光掩模基版是一種硬面光掩模材料,即光掩膜基版,它是當(dāng)前及未來(lái)微細(xì)加工光掩膜制作的主流感光材料(相當(dāng)于照相用的感光膠卷)。它是在平整的、高光潔度的玻璃基版上通過(guò)直流磁控濺射(SP)沉積上氮化鉻-氮氧化鉻薄膜而形成鉻膜基版,再在其上涂敷一層光致抗蝕劑(又稱(chēng)光刻膠)或電子束抗蝕劑制成勻膠鉻版。光掩模基版有以下幾種叫法:勻膠鉻版,光掩模基版、空白光罩、拽英文的話(huà)就叫做Maskblanks)
光掩模屬于高端半導(dǎo)體材料,在光刻環(huán)節(jié),利用掩膜版上已設(shè)計(jì)好的圖案,通過(guò)透光與非透光的方式進(jìn)行圖像復(fù)制,從而實(shí)現(xiàn)批量生產(chǎn),其功能類(lèi)似相機(jī)“底片”,占據(jù)全球晶圓制造材料的12%,根據(jù)2020年晶圓制造市場(chǎng)規(guī)模349億美元測(cè)算,全球半導(dǎo)體光掩模市場(chǎng)規(guī)模在41.9億美元左右。