據(jù)報(bào)道，在半導(dǎo)體工藝進(jìn)入7nm節(jié)點(diǎn)之后，EUV光刻機(jī)是少不了的關(guān)鍵設(shè)備，目前只有ASML能制造，單臺(tái)售價(jià)10億人民幣，今年底還會(huì)迎來(lái)下一代EUV光刻機(jī)，價(jià)格也會(huì)大漲。

光刻機(jī)的分辨率越高，越有利于制造更小的晶體管，而分辨率也跟光刻機(jī)物鏡的NA數(shù)值孔徑有直接關(guān)系，目前的EUV光刻機(jī)是NA=0.33技術(shù)的，下代EUV光刻機(jī)則是提升到NA=0.55。

根據(jù)ASML公司高管日前透露的消息，NA=0.55的EUV光刻機(jī)今年底會(huì)出貨首個(gè)商用原型，2025年會(huì)正式量產(chǎn)。

他沒(méi)有公布具體哪家公司會(huì)首發(fā)NA=0.55光刻機(jī)，但之前英特爾公司表示他們會(huì)率先使用下代EUV光刻機(jī)，已經(jīng)巨資提前下單。

按照2025年出貨的時(shí)間點(diǎn)來(lái)看，臺(tái)積電、英特爾、三星的2nm級(jí)別工藝是趕不上的，最快也要到1.4nm工藝才能用上NA=0.55光刻機(jī)，未來(lái)生產(chǎn)1nm工藝則是不可少的設(shè)備。

伴隨技術(shù)提升的還有售價(jià)，由于更加復(fù)雜、精密，NA=0.55的EUV光刻機(jī)價(jià)格大幅上漲，具體多少不確定，此前消息稱(chēng)不低于4億美元，人民幣接近30億元了，是現(xiàn)在的2-3倍。

這還不排除未來(lái)正式商用的時(shí)候價(jià)格進(jìn)一步上漲，畢竟還要好幾年才能上市。