近日以來,芯片技術封鎖的相關話題熱度一直不減。據(jù)外媒消息報道,美國正在考慮是否將中國最大的芯片制造商中芯國際列入貿(mào)易黑名單,以加大對中企的打擊力度。 華為消費者業(yè)務CEO余承東也曾表示,華為沒辦法生產(chǎn)芯片,在全球化過程中只做了設計是教訓。
魏少軍表示,在國際形勢加速“國產(chǎn)替代”需求背景下,國內(nèi)半導體產(chǎn)業(yè)受到市場追捧并非好現(xiàn)象,呼吁投資者應理性投資,不要過度追求短期利益。他指出,國內(nèi)半導體產(chǎn)業(yè)要健康發(fā)展,資金和技術缺一不可,且突圍之法不必過度關注光刻機和EDA... 投資者應理性看待
魏少軍表示,在國際形勢加速“國產(chǎn)替代”需求背景下,國內(nèi)半導體產(chǎn)業(yè)受到市場追捧并非好現(xiàn)象,呼吁投資者應理性投資,不要過度追求短期利益。他指出,國內(nèi)半導體產(chǎn)業(yè)要健康發(fā)展,資金和技術缺一不可,且突圍之法不必過度關注光刻機和EDA...
臺積電最近舉行了年度技術研討會,在會上透露了大量關于未來芯片制造業(yè)務的信息。其中包括關于臺積電先進工藝節(jié)點的新細節(jié),比如 N5、N4、N3 和 N12e。
隨著近年來芯片行業(yè)的快速發(fā)展,大眾對于光刻機的關注度越來越高。 媒體和廠商也更加頻繁地使用“7nm光刻機”這樣的關鍵詞來進行宣傳。但事實是:從來就沒有什么救世主,也沒有7nm光刻機。 7nm只是一種工藝的代號,它和光刻機本身是不掛鉤的。按照一般人的理解7nm光刻機就是指能制作7nm工藝的光刻機,這個命名方式乍看起來很合理,實際上漏洞百出。
圖源 | 深交所互動易 8月24日消息,英唐智控在互動平臺表示,先鋒微技術自有的生產(chǎn)設備中包含有日本產(chǎn)的光刻機設備,其收購事項已經(jīng)獲得日本政府批準。 據(jù)了解,先鋒微技術光刻機主要用于模擬芯片的制造。關于該光刻機項目是否會與華為合作時,英唐智控回應稱
ASML作為全世界最先進的光刻機制造企業(yè),全球高端芯片幾乎都來自于ASML,壟斷了全球的光刻機市場。臺積電能在芯片領域遙遙領先就是因為有ASML的光刻機供應。
據(jù)財新網(wǎng)報道,武漢市東西湖區(qū)人民政府官方發(fā)布《上半年東西湖區(qū)投資建設領域經(jīng)濟運行分析》報告,其中正式對外宣告了武漢弘芯半導體制造有限公司(HSMC,下稱武漢弘芯)的危機。
8月24日消息,英唐智控在互動平臺表示,先鋒微技術自有的生產(chǎn)設備中包含有日本產(chǎn)的光刻機設備,其收購事項已經(jīng)獲得日本政府批準。 據(jù)了解,先鋒微技術光刻機主要用于模擬芯片的制造。關于該光刻機項目是否會與華為合作時,英唐智控回應稱,在滿足其自身生產(chǎn)研發(fā)需要的前提下,不排除向具備條件的其他客戶提供產(chǎn)能支持,但公司目前尚未啟動該類型的合作。
在進入20nm節(jié)點之后,內(nèi)存工業(yè)也面臨著CPU工藝一樣的制造難題,微縮越來越困難,制造工藝復雜,導致內(nèi)存成本居高不下。如今7nm以下的處理器用上了EUV光刻機,內(nèi)存很快也要跟進了,SK海力士計劃在韓國
今年5月15日,美國針對華為推出了新的出口管制措施,禁止華為使用美國的EDA軟件來設計芯片,同時晶圓代工廠也無法使用美國的半導體設備來為華為生產(chǎn)芯片。因此,華為的芯片設計和芯片制造都陷入了巨大的困境。
7 月 15 日消息,據(jù)國外媒體報道,在處理器等各類芯片的制造過程中,光刻機至關重要,目前芯片制造工藝已提升到了 5nm,只有光刻機制造商阿斯麥的極紫外光刻機能滿足這一先進工藝的要求。阿斯麥極紫外光刻
EUV光刻機是制造7nm以下節(jié)點先進工藝的必備工具,目前國內(nèi)還沒有EUV設備。作為國內(nèi)最先進的晶圓代工廠,中芯國際董事長周子學日前表態(tài),該公司已經(jīng)量產(chǎn)和研發(fā)的工藝還不需要EUV光刻機。 光刻是半導體芯
物聯(lián)網(wǎng)智庫在今年5月18日的華為公司第十七屆全球分析師大會上,華為輪值董事長郭平表示,求生存,是華為現(xiàn)在的主題詞。在美國政府的咄咄逼人下,華為顯然急需謀求破局。是否要進軍光刻機制造或者半導體設備領域,或許華為還在謹慎考量。這幾天,關于華為要進軍光刻機的消息刷屏微博和微信朋友圈。縱...
近日,華為在遭受美國第二輪制裁后,直接被切斷了自研芯片供應鏈,臺積電已經(jīng)確認9月14日后不再為華為供應芯片。
EUV光刻機是一項技術奇跡。 一臺發(fā)生器每秒噴射出5萬個微小的熔錫液滴,高功率激光對每個液滴進行兩次爆破,第一次可以使錫成形,第二次是使錫蒸發(fā)成等離子體。 等離子體發(fā)出極紫外光輻射,這種輻射聚集成光束
作為半導體芯片生產(chǎn)過程中最重要的裝備,光刻機一直牽動人心,制程工藝越先進就要離不開先進光刻機。ASML副總裁Anthony Yen日前表態(tài),如果沒有EUV光刻機,那么芯片廠商是造不出7nm以下工藝芯片
資料來源:知乎、大數(shù)據(jù)文摘、傳感器技術等 物聯(lián)網(wǎng)智庫,整理發(fā)布, 轉(zhuǎn)載請注明來源和出處。 導? 讀 中國苦“芯”久矣!中國慕“光刻機”亦久矣!如果我們真的在核心技術領域取得了重大進展,那確實值得大書特書,大力報道;但如果夸大其實,自我高潮,那只能
消息來源:驅(qū)動之家 EUV(極紫外光刻)光刻機是7nm以下節(jié)點制程工藝必備的,但目前來說國內(nèi)還沒有使用EUV設備。 日前在回應投資者提問時,中芯國際董事長兼執(zhí)行董事周子學表示, 關于設備采購公司依據(jù)相關商業(yè)協(xié)議進行,不對單一設備的采購情況進行評論。公司
最近半導體產(chǎn)業(yè),仍保持強勢上漲行情。芯片半導體的國產(chǎn)替代化,需要幾年,甚至十幾年的時間完成,國內(nèi)每年進口的芯片超3000億美元,位居各行業(yè)之首,加上美國貿(mào)易戰(zhàn)對核心科技的封鎖,需要我們走出一條自己的芯片路。雖然目前和頂級的芯片商,差距還很大,但相信中國的企業(yè)能夾縫求存發(fā)展,加大科研投入,實現(xiàn)芯片國產(chǎn)替代化。