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[導(dǎo)讀]資料來源:知乎、大數(shù)據(jù)文摘、傳感器技術(shù)等 物聯(lián)網(wǎng)智庫,整理發(fā)布, 轉(zhuǎn)載請注明來源和出處。 導(dǎo)? 讀 中國苦“芯”久矣!中國慕“光刻機(jī)”亦久矣!如果我們真的在核心技術(shù)領(lǐng)域取得了重大進(jìn)展,那確實(shí)值得大書特書,大力報(bào)道;但如果夸大其實(shí),自我高潮,那只能

資料來源:知乎、大數(shù)據(jù)文摘、傳感器技術(shù)等

物聯(lián)網(wǎng)智庫,整理發(fā)布, 轉(zhuǎn)載請注明來源和出處。


導(dǎo)  讀



中國苦“芯”久矣!中國慕“光刻機(jī)”亦久矣!如果我們真的在核心技術(shù)領(lǐng)域取得了重大進(jìn)展,那確實(shí)值得大書特書,大力報(bào)道;但如果夸大其實(shí),自我高潮,那只能是誤導(dǎo)群眾,貽笑大方。



面對美帝的接連制裁和打壓,許多科技圈從業(yè)者現(xiàn)實(shí)中還沒被魚刺卡過喉嚨,卻已在精神上飽嘗如鯁在喉的痛苦。


在眾多“魚刺”中,芯片無疑是扎得最深的那一根,而光刻機(jī)則是阻隔這根刺頭被拔出的主要障礙之一。

在媒體的狂轟亂炸之下,即使從事的是和芯片八竿子打不著邊兒的行業(yè),恐怕也會(huì)對光刻機(jī)略知一二。簡單來說,半導(dǎo)體芯片制造分為 IC 設(shè)計(jì)、 IC 制造、 IC 封測三大環(huán)節(jié), 光刻作為 IC 制造的核心環(huán)節(jié),其工作原理可以被理解為“蘿卜雕花”,只不過是在硅片上雕,主要作用是將掩模版上的芯片電路圖轉(zhuǎn)移到硅片上。 由于光刻的工藝水平直接決定芯片的制程水平和性能水平,光刻成為 IC 制造中最復(fù)雜、最關(guān)鍵的工藝步驟, 光刻的核心設(shè)備——光刻機(jī)更是被譽(yù)為半導(dǎo)體工業(yè)皇冠上的明珠。

“得不到的永遠(yuǎn)在騷動(dòng)”,因?yàn)樘^渴望,和光刻機(jī)有關(guān)的任何風(fēng)吹草動(dòng)往往都會(huì)成為大新聞。就在前幾天,有2則和光刻相關(guān)的消息呈現(xiàn)刷屏之勢:其一是“中科院發(fā)布5nm激光光刻技術(shù)”,被部分媒體解讀為“中國芯取得歷史性突破”、“荷蘭ASML將被我們?nèi)〈ˋSML笑笑表示不說話)”;其二是“95后本科生低成本DIY納米級光刻機(jī)”,該名學(xué)生則被冠以“真正的后浪”、“中國芯片行業(yè)未來的希望”等稱號。

誠然,中國苦“芯”久矣!中國慕“光刻機(jī)”亦久矣! 如果我們真的在核心技術(shù)領(lǐng)域取得了重大進(jìn)展,那確實(shí)值得大書特書,大力報(bào)道;但如果夸大其實(shí),自我高潮,那只能是誤導(dǎo)群眾,貽笑大方。


5nm激光光刻研究進(jìn)展≠光刻機(jī)進(jìn)展

近日,中國科學(xué)院蘇州納米技術(shù)與納米仿生研究所研究員張子旸與國家納米中心研究員劉前合作,在Nano Letters上發(fā)表了題為5 nm Nanogap Electrodes and Arrays by a Super-resolution Laser Lithography(DOI: 10.1021/acs.nanolett.0c00978)的研究論文,報(bào)道了一種新型5nm超高精度激光光刻加工方法。

為什么說是新型呢?因?yàn)楹商mASML公司是全球唯一能生產(chǎn)EUV光刻機(jī)的公司,他們之前表態(tài)7nm以下工藝都需要EUV光刻機(jī)才行。現(xiàn)在中科院蘇州納米所的團(tuán)隊(duì)開發(fā)了一種不需要使用EUV技術(shù)就可以制備出5nm特征線寬的激光光刻技術(shù)。


