Virtuoso

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如何大幅提升Virtuoso仿真效率？正確答案在此，快來抄作業(yè)！

這是我們EDA云實證的第四期。本期實證的主角是——Virtuoso。半導體行業(yè)中使用范圍最廣的EDA應用之一。1991年Virtuoso技術正式發(fā)布，最初作為掩模設計師的版圖工具，是Opus平臺的一部分，主要功能包括電路設計與仿真、版圖設計、設計驗證，以及模擬／數(shù)字混合設計等。近...

全棧芯片工程師
2021-11-11

仿真 Virtuoso
全新Cadence Virtuoso系統(tǒng)設計平臺幫助實現(xiàn)IC、封裝和電路板無縫集成的設計流程

該解決方案結合Virtuoso平臺與Allegro及Sigrity技術，進一步簡化設計流程，大幅提高設計效率，縮短設計周期

電子設計自動化
2017-06-12

cadence virtuoso
Cadence發(fā)布7納米工藝Virtuoso先進工藝節(jié)點擴展平臺

下一代定制設計平臺大幅提升先進工藝生產(chǎn)力楷登電子(美國Cadence公司)今日正式發(fā)布針對7nm工藝的全新Virtuoso® 先進工藝節(jié)點平臺。通過與采用7nm FinFET工藝的早期客

嵌入式動態(tài)
2017-04-18

cadence virtuoso 技術前沿 7nm
Cadence采用全新可支持電學感知設計的Virtuoso版圖套件

【中國，2013年7月15日】—— 全球電子設計創(chuàng)新領先企業(yè)Cadence設計系統(tǒng)公司(NASDAQ:CDNS) 今天宣布推出用于實現(xiàn)電學感知設計的Virtuoso®版圖套件，它是一種

嵌入式硬件
2014-07-11

工程師 MDASH CADENCE VIRTUOSO
Cadence物理驗證系統(tǒng)通過GF 65nm至14nm FinFET制程認證

重點：· 認證確保精確性方面不受影響，并包含用于65納米至14納米FinFET制程的物理驗證簽收的先進技術· 雙方共同的客戶可通過它與Cadence Virtuoso及Encounter平臺的無縫集成進行版圖設計和驗證版圖21

電子設計自動化
2014-03-13

CADENCE FINFET VIRTUOSO 65NM
臺積電16nm FinFET參考流程納入Cadence設計工具

益華電腦(Cadence Design Systems)宣布，其數(shù)位、客制與 signoff 工具已經(jīng)實現(xiàn)了創(chuàng)新的方法，讓客戶能夠享受晶圓代工大廠臺積電(TSMC)具備臺積公司更高效能、更低功耗與更小面積等優(yōu)勢的 16nm FinFET 制程。臺積電

模擬
2013-10-02

臺積電 CADENCE FINFET VIRTUOSO
搶攻FinFET設計商機　益華發(fā)布新Virtuoso平臺

益華(Cadence)針對28奈米以下制程及鰭式場效電晶體(FinFET)制程發(fā)布最新版Virtuoso布局(Layout)設計套件，該套件具備電子意識設計(Electrically Aware Design, EAD)功能，可以協(xié)助行動裝置積體電路(IC)設計商縮短產(chǎn)品

消費電子
2013-07-17

工程師晶片 FINFET VIRTUOSO
Cadence采用全新Virtuoso版圖套件大幅加快芯片設計

摘要：· Cadence 可支持電學感知設計(EAD)的版圖套件，(EAD)在版圖繪制過程中可實現(xiàn)實時寄生參數(shù)提取，從而為工程師們節(jié)省從數(shù)天到數(shù)周不等的設計時間。· 新產(chǎn)品和方法學減少了進行多次設計反復和&ldq

電子設計自動化
2013-07-17

工程師芯片設計 CADENCE VIRTUOSO
搶攻FinFET設計商機　益華發(fā)布新Virtuoso平臺

益華(Cadence)針對28奈米以下制程及鰭式場效電晶體(FinFET)制程發(fā)布最新版Virtuoso布局(Layout)設計套件，該套件具備電子意識設計(Electrically Aware Design, EAD)功能，

嵌入式動態(tài)
2013-07-16

工程師晶片 FINFET VIRTUOSO
臺積電TSMC擴大與Cadence在Virtuoso定制設計平臺的合作

臺積電創(chuàng)建和交付本質為基于SKILL語言的設計套件（PDKs），為客戶提供最佳的用戶體驗和最高水準的精確度。世界領先的晶圓代工廠部署Virtuoso平臺用于先進節(jié)點的定制設計需要，涵蓋16納米FinFET設計。主要工具包括Vir

模擬
2013-07-16

臺積電 CADENCE TSMC VIRTUOSO
Cadence推出用于實現(xiàn)電學感知設計的Virtuoso®版圖套件

21ic訊 Cadence設計系統(tǒng)公司今天宣布推出用于實現(xiàn)電學感知設計的Virtuoso®版圖套件，它是一種開創(chuàng)性的定制設計方法，能提高設計團隊的設計生產(chǎn)力和定制IC的電路性能。這是一種獨特的在設計中實現(xiàn)電學驗證功能，

電子設計自動化
2013-07-16

工程師 MIDDOT CADENCE VIRTUOSO
臺積電TSMC擴大與Cadence在Virtuoso定制設計平臺的合作

臺積電創(chuàng)建和交付本質為基于SKILL語言的設計套件(PDKs)，為客戶提供最佳的用戶體驗和最高水準的精確度。世界領先的晶圓代工廠部署Virtuoso平臺用于先進節(jié)點的定制設計需要，涵蓋16納米FinFET設計。主要工具包括Virt

