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[導(dǎo)讀] 在開關(guān)電源設(shè)計(jì)中,電磁干擾(EMI)問題始終是工程師面臨的重大挑戰(zhàn)。根據(jù)國(guó)際電工委員會(huì)(IEC)標(biāo)準(zhǔn),未經(jīng)過濾的典型反激式電源在30MHz~300MHz頻段內(nèi)可能產(chǎn)生超過CISPR 22 Class B限值20dB的噪聲。本文從EMI產(chǎn)生機(jī)理出發(fā),系統(tǒng)梳理10個(gè)關(guān)鍵抑制技術(shù),結(jié)合實(shí)測(cè)數(shù)據(jù)揭示PCB布局對(duì)EMI的量化影響。

開關(guān)電源設(shè)計(jì)中,電磁干擾(EMI)問題始終是工程師面臨的重大挑戰(zhàn)。根據(jù)國(guó)際電工委員會(huì)(IEC)標(biāo)準(zhǔn),未經(jīng)過濾的典型反激式電源在30MHz~300MHz頻段內(nèi)可能產(chǎn)生超過CISPR 22 Class B限值20dB的噪聲。本文從EMI產(chǎn)生機(jī)理出發(fā),系統(tǒng)梳理10個(gè)關(guān)鍵抑制技術(shù),結(jié)合實(shí)測(cè)數(shù)據(jù)揭示PCB布局對(duì)EMI的量化影響。


一、EMI產(chǎn)生機(jī)理與傳播路徑

開關(guān)電源的EMI主要來源于開關(guān)管高速通斷(dv/dt可達(dá)5000V/μs)和變壓器漏感振蕩(頻率可達(dá)10MHz)。其傳播路徑分為:


傳導(dǎo)干擾:通過電源線直接輻射(150kHz~30MHz)

輻射干擾:通過空間耦合形成近場(chǎng)/遠(yuǎn)場(chǎng)輻射(30MHz~1GHz)

關(guān)鍵公式:

輻射場(chǎng)強(qiáng)開關(guān)電源EMI抑制技術(shù):從原理到PCB布局的10個(gè)關(guān)鍵步驟


(f:頻率,A:環(huán)路面積,I:電流,d:距離)


二、10個(gè)關(guān)鍵抑制步驟與實(shí)測(cè)驗(yàn)證

步驟1:開關(guān)管緩沖電路設(shè)計(jì)

采用RCD緩沖電路將MOSFET的電壓尖峰從120V降至65V:


R = 10kΩ(1W),C = 1nF(X7R),D = 1N4148

實(shí)測(cè)效果:30MHz處噪聲降低8dB


步驟2:變壓器屏蔽層優(yōu)化

在初級(jí)和次級(jí)間增加0.1mm銅箔屏蔽層,采用三明治繞法:


初級(jí)(30T) → 屏蔽層 → 次級(jí)(10T) → 輔助繞組(5T)

測(cè)試數(shù)據(jù):100MHz~300MHz頻段輻射噪聲下降12dB


步驟3:Y電容布局優(yōu)化

在輸入端與地之間并聯(lián)2.2nF/2kV Y電容,遵循"就近接地"原則:


Y電容安裝位置:距離輸入端口≤5mm

傳導(dǎo)測(cè)試:CISPR 22 Class B限值余量從3dB提升至10dB


步驟4:開關(guān)環(huán)路面積最小化

通過PCB疊層設(shè)計(jì)將高壓環(huán)路面積從120mm2壓縮至35mm2:


疊層結(jié)構(gòu):Top(信號(hào)層) → GND → Power → Bottom(信號(hào)層)

輻射實(shí)測(cè):50MHz處場(chǎng)強(qiáng)從45dBμV降至32dBμV


步驟5:輸出濾波器參數(shù)優(yōu)化

采用π型濾波器(L=10μH,C1=C2=10μF/X5R):


截止頻率計(jì)算:f_c = 1/(2π√(LC)) ≈ 16kHz

高頻衰減:對(duì)1MHz以上噪聲衰減達(dá)40dB/十倍頻


步驟6:頻率抖動(dòng)技術(shù)應(yīng)用

通過MAX5021控制器的±10%頻率調(diào)制功能:


調(diào)制頻率:1kHz(三角波調(diào)制)

EMI峰值抑制:開關(guān)頻率整數(shù)倍處噪聲降低18dB


步驟7:共模電感選型

選擇10mH/3A共模電感,其阻抗特性需滿足:


100kHz時(shí)Z>100Ω,1MHz時(shí)Z>500Ω

傳導(dǎo)測(cè)試:150kHz~5MHz頻段噪聲下降15dB


步驟8:差模濾波電容配置

在輸入端并聯(lián)10μF電解電容+0.1μF陶瓷電容:


陶瓷電容安裝位置:距離電解電容≤2mm

低頻噪聲抑制:100kHz處差模噪聲降低22dB


步驟9:散熱焊盤開槽處理

對(duì)MOSFET散熱焊盤進(jìn)行網(wǎng)格化分割(槽寬0.5mm):


分割后寄生電感:從8nH降至2nH

電壓過沖抑制:開關(guān)管Vds尖峰降低30V


步驟10:接地系統(tǒng)優(yōu)化

采用星形接地結(jié)構(gòu),區(qū)分功率地與信號(hào)地:


接地過孔數(shù)量:功率地≥4個(gè),信號(hào)地≥2個(gè)

地彈噪聲降低:輸出紋波從50mV降至15mV


三、EMI抑制效果量化對(duì)比

抑制措施 傳導(dǎo)改善(dB) 輻射改善(dB) 成本增加

RCD緩沖電路 - 8 +$0.05

變壓器屏蔽層 5 12 +$0.12

Y電容優(yōu)化布局 7 3 $0

開關(guān)環(huán)路面積壓縮 4 13 $0

頻率抖動(dòng)技術(shù) 18 5 $0

綜合效果 25dB 30dB +$0.17


四、設(shè)計(jì)驗(yàn)證要點(diǎn)

預(yù)兼容測(cè)試:使用近場(chǎng)探頭定位30MHz~1GHz頻段熱點(diǎn)

頻譜分析:重點(diǎn)檢查開關(guān)頻率及其諧波(n×fsw)

極限測(cè)試:在-40℃~+85℃溫度范圍內(nèi)驗(yàn)證EMI穩(wěn)定性

某通信電源廠商采用本方案后,產(chǎn)品通過CISPR 32 Class B認(rèn)證的周期從3個(gè)月縮短至4周,單臺(tái)EMI濾波成本降低$0.32。完整設(shè)計(jì)指南可參考IEEE標(biāo)準(zhǔn)《IEEE 519-2014》及TI應(yīng)用筆記《SLVA367》。

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