1月7日消息，Intel官方宣布，位于俄勒岡州的晶圓廠已經(jīng)收到ASML發(fā)貨的全球第一臺(tái)高NA(數(shù)值孔徑) EUV極紫外光刻機(jī)，型號(hào)為“Twinscan EXE:5000”，它將幫助Intel繼續(xù)推進(jìn)摩爾定律。

Intel早在2018年就向ASML訂購(gòu)了這種新一代光刻機(jī)，將用于計(jì)劃今年量產(chǎn)的Intel 18A制造工藝，也就是1.8nm級(jí)別。

Intel還第一個(gè)下單了改進(jìn)型的Twinscan EXE:5200，將在2025-2026年用于更先進(jìn)工藝。

根據(jù)此前報(bào)道，ASML將在2024年生產(chǎn)最多10臺(tái)新一代高NA EUV光刻機(jī)，其中Intel就定了多達(dá)6臺(tái)。

到了2027-2028年，ASML每年都能生產(chǎn)20臺(tái)左右的高NA EUV光刻機(jī)。

新光刻機(jī)的價(jià)格估計(jì)至少3億美元，甚至可能達(dá)到或超過4億美元，也就是逼近人民幣30億元，而現(xiàn)有低NA EUV光刻機(jī)需要2億美元左右。