電子設計自動化
2013-07-16

臺積電 CADENCE TSMC VIRTUOSO
臺積電TSMC擴大與Cadence在Virtuoso定制設計平臺的合作

為專注于解決先進節(jié)點設計的日益復雜性，全球電子設計創(chuàng)新領先企業(yè)Cadence設計系統(tǒng)公司(NASDAQ:CDNS) 日前宣布，臺積電已與Cadence在Virtuoso定制和模擬設計平臺擴大合作以設計和驗證其尖端IP。此外，臺積電還將擴展

消費電子
2013-07-11

臺積電 CADENCE TSMC VIRTUOSO
臺積電擴大與Cadence定制設計平臺的合作

臺積電創(chuàng)建和交付本質為基于SKILL語言的設計套件(PDKs)，為客戶提供最佳的用戶體驗和最高水準的精確度。世界領先的晶圓代工廠部署Virtuoso平臺用于先進節(jié)點的定制設計需要，涵蓋16納米FinFET設計。主要工具包括Virt

消費電子
2013-07-11

臺積電 PD CADENCE VIRTUOSO
臺積電擴大與Cadence定制設計平臺的合作

臺積電創(chuàng)建和交付本質為基于SKILL語言的設計套件(PDKs)，為客戶提供最佳的用戶體驗和最高水準的精確度。世界領先的晶圓代工廠部署Virtuoso平臺用于先進節(jié)點的定制設計需要，涵蓋16納米FinFET設計。主要工具包括Virt

電子設計自動化
2013-07-10

臺積電 PD CADENCE VIRTUOSO
臺積電TSMC擴大與Cadence在Virtuoso定制設計平臺的合作

為專注于解決先進節(jié)點設計的日益復雜性，Cadence設計系統(tǒng)公司日前宣布，臺積電已與Cadence在Virtuoso定制和模擬設計平臺擴大合作以設計和驗證其尖端IP。此外，臺積電還將擴展其純正以本質為基于SKILL語言的的工藝流程

廠商動態(tài)
2013-07-10

臺積電 CADENCE TSMC VIRTUOSO
臺積電選用益華Virtuoso/Encounter平臺

益華電腦(Cadence)宣布臺積電已選用益華解決方案，適用于20奈米設計基礎架構，其解決方案涵蓋Virtuoso客制/類比與Encounter RTL-to-Signoff平臺。益華晶片實現(xiàn)事業(yè)群資深副總裁徐季平表示，益華一直與臺積電和雙方的

模擬
2012-10-31

臺積電 COUNTER RTL VIRTUOSO
Cadence解決方案被TSMC選為其20納米設計架構

Cadence設計系統(tǒng)公司日前宣布TSMC已選擇Cadence解決方案作為其20納米的設計架構。Cadence解決方案包括Virtuoso定制/模擬以及Encounter RTL-to-Signoff平臺。TSMC 20納米參考流程在Encounter和Virtuoso平臺上吸收了新

電子設計自動化
2012-10-23

CADENCE TSMC COUNTER VIRTUOSO
TSMC選擇使用Cadence的Virtuoso和Encounter平臺

全球電子設計創(chuàng)新領先企業(yè)Cadence設計系統(tǒng)公司（NASDAQ: CDNS）今天宣布TSMC已選擇Cadence?解決方案作為其20納米的設計架構。Cadence?解決方案包括Virtuoso?定制/模擬以及Encounter? RTL-to-Signoff平臺。 TSMC

模擬
2012-10-19

CADENCE TSMC COUNTER VIRTUOSO
Cadence助力Denso大幅提升IC設計效率

Cadence設計系統(tǒng)公司日前宣布，汽車零部件生產(chǎn)商Denso公司在改用了Cadence定制/模擬與數(shù)字流程之后，在低功耗混合信號IC設計方面實現(xiàn)了質量與效率的大幅提升。將Cadence Encounter RTL-to-GDSII流程應用于設計的數(shù)字

消費電子
2012-09-05

IC設計 CADENCE COUNTER VIRTUOSO

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Virtuoso

如何大幅提升Virtuoso仿真效率？正確答案在此，快來抄作業(yè)！

全新Cadence Virtuoso系統(tǒng)設計平臺幫助實現(xiàn)IC、封裝和電路板無縫集成的設計流程

Cadence發(fā)布7納米工藝Virtuoso先進工藝節(jié)點擴展平臺

Cadence采用全新可支持電學感知設計的Virtuoso版圖套件

Cadence物理驗證系統(tǒng)通過GF 65nm至14nm FinFET制程認證

臺積電16nm FinFET參考流程納入Cadence設計工具

搶攻FinFET設計商機　益華發(fā)布新Virtuoso平臺

Cadence采用全新Virtuoso版圖套件大幅加快芯片設計

搶攻FinFET設計商機　益華發(fā)布新Virtuoso平臺

臺積電TSMC擴大與Cadence在Virtuoso定制設計平臺的合作

Cadence推出用于實現(xiàn)電學感知設計的Virtuoso®版圖套件

臺積電TSMC擴大與Cadence在Virtuoso定制設計平臺的合作

臺積電TSMC擴大與Cadence在Virtuoso定制設計平臺的合作

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