4月29日消息，通過正在進行的與IBM的項目合作，凸版印刷（Toppan Printing）公司宣布已經(jīng)開發(fā)了用于32nm和28nm節(jié)點光學掩模的新的制造工藝。Toppan表示，在日本Asaka制造的光學掩模與IBM在Essex Junction工廠的掩模完全兼容，且得到了IBM的認證。

IBM和Toppan去年宣布在32nm光學掩模工藝和22nm所有的掩模工藝上進行開發(fā)合作。Toppan在2005年就開始與IBM合作攻克45nm節(jié)點。目前的工作包括支持22nm源掩模最優(yōu)化（SMO）的專門的掩模，Toppan表示。SMO是將光照源和掩模同時進行最優(yōu)化，并被看作是實現(xiàn)22nm以及更高節(jié)點的沉浸式光刻的可行方法。

Toppan表示通過與IBM合作的技術(shù)財產(chǎn)積累，該公司計劃在2011年開始SMO光掩模的批量生產(chǎn)。

（編輯：曾聰）