IGZO技術是近來半導體顯示市場最熱門的技術，不過由于其在成膜過程中存在對氫氣敏感、膜質均勻性要求高等特點，大規(guī)模生產過程中存在成品率較低的問題。近日，半導體設備大廠應用材料推出適用于IGZO金屬氧化物薄膜生產的PVD和PECVD設備，促進IGZO新型顯示屏的大規(guī)模量產實施。

　　IGZO成市場新熱點

市場對顯示屏的需求越來越高：屏幕尺寸不斷擴大，今年智能手機5英寸屏幕逐漸成為主流，明年有望過渡到6.3英寸；分辨率越來越高，電視從高清到超高清，甚至出現(xiàn)4K、8K電視；此外OLED電視、柔性顯示等話題也不斷被炒熱。

要實現(xiàn)上述性能，未來顯示技術必將從傳統(tǒng)的非晶硅顯示轉到金屬氧化物技術或低溫多晶硅技術之上。不過，隨著薄膜晶體管越來越小，玻璃基板尺寸越來越大，能否形成均勻的IGZO膜質，對成品率至關重要。

為順應市場需求，半導體及顯示設備制造商應用材料公司日前推出了適用于IGZO金屬氧化物薄膜生產的AppliedAKT-PiVot55K/25kDTPVD和AppliedAKT55KSPECVD。應材表示，設備及工藝所提供的膜質均勻性和微粒控制性能可為客戶實現(xiàn)IGZO新型顯示屏大規(guī)模生產提供保障。

　　旋轉耙材有利良率提升

針對AKT-PiVotDTPVD設備(55K用于2200mm×2500mm的玻璃基板，25K用于1500mm×1850mm的玻璃基板)應用材料PVD產品事業(yè)部總經理約翰·布什表示，之所以能夠實現(xiàn)良好的膜質均勻性，與設備采用的旋轉靶材及等離子搖擺控制機能相關。首先，旋轉耙材的采用可以在耙材旋轉過程中，不停地通過冷卻水，使整個耙材表面的冷卻效果更好，達到溫度的均勻性，進而成就比較高的成膜速度。其次，可以大大提高耙材的利用率，與平面耙材相比，旋轉耙材的耙材利用率可以達到80%。再次，旋轉耙材可實現(xiàn)氣體均勻分布，IGZO屬于反應式濺射，耙材不斷旋轉，不斷接受濺射材料，耙材表面可以保持光滑，不會有小結瘤產生，保障膜質的均勻性，減少缺陷面板的形成。最后，旋轉耙材還有自清潔功能，平面耙材總會有些區(qū)域不被濺射到，這樣就會造成有些區(qū)域存在殘留物，而旋轉耙材不斷旋轉，所有表面都會得到利用。此外，旋轉耙材還有一個磁極搖擺功能，即通過磁極的搖擺控制等離子體的濺射方向，實現(xiàn)等離子轟擊的均勻性，從而實現(xiàn)膜質的均勻性。

針對AKT55KSPECVD設備(用于2200mm×2500mm的玻璃基板)，應用材料CVD產品事業(yè)部肖勁松表示，氫氣是影響IGZO沉積的雜質氣體，對其十分敏感，設備采用了新型二氧化硅(SiO2)工藝作為金屬氧化物晶體管沉積電介質界面，最大限度地減少氫氣雜質，提高晶體管的長期穩(wěn)定性并優(yōu)化顯示屏性能。

應用材料公司副總裁兼顯示事業(yè)部總經理謝思源表示，中國顯示市場十分廣闊，在全球市場中扮演著舉足輕重的地位。無論是智能手機還是平板電腦，都占有很大份額，智能手機和電視均占全球份額的22%。而且中國相對其他地區(qū)更容易接受新技術產品，智能電視的市場滲透率達43%，3DTV的市場滲透率為40%?？梢哉f，現(xiàn)在中國引領著全球平板顯示設備的投資。