據(jù)海外媒體消息，臺(tái)積電的光刻機(jī)供貨商Mapper公司已將300mm光刻設(shè)備交貨日延期近三個(gè)月之久。Mapper的多束電子束（e-beam）光刻機(jī)原計(jì)劃于今年第一季度裝備臺(tái)積電300m m工廠，但由于技術(shù)上的原因Mapper公司拖延了交貨日期，此舉可能對(duì)臺(tái)積電的制程研發(fā)進(jìn)度造成一定的影響。

據(jù)了解，臺(tái)積電CEO蔡力行曾稱臺(tái)積電已在與合作伙伴聯(lián)合開發(fā)22nm及更高規(guī)格制程用多束e-beam光刻技術(shù)，以便公司盡早實(shí)現(xiàn)向32nm制程的轉(zhuǎn)換。

據(jù)悉，2008年十月份，臺(tái)積電與Mapper公司簽署了一份供貨協(xié)議，根據(jù)這份協(xié)議，Mapper將為臺(tái)積電制造30 0mm多束e-beam光刻設(shè)備用于制程開發(fā)，并為該公司提供光刻原型機(jī)。