據(jù)悉,半導(dǎo)體光刻最重要的指標(biāo)是光刻分辨率,它跟波長及數(shù)值孔徑NA有關(guān),波長越短、NA越大,光刻精度就越高,EUV光刻機(jī)就是從之前193nm波長變成了13.5nm波長的EUV極紫外光,而NA指標(biāo)要看物鏡系統(tǒng),ASML在這方面靠的是德國蔡司的NA=0.33的物鏡,下一代才回到NA=0.55的水平。


中科院蘇州所聯(lián)合國家納米中心開展的這項(xiàng)研究有所不同,在無機(jī)鈦膜光刻膠上,采用雙激光束(波長為405 nm)交疊技術(shù),通過精確控制能量密度及步長,實(shí)現(xiàn)了1/55衍射極限的突破(NA=0.9),達(dá)到了最小5nm的特征線寬。


此外,該研究使用了研究團(tuán)隊(duì)開發(fā)的具有完全知識產(chǎn)權(quán)的激光直寫設(shè)備,利用激光與物質(zhì)的非線性相互作用來提高加工分辨率,有別于傳統(tǒng)的縮短激光波長或增大數(shù)值孔徑的技術(shù)路徑,打破了傳統(tǒng)激光直寫技術(shù)中受體材料為有機(jī)光刻膠的限制,可使用多種受體材料,擴(kuò)展了激光直寫的應(yīng)用場景。

首先需要明確的是,中科院5nm光刻技術(shù)的成功,確實(shí)是值得肯定、鼓舞人心的好事情。但如果就此得出“中國已經(jīng)彎道超車ASML”、“我們將取代荷蘭的ASML光刻機(jī)”、“ASML的EUV光刻機(jī)將變成白菜價(jià)”之類的結(jié)論,那就是偷換概念、歪曲事實(shí)了。

一位業(yè)內(nèi)人士強(qiáng)調(diào):“該文章中并沒有提到5nm是用于芯片制造,而是研究團(tuán)隊(duì)利用激光直寫技術(shù),實(shí)現(xiàn)了納米狹縫電極陣列結(jié)構(gòu)的規(guī)模生產(chǎn)。狹縫電極是光電子器件的基礎(chǔ)元件,并非是集成電路。能生產(chǎn)零件和能把復(fù)雜的電路功能融合,兩者之間存在著很大的差距。這個(gè)類似中科院去年發(fā)表文章稱,實(shí)現(xiàn)了2nm晶體管的設(shè)計(jì),但被部分媒體說成了2nm芯片。雖然都是2nm,可是完全不是一個(gè)概念?!?br style="max-width: 100%;box-sizing: border-box !important;overflow-wrap: break-word !important;">

另外,即使該技術(shù)未來可被用于芯片制造,但實(shí)驗(yàn)室技術(shù)和工業(yè)量產(chǎn)之間也隔著十萬八千里的距離。另一位業(yè)內(nèi)人士表示:“中科院的5nm激光光刻技術(shù)目前僅僅局限于實(shí)驗(yàn)室小規(guī)模小批量的進(jìn)行實(shí)驗(yàn),不論是光刻的面積還是光刻的速度,都要比目前工業(yè)應(yīng)用的光刻機(jī)弱很多,想要實(shí)現(xiàn)大規(guī)模批量的生產(chǎn),要等到這項(xiàng)技術(shù)必須完全成熟了才有可能實(shí)現(xiàn)。至于這種5nm激光光刻技術(shù)什么時(shí)候能夠?qū)崿F(xiàn)量產(chǎn),我們不得而知,但從光刻機(jī)研發(fā)的歷史以及技術(shù)的晉級難度來看,這種光刻技術(shù)想要實(shí)現(xiàn)量產(chǎn),我認(rèn)為至少需要5年時(shí)間以上甚至更長。”

我國的光刻機(jī)為何難以突破,因?yàn)椴粌H僅是局限于激光光刻加工方法,還包括各種零部件的桎梏。荷蘭ASML公司CEO曾經(jīng)表示,不擔(dān)心把高端光刻機(jī)賣給中國,中國會(huì)因此復(fù)制出高端光刻機(jī)。因?yàn)锳SML制造的高端光刻機(jī)涉及到很多精密零部件,其中90%都是對外采購的,這也使得光刻機(jī)很難被復(fù)制出來。像德國蔡司的光學(xué)鏡頭、美國的激光發(fā)生器等,就讓ASML制造的光刻機(jī),在光學(xué)技術(shù)上獲得了世界領(lǐng)先。

只有認(rèn)清現(xiàn)實(shí),才能更好地腳踏實(shí)地。

低成本DIY納米級光刻機(jī)可還行?

