據(jù)海外媒體消息，臺積電的光刻機供貨商Mapper公司已將300mm光刻設備交貨日延期近三個月之久。Mapper的多束電子束（e-beam）光刻機原計劃于今年第一季度裝備臺積電300m m工廠，但由于技術上的原因Mapper公司拖延了交貨日期，此舉可能對臺積電的制程研發(fā)進度造成一定的影響。

據(jù)了解，臺積電CEO蔡力行曾稱臺積電已在與合作伙伴聯(lián)合開發(fā)22nm及更高規(guī)格制程用多束e-beam光刻技術，以便公司盡早實現(xiàn)向32nm制程的轉換。

據(jù)悉，2008年十月份，臺積電與Mapper公司簽署了一份供貨協(xié)議，根據(jù)這份協(xié)議，Mapper將為臺積電制造30 0mm多束e-beam光刻設備用于制程開發(fā)，并為該公司提供光刻原型機。