稱,2022 年至 2026 年,該公司凈銷售額同比增長將達(dá)到 20% 左右,這部分的增長將主要通過 High-NA 光刻機(jī)的 EUV 設(shè)備銷售來實現(xiàn),到 2025 年,High-NA 光刻機(jī)將被大規(guī)模用于 DRAM 芯片(Dynamic Random Access Memory)的生產(chǎn)。