和中科院5nm激光光刻技術(shù)被大肆報(bào)道的差不多同一時(shí)期,一個(gè)95后本科生也在圈內(nèi)火了~

援引媒體“大數(shù)據(jù)文摘”的報(bào)道:一位大連理工大學(xué)化工學(xué)院的Up主彭譯鋒,竟然憑著一張圖紙給成功在家里搭建了納米級光刻機(jī),還成功光刻出~75微米(75000納米)的孔徑。
              
令人感到吃驚的是,這位同學(xué)還在讀本科,整個(gè)制造過程都是在一間超簡陋的小書桌上完成的,全部數(shù)學(xué)演算全靠一張白板,所有的材料都堆放在桌上地上,簡直就是“家居實(shí)驗(yàn)室模范”。
               
Up主地址如下:
彭同學(xué)在視頻中表示,他制造光刻機(jī)的圖紙來自自己西安電子科技大學(xué)的同學(xué),圖紙大概長下圖這個(gè)樣子。彭同學(xué)也正是憑借著這張圖紙,完整復(fù)刻了整臺納米級光刻機(jī)。


他目前的研究成果花了大概半年自己琢磨出來的,最早的興趣來自高中的時(shí)候,那個(gè)時(shí)候還沒有視頻和資料,但是他就是想自研芯片。

其實(shí),這個(gè)事兒本來挺好,本科生自己DIY,對動(dòng)手能力和工程能力都是極好的鍛煉,學(xué)校也應(yīng)該積極倡導(dǎo)。但壞就壞在這事兒被鼓吹過頭,非得拿光刻機(jī)做新聞,就引起許多真正半導(dǎo)體行業(yè)從業(yè)者的不滿了。

知乎網(wǎng)友Hellc 質(zhì)疑:“明明是個(gè)類光刻機(jī)的DIY設(shè)計(jì),媒體為什么要重點(diǎn)突出光刻機(jī)?明明是微米為什么要強(qiáng)行說成納米?”


知乎網(wǎng)友一倍速 同樣表示:“這個(gè)東西根本不是光刻機(jī),而是一個(gè)激光雕刻工作臺。光刻是不會(huì)直接在材料上腐蝕的。所謂光刻,正如字面意思所述,是去刻蝕,但是賓語不是硅片,而是光刻膠膜,是將光刻膠膜中的一部分變化,用特殊的化學(xué)試劑清洗時(shí),被光照的部分和不被光照的部分。一個(gè)被溶解,一個(gè)不被溶解。這個(gè)步驟叫做顯影,之后會(huì)用刻蝕液進(jìn)行圖案的刻蝕。也就是說在半導(dǎo)體工藝流程中,要想在一個(gè)片子上做圖案,應(yīng)該是光刻+顯影+刻蝕。而報(bào)道中是光刻+顯影,真的就拿光去刻了......”


結(jié)語

一個(gè)有意思的現(xiàn)象是,所有在這2篇相關(guān)報(bào)道下面提出質(zhì)疑的人都無一例外的被或多或少的人噴了。大意是說“這個(gè)時(shí)候你還潑冷水,是不是中國人”;“鍵盤俠,你行你上啊”!

需要強(qiáng)調(diào)的是,很多人的質(zhì)疑并不是針對中科院的技術(shù)和彭同學(xué)的行為本身,而是針對媒體為了博取噱頭而故意“捧殺”的做法。 希望自己的國家強(qiáng)大是人之常情,但過度的鼓吹只會(huì)讓中國本就普及不好的微電子基本知識雪上加霜,也會(huì)造成輿論的混亂......

路漫漫其修遠(yuǎn)兮,我們依然要艱苦奮斗、上下求索。


引用資料:
1.《95后up主低成本DIY納米級光刻機(jī)!一圖紙一書桌研究半年,挑戰(zhàn)芯片制造最難環(huán)節(jié)》,大數(shù)據(jù)文摘,笪潔瓊
2.《中科院研發(fā)新型激光光刻技術(shù):不用EUV 直擊5nm》,傳感器技術(shù)
3.《媒體稱中科院實(shí)現(xiàn)5nm芯片光刻機(jī),傳到美國那里就是“笑話”》
4.知乎話題《如何看待‘本科生自制光刻機(jī)’這一報(bào)道?有哪些意義和局限性